本文主要研究内容
作者程奕天,邱万奇,周克崧,刘仲武,焦东玲,钟喜春,张辉（2019）在《低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜》一文中研究指出：低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al+15wt%α-Al2O3为靶材,用射频磁控溅射在Si（100）基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射（GIXRD）、透射电子显微镜（TEM）、能谱仪（EDS）对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究,用纳米压痕技术测量薄膜硬度。结果表明,在550℃的基体温度下,反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相α-Al2O3薄膜。靶中的α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核,在550℃及以上的基体温度下可抑制γ相形核,促进α-Al2O3晶核同质外延生长,并最终形成单相α-Al2O3薄膜。
Abstract
di wen chen ji α-Al2O3bao mo shi ta zhan ji shi ji gong cheng ying yong de guan jian 。ben yan jiu yi Al、α-Al2O3he Al+15wt%α-Al2O3wei ba cai ,yong she pin ci kong jian she zai Si（100）ji ti shang chen ji yang hua lv bao mo 。yong lve ru she Xshe xian yan she （GIXRD）、tou she dian zi xian wei jing （TEM）、neng pu yi （EDS）dui suo chen ji bao mo de xiang jie gou he yuan su han liang jin hang yan jiu ,yong na mi ya hen ji shu ce liang bao mo ying du 。jie guo biao ming ,zai 550℃de ji ti wen du xia ,fan ying she pin ci kong jian she Al+α-Al2O3ba ke huo de chan xiang α-Al2O3bao mo 。ba zhong de α-Al2O3jian she zhi ji pian biao mian neng you xian xing cheng α-Al2O3jing he ,zai 550℃ji yi shang de ji ti wen du xia ke yi zhi γxiang xing he ,cu jin α-Al2O3jing he tong zhi wai yan sheng chang ,bing zui zhong xing cheng chan xiang α-Al2O3bao mo 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自无机材料学报的程奕天,邱万奇,周克崧,刘仲武,焦东玲,钟喜春,张辉，发表于刊物无机材料学报2019年08期论文，是一篇关于反应溅射论文,复合靶论文,低温沉积论文,纳米压痕论文,无机材料学报2019年08期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自无机材料学报2019年08期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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