本文主要研究内容
作者阳志强,李宏,郭忠达（2019）在《蓝宝石磁流变化学机械抛光工艺研究》一文中研究指出：针对超光滑平面蓝宝石衬底片存在亚表层损伤的问题,文中利用磁流变抛光技术进行蓝宝石衬底片抛光以满足现有生产需要,研究了磁流变抛光中抛光压力、抛光盘转速、工件盘转速及抛光液温度等工艺参数对C向蓝宝石衬底片表面粗糙度和去除率的影响。采用正交实验方法获得了一组最佳工艺参数为:抛光压力为25 kg,抛光盘转速为40 r·min-1,工件盘转速为20 r·min-1,抛光液温度为38℃。研究结果表明:蓝宝石抛光后最优表面粗糙度Ra为0.31 nm,去除率达到2.68μm·h-1。
Abstract
zhen dui chao guang hua ping mian lan bao dan chen de pian cun zai ya biao ceng sun shang de wen ti ,wen zhong li yong ci liu bian pao guang ji shu jin hang lan bao dan chen de pian pao guang yi man zu xian you sheng chan xu yao ,yan jiu le ci liu bian pao guang zhong pao guang ya li 、pao guang pan zhuai su 、gong jian pan zhuai su ji pao guang ye wen du deng gong yi can shu dui Cxiang lan bao dan chen de pian biao mian cu cao du he qu chu lv de ying xiang 。cai yong zheng jiao shi yan fang fa huo de le yi zu zui jia gong yi can shu wei :pao guang ya li wei 25 kg,pao guang pan zhuai su wei 40 r·min-1,gong jian pan zhuai su wei 20 r·min-1,pao guang ye wen du wei 38℃。yan jiu jie guo biao ming :lan bao dan pao guang hou zui you biao mian cu cao du Rawei 0.31 nm,qu chu lv da dao 2.68μm·h-1。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自西安工业大学学报的阳志强,李宏,郭忠达，发表于刊物西安工业大学学报2019年03期论文，是一篇关于流变抛光论文,蓝宝石论文,化学机械抛光论文,表面粗糙度论文,去除率论文,西安工业大学学报2019年03期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自西安工业大学学报2019年03期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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