本文主要研究内容
作者朱宇杰,马景灵,王广欣,秦聪慧（2019）在《HIPIMS技术制备CrN及CrAlN涂层的性能》一文中研究指出：用高能脉冲靶和双极脉冲靶共溅射的方式,采用高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)在高速钢基片(W18Cr4V)上制备了CrN涂层和CrAlN涂层((H+B)CrN、(H+B)CrAlN);同时采用第四代电弧离子镀技术(ARC evaporators)在高速钢基片上制备了CrN涂层和CrAlN涂层(ARC CrN、ARC CrAlN)。采用划痕试验、X射线衍射、扫描电镜和电化学腐蚀测试等研究了涂层的形貌和性能。结果表明:共溅射制备的涂层膜基结合力更强,临界载荷最高可达到72.2 N,表面晶粒更细小,缺陷少,横截面组织致密;同时该方法制备的CrAlN((H+B)CrAlN)涂层的高温抗氧化性能最佳;共溅射制备的涂层的耐腐蚀性能比电弧离子镀制备的涂层更好。
Abstract
yong gao neng mai chong ba he shuang ji mai chong ba gong jian she de fang shi ,cai yong gao gong lv mai chong ci kong jian she ji shu (HIPIMS)zai gao su gang ji pian (W18Cr4V)shang zhi bei le CrNtu ceng he CrAlNtu ceng ((H+B)CrN、(H+B)CrAlN);tong shi cai yong di si dai dian hu li zi du ji shu (ARC evaporators)zai gao su gang ji pian shang zhi bei le CrNtu ceng he CrAlNtu ceng (ARC CrN、ARC CrAlN)。cai yong hua hen shi yan 、Xshe xian yan she 、sao miao dian jing he dian hua xue fu shi ce shi deng yan jiu le tu ceng de xing mao he xing neng 。jie guo biao ming :gong jian she zhi bei de tu ceng mo ji jie ge li geng jiang ,lin jie zai he zui gao ke da dao 72.2 N,biao mian jing li geng xi xiao ,que xian shao ,heng jie mian zu zhi zhi mi ;tong shi gai fang fa zhi bei de CrAlN((H+B)CrAlN)tu ceng de gao wen kang yang hua xing neng zui jia ;gong jian she zhi bei de tu ceng de nai fu shi xing neng bi dian hu li zi du zhi bei de tu ceng geng hao 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料热处理学报的朱宇杰,马景灵,王广欣,秦聪慧，发表于刊物材料热处理学报2019年04期论文，是一篇关于高功率脉冲磁控溅射技术论文,共溅射论文,膜基结合力论文,耐腐蚀性论文,材料热处理学报2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料热处理学报2019年04期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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