论文摘要
本文以制备低压ZnO压敏陶瓷材料为目的,论述了低压ZnO压敏陶瓷的性能、用途、分类、实现低压化的方法、国内外的研究动态及发展趋势;研究了制备低压ZnO压敏陶瓷的基本工艺和方法,包括压制成型时的压强和粘结剂用量的选择;研究了烧结工艺中烧结温度、保温时间及升温速率对低压ZnO压敏陶瓷电性能和致密度的影响规律,优化了低压ZnO压敏陶瓷的烧结工艺。研究结果表明:坯体的成型极限压强为20Mpa、粘结剂加入量为12wt%时低压ZnO压敏陶瓷的各项性能最优;低压ZnO压敏陶瓷的最佳的烧成工艺条件为:烧成温度1200℃,保温时间2h,升温速率7℃/min。本文首次采用正交试验法,利用制备ZnO压敏陶瓷的常规工艺,系统研究了Bi、Ti、Co、Mn、Sn、Sb等6种元素氧化物对ZnO压敏陶瓷性能的影响,得出低压ZnO压敏陶瓷的最佳配方为:1.25%Bi2O3+0.4%TiO2+0.4%Co2O3+1%MnO2+1%SnO2+1%Sb2O3+94.95%ZnO。在最佳烧结工艺条件下烧结,压敏电压为10.15V,漏电流为2.05μA,非线性系数为22.2。在低压配方的基础上,通过添加稀土元素氧化物Y2O3做了改性试验,研究了Y2O3掺杂对低压ZnO压敏陶瓷电性能的影响规律及作用机制。研究发现:Y2O3的加入能使低压ZnO压敏陶瓷的非线性系数增大,漏电流相应的减小,但同时会使压敏电压大幅度提高,同时,Y2O3的掺杂会使低压ZnO压敏陶瓷的晶粒尺寸明显减小,并且大小和分布更为均匀。
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摘要ABSTRACT1 绪论1.1 ZnO 压敏陶瓷1.2 ZnO 压敏陶瓷的物理化学和显微结构1.2.1 ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的物理基础1.2.2 ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的化学基础1.2.3 ZnO 压敏陶瓷产生压敏性的显微结构1.3 ZnO 压敏效应原理及其表征1.4 低压ZnO 压敏陶瓷的掺杂改性与晶粒生长理论1.4.1 掺杂改性理论1.4.2 晶粒生长理论1.5 ZnO 压敏陶瓷低压化方法1.5.1 减小ZnO 压敏陶瓷片的厚度1.5.2 降低ZnO 压敏陶瓷片中单晶界层击穿电压1.5.3 增大ZnO 平均晶粒尺寸1.6 ZnO 压敏陶瓷国内外的研究动态及发展趋势1.6.1 ZnO 压敏陶瓷国内外的研究动态1.6.2 低压ZnO 压敏陶瓷的发展趋势1.7 本课题研究的意义、目的和内容1.7.1 本课题研究的意义和目的1.7.2 本课题的研究内容2 试验方法原理与试验设计2.1 实验原料及设备2.2 试验方案设计2.3 ZnO 压敏陶瓷的制备工艺2.3.1 样品制备2.3.2 制备工艺流程图2.4 ZnO 压敏陶瓷工艺优化2.4.1 ZnO 压敏陶瓷成型工艺优化2.4.2 ZnO 压敏陶瓷烧结工艺优化2.5 样品结构和性能测试3 低压ZnO 压敏陶瓷工艺参数优化3.1 低压ZnO 压敏陶瓷成型工艺参数优化3.1.1 压制成型时压强和保压时间的优化3.1.2 粘结剂用量的优化3.2 低压ZnO 压敏陶瓷烧结工艺参数优化3.2.1 烧结温度对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响3.2.2 保温时间对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响3.2.3 升温速率对低压ZnO 压敏陶瓷致密度的影响3.3 本章小结4 添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷性能影响的正交试验研究4.1 添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响4.2 添加剂对低压ZnO 压敏陶瓷显微结构的影响4.3 添加剂掺杂低压ZnO 压敏陶瓷XRD 物相分析4.4 本章小结203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷性能的影响'>5 Y203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷性能的影响203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响'>5.1 Y203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷电性能的影响203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷显微结构的影响'>5.2 Y203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷显微结构的影响5.2.1 扫描电子显微镜(SEM)形貌分析5.2.2 能谱(EDS)测试分析5.2.3 X 射线衍射(XRD)物相分析203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷的作用机制分析'>5.3 Y203 掺杂对低压ZnO 压敏陶瓷的作用机制分析5.4 本章小结6 结论致谢参考文献
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标签:低压压敏陶瓷论文; 烧结工艺论文; 电性能论文; 显微结构论文; 掺杂论文;