导读:本文包含了光学光刻论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:浸没式光刻机,光学干涉式光栅编码器,位移测量
光学光刻论文文献综述
王磊杰,张鸣,朱煜,叶伟楠,杨富中[1]（2019）在《面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述》一文中研究指出超精密平面光栅编码器位移测量技术是32～7nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位探测方案、分辨率增强光路方案、离轴/转角允差光路方案、死程误差抑制光路方案的综述分析,提出了现有设计方案面向光刻机应用所需要解决的关键问题。面向亚纳米级测量精度的需求,针对光栅编码器的仪器误差,对周期非线性误差、死程误差、热漂移误差和波前畸变误差进行了综述分析,提出了平面光栅编码器实现亚纳米精度所需要解决的关键问题。本综述为光刻机专用超精密平面光栅编码器的研制提供了参考。(本文来源于《光学精密工程》期刊2019年09期）
李杰,林妩媚,廖志杰[2]（2019）在《NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化》一文中研究指出为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。(本文来源于《应用光学》期刊2019年04期）
唐志方[3]（2019）在《基于DMD的数字光刻光学系统的研究》一文中研究指出光刻技术作为加工半导体器件的核心技术,经历了接触光刻到扫描光刻的发展历程,由于制作成本过高,如何降低成本并探索新的光刻技术成为了研究热点。基于数字微镜器件(Digital Micromirror Device,DMD)的数字光刻技术,使用DMD代替掩膜版,每次光刻时不需要针对光刻图形制造掩膜版,从而降低光刻的制造成本,能够实现实时、高效率的光刻加工,提高光刻技术的灵活性。通过对DMD数字光刻系统工作原理的研究,确立其光学系统由照明系统、分光系统、投影系统叁部分组成。照明系统使用复眼透镜作为的匀束及整形器件,以405nm波长的高斯光源作为模拟光源,设计了将不均匀的圆形斑整形为均匀的方形斑照明系统,使用9点采样法对均匀度进行测量,模拟均匀度可达97.6%。根据DMD的工作特性,设计叁块全反射棱镜以实现DMD的“开”“关”态光束分离。设计的全反射棱镜可将照明光路与投影光路采用垂直连接的方式进行投影光刻,更便于两者在集成时机械结构的设计,继承并完善DMD型分光棱镜的设计理论。将设计结果代入光学软件模拟,模拟并验证棱镜与照明系统衔接后可实现DMD“开”“关”态光束的分离。为了得到更大的光刻幅面,设计了一款将0.9英寸大小的DMD放大10-14倍的定焦变倍镜头,该镜头为像方远心系统,由9片球面镜组成,工作波长为385nm~415nm,焦距为50mm,F数为3,镜头总长为150mm。通过分别调整镜头的物距和相对应的像距,可满足高精度,小幅面;低精度,大幅面的光刻需求。通过调制传递函数、点列图及场曲畸变等指标对像质进行评价,证明成像质量满足设计要求。对成像系统进行了公差分析,在满足成像需求基础上,具备实际可加工性。通过对设计的镜头进行实际检测与整套数字光刻系统进行组装,验证并实现数字光刻。(本文来源于《长春理工大学》期刊2019-05-01）
孙彦杰,刘华,李金环,陆子凤,张莹[4]（2019）在《自由曲面光学透镜平滑DMD扫描光刻图形边缘》一文中研究指出数字微镜阵列扫描曝光图形在某些方向的边缘存在约一个像素的锯齿,对此设计自由曲面光学透镜,将其安装在距离数字微镜阵列窗口玻璃1mm附近,使微镜阵列成像线性错位,在保持原有线宽和光刻效率的情况下,平滑曝光图形边缘.理论分析了微镜阵列成像线性错位形式及其表达式.根据物像映射原理,用Matlab软件计算出自由曲面光学透镜面形初始数据,通过Zemax软件优化得到理想透镜模型,模拟了安装该透镜模型前后曝光图形效果.结果表明:在±2μm容差范围内,安装该透镜且曝光总能量为原来的0.9倍时,曝光图形的横线边缘锯齿由0.14个像素缩小至0～0.01个像素,斜线边缘锯齿由0.338个像素缩小至0.110～0.125个像素,且线长变化范围为-0.153～0.05个像素,线宽变化范围为-0.058～0.153个像素,变形范围不影响10～30μm pcb板的制作精度.该方法可同时提高能量利用率,降低光源成本.(本文来源于《光子学报》期刊2019年04期）
毕丹丹,张立超,时光[5]（2018）在《浸没式光刻投影物镜光学薄膜》一文中研究指出深紫外光刻是目前集成电路制造的主流方法,为实现更小的元件特征尺寸,必须采用浸没式投影物镜以提高光学系统的分辨率,由此向其中的薄膜光学元件提出了众多苛刻的要求。本文介绍了适用于浸没式光刻系统的薄膜材料及膜系设计,以及高NA光学系统所需的大角度保偏膜系;对物镜中最关键的浸液薄膜的液体环境适应性、疏水及防污染等关键问题进行了讨论;对衡量浸没式光刻系统性能的重要因素镀膜元件激光辐照寿命,尤其是浸液环境下的元件辐照寿命进行了分析。(本文来源于《中国光学》期刊2018年05期）
毕丹丹[6]（2018）在《浸没式光刻投影物镜光学薄膜技术研究》一文中研究指出在半导体技术中,为增加器件集成度,需要按照摩尔定律不断推进到新的工艺节点,其核心问题在于如何提升光刻分辨率。在主流工艺波长固定在193nm,工艺因子已经缩小到极限的情况下,只能通过将物镜最后一片元件浸液以提高NA值。通过物镜浸液,可以使投影物镜的NA值增大到1.3~1.4,满足十几纳米光刻技术节点的要求,但应用物镜浸液技术使得相应的光学设计与制造面临更多苛刻的技术难题。而物镜中的薄膜光学元件,更面临着光学指标的实现、浸液环境的适应、激光辐照寿命的保障等问题。本论文为解决上述问题,对以下几个方面进行了研究:1、大角度保偏膜系设计及制备。通过极低折射率(193nm处折射率1.18)材料与传统PVD材料结合的方法,设计出一种减反膜系,在0~70°入射范围,反射率小于1.1%,偏振分离小于0.16%;同时,增加了满足浸液环境要求的减反膜系的设计:将SiO_2作为最外层材料,并通过对可调折射率膜层的合理制备,实现0~70°入射,膜系的反射率小于0.2%,偏振分离小于0.08%。此外,采用溶胶-凝胶技术,制备出折射率为1.28的超低折射率膜层;采用混合材料,提高了大曲率镀膜元件光学性能的一致性,抑制了偏振像差。2、浸液元件光学薄膜寿命研究。第一,结合常温工况浸泡实验和高温加速浸泡实验,筛选出适合浸液环境的薄膜材料。通过实验分析,目前,采用PVD方法制备的SiO_2膜层具有长期稳定性,并且,在实验前后,SiO_2膜层为最外层的膜系的光学性能没有明显变化;第二,采用溶胶-凝胶法方法,制备出致密的SiO_2薄膜,并通过对其表面疏水修饰,使其表面接触角达到110°,从而实现元件疏水性能。第叁,对具有疏水性能的SiO_2膜层进行浸液环境实验,验证了该材料在浸液环境下具备一定的稳定性。3、镀膜元件激光辐照寿命研究。建立了光刻物镜元件激光辐照寿命加速评估方案。通过对样品透过率在线、持续监控,并结合样品辐照前后椭偏参量、表面形貌的变化,对样品激光辐照寿命进行评估。在4kHz的高重频激光光源累积辐照1.2MJ/cm~2后,热蒸发和离子束工艺制备的减反膜系均保持完好。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所)》期刊2018-06-01）
孙宏[7]（2018）在《减少EUV光刻装置光学表面污染物的专利技术》一文中研究指出EUV光刻技术是光刻领域中非常重要的分支,在EUV光子以及工作环境中污染物的作用下,EUV光学表面极易被污染,会降低光学表面的反射率,并影响光学系统的寿命和曝光性能,由此减少光学表面污染尤为重要。文章将对污染预防技术和污染清除技术的专利技术进行梳理。(本文来源于《决策探索(中)》期刊2018年04期）
张宝武,霍剑锋,饶鹏辉,张明月,刘媛媛[8]（2017）在《基于VirtualLab Fusion的原子光刻基片定位方案的光学系统仿真》一文中研究指出为了探究原子光刻中基片与会聚激光场间距对沉积纳米光栅质量的影响,我们基于VirtualLab Fusion(VLF)平台实现了基片定位控制方案中光学系统的建模和仿真.结果显示:基片在切割会聚激光时将产生直边衍射图像,其轮廓形状和最大值都会随着基片切割激光截面区域大小的变化而变化:虚拟光电探测器上所得到的反射光强度值将随着基片-会聚激光间距的变化给出了倒置的高斯线型,其最低点出现在基片中心和会聚激光场轴线重合时的位置上.当会聚激光场截面恰好被基片阻挡一半时,探测处的强度值降至45.5%.这种光强随基片位置的变化情况为精确地定位基片位置提供了理论支撑.(本文来源于《中国计量大学学报》期刊2017年04期）
丁立[9]（2016）在《纳米光波导的光学特性及其在近场光刻中的应用》一文中研究指出表面等离子体是入射的电磁波与金属表面的自由电子相互耦合形成的表面电磁模,一般来说,它可分为局域表面等离子体和传播型表面等离子体。本论文的工作集中在探索局域表面等离子体和传播型表面等离子体的应用,数值模拟并实验研究了脊形纳米小孔的近场光刻和等离子体波导的传输特性。我们的研究展现了脊形纳米小孔在低成本、高分辨率近场光刻中优异性能,拓展了表面等离子体在微纳光学领域的应用。本论文取得的主要成果如下：1、论文数值计算了金属银膜中蝴蝶结形纳米小孔的透射光谱,并指出透射谱中多个谐振峰具有不同的共振特性：法布里帕罗(F-P)共振和等离子体共振,其中F-P共振由金属膜厚主导而等离子体共振则对小孔的间隙尺寸更敏感。这些现象揭示了谐振效应背后的物理机制也提供了有效的调谐蝴蝶结形纳米小孔的方法。我们还制备样品进行实验验证,实验结果与模拟结果高度吻合,这证实了模拟结果的正确性也佐证了我们对于小孔谐振特性的理解。2、利用数值模拟和实验测试系统对比了用于近场接触光刻的C形纳米小孔和常规形状小孔的光斑对比度和场强分布,结果表明C形纳米小孔在保证高传输效率和高光斑对比度的情况下获得纳米级精度上具有非常显着地优势。除此之外,我们模拟了不同金属材料中不同脊长的C形纳米小孔在近场光刻中的表现以对小孔参数进行优化。3、采用背加工方法,制备了间隙仅为10.12纳米的蝴蝶结形纳米小孔并进行了静态曝光实验和动态扫描曝光实验,静态光刻时得到了精度为21纳米的单点,动态扫描光刻时得到了精度高达18纳米的线,这是小孔近场光刻所能达到的非常的精度。另外,数值仿真了不同轮廓尺寸和间隙大小的蝴蝶结形纳米小孔在近场光刻中的场强分布和光斑对比度。模拟结果显示轮廓尺寸对于光斑对比度影响甚微但对透射光强度作用明显,轮廓尺寸越小光强越强。小孔的间隙越小光强越强,但对光斑对比度的影响较复杂。我们的数值和实验结果清晰地展示了蝴蝶结形纳米小孔在高精度近场扫描光刻中的应用潜力。4、提出了一种新型的混合等离子体波导的设计方案,它由介质纳米管和金属楔角组成。我们进行了非常全面的数值模拟分析,相应的计算结果表明新型波导具有较低的传输损耗和极强的光场约束能力。我们还给出了制备该波导的具体工艺流程。除此之外,我们还分析了可能出现的工艺误差如不准确的楔角圆弧半径和纳米管与金属楔的水平对齐误差对波导中混合等离子体模式特性的影响。讨论结果显示新型波导结构对这些误差的容忍度非常高,基本不影响最后的传输模式。这种新型的波导在许多功能型纳米光子器件如无源器件、等离子体激光器和等离子体谐振器中具有非常巨大的应用前景。5、改进了金属楔形波导结构制备工艺,相比之前的方法,新流程具有较高的加工精度和成功率。数值模拟分析了不同楔角的楔形等离子体波导的传输特性,我们发现楔形等离子体在楔形侧边表面传输并呈多峰瓣分布,而且楔角越大,波导的最佳激发波长越大、耦合效率越高、传输损耗也越低。我们研究了将楔形尖角变为圆弧的情况,发现表面等离子体的场强有所降低。为了提高波导的激发效率,我们还提出了在波导中加入激发端,设计了光栅和叁角形的激发结构并模拟仿真进行了对比。最后我们讨论了结构缺陷对楔形等离子体波导的传输特性的影响,计算结果显示楔形两边的传输模互相独立,缺陷结构会导致楔形等离子体模式的不对称分布。(本文来源于《中国科学技术大学》期刊2016-10-01）
柏杨,张晓波,熊瑛,刘刚,田扬超[10]（2016）在《光刻胶纳米结构失效现象的光学特性分析》一文中研究指出具有纳米结构的光刻胶有着独特的光学特性,其纳米结构参数直接决定其光学特性。通过对光栅脊柱倾斜、粘连和倒伏堆迭这3种结构失效现象建模,利用严格耦合波理论数值,计算了各种失效结构对偏振光的反射率影响。结果表明,脊柱倾斜的纳米光栅对于偏振光反射率最小的波长发生红移;当有粘连时纳米光栅的对偏振光的敏感程度减弱,同时产生衍射级次;倒伏堆迭的纳米光栅产生较强的衍射级次。利用偏振改变与失效形式的关系可以对纳米结构的具体失效形式做出判断,这对于实现微纳结构的无损监测有一定的推动意义。(本文来源于《新技术新工艺》期刊2016年09期）
光学光刻论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光学光刻论文参考文献
[1].王磊杰,张鸣,朱煜,叶伟楠,杨富中.面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述[J].光学精密工程.2019
[2].李杰,林妩媚,廖志杰.NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化[J].应用光学.2019
[3].唐志方.基于DMD的数字光刻光学系统的研究[D].长春理工大学.2019
[4].孙彦杰,刘华,李金环,陆子凤,张莹.自由曲面光学透镜平滑DMD扫描光刻图形边缘[J].光子学报.2019
[5].毕丹丹,张立超,时光.浸没式光刻投影物镜光学薄膜[J].中国光学.2018
[6].毕丹丹.浸没式光刻投影物镜光学薄膜技术研究[D].中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所).2018
[7].孙宏.减少EUV光刻装置光学表面污染物的专利技术[J].决策探索(中).2018
[8].张宝武,霍剑锋,饶鹏辉,张明月,刘媛媛.基于VirtualLabFusion的原子光刻基片定位方案的光学系统仿真[J].中国计量大学学报.2017
[9].丁立.纳米光波导的光学特性及其在近场光刻中的应用[D].中国科学技术大学.2016
[10].柏杨,张晓波,熊瑛,刘刚,田扬超.光刻胶纳米结构失效现象的光学特性分析[J].新技术新工艺.2016
标签：浸没式光刻机; 光学干涉式光栅编码器; 位移测量;