本文主要研究内容
作者董明雪（2019）在《电子束辅助电化学制备光波导及特性研究》一文中研究指出：集成光路具有体积小、集成度高、性能稳定等优势,相较于集成电路有更好的信息传输和处理能力,发展前景广阔。光波导作为集成光路最基本的元件,其制备方法的研究仍具有极大价值。本文在研究中,采用时域有限差分法FDTD(Finite Difference Time Domain)软件模拟了线型磷化铟(InP)基波导的导波模式,模拟结果为单模输出。采用电子束光刻技术在InP衬底上制备图形作为电化学刻蚀多孔波导结构的掩模。采用控制变量法分别研究了电化学刻蚀过程中电流密度、掩模图形和刻蚀时间对形成多孔结构的影响。实验结果表明:电流密度可以影响多孔结构表面形成的孔隙的大小和刻蚀深度;掩模图形可以诱导多孔结构的分布;刻蚀时间可以控制刻蚀的深度。对电化学刻蚀得到的多孔结构进行反射率测试,结果表明:多孔结构InP在入射波长大于900 nm时反射率明显升高;多孔结构InP具有良好的反射特性;多孔结构InP的反射率在一定范围内随平均孔隙增大而增大。搭建端面耦合测试系统,对电化学刻蚀形成的多孔波导结构进行测试,结果表明:多孔结构导波模式均为单模。对电化学刻蚀形成的长度为500μm的多孔波导结构分别进行插入损耗测试,损耗均小于10dB。
Abstract
ji cheng guang lu ju you ti ji xiao 、ji cheng du gao 、xing neng wen ding deng you shi ,xiang jiao yu ji cheng dian lu you geng hao de xin xi chuan shu he chu li neng li ,fa zhan qian jing an kuo 。guang bo dao zuo wei ji cheng guang lu zui ji ben de yuan jian ,ji zhi bei fang fa de yan jiu reng ju you ji da jia zhi 。ben wen zai yan jiu zhong ,cai yong shi yu you xian cha fen fa FDTD(Finite Difference Time Domain)ruan jian mo ni le xian xing lin hua yin (InP)ji bo dao de dao bo mo shi ,mo ni jie guo wei chan mo shu chu 。cai yong dian zi shu guang ke ji shu zai InPchen de shang zhi bei tu xing zuo wei dian hua xue ke shi duo kong bo dao jie gou de yan mo 。cai yong kong zhi bian liang fa fen bie yan jiu le dian hua xue ke shi guo cheng zhong dian liu mi du 、yan mo tu xing he ke shi shi jian dui xing cheng duo kong jie gou de ying xiang 。shi yan jie guo biao ming :dian liu mi du ke yi ying xiang duo kong jie gou biao mian xing cheng de kong xi de da xiao he ke shi shen du ;yan mo tu xing ke yi you dao duo kong jie gou de fen bu ;ke shi shi jian ke yi kong zhi ke shi de shen du 。dui dian hua xue ke shi de dao de duo kong jie gou jin hang fan she lv ce shi ,jie guo biao ming :duo kong jie gou InPzai ru she bo chang da yu 900 nmshi fan she lv ming xian sheng gao ;duo kong jie gou InPju you liang hao de fan she te xing ;duo kong jie gou InPde fan she lv zai yi ding fan wei nei sui ping jun kong xi zeng da er zeng da 。da jian duan mian ou ge ce shi ji tong ,dui dian hua xue ke shi xing cheng de duo kong bo dao jie gou jin hang ce shi ,jie guo biao ming :duo kong jie gou dao bo mo shi jun wei chan mo 。dui dian hua xue ke shi xing cheng de chang du wei 500μmde duo kong bo dao jie gou fen bie jin hang cha ru sun hao ce shi ,sun hao jun xiao yu 10dB。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自长春理工大学的董明雪，发表于刊物长春理工大学2019-10-23论文，是一篇关于电子束光刻论文,电化学刻蚀论文,光波导论文,特性分析论文,长春理工大学2019-10-23论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自长春理工大学2019-10-23论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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