基于CPLD和虚拟仪器技术的镀膜机膜厚控制系统的研究

论文摘要

在光电技术突飞猛进发展的今天，镀膜装置与技术也在不断发展与进步。在目前已经实用化软X射线多层膜制备当中，离子束溅射(IBS)技术成膜质量较好，没有电磁波干扰，易于对镀膜过程进行实时控制。目前人们普遍认为这种方法是制备软X射线多层膜最有效、最有发展前途的方法。 本文叙述了膜厚测量原理与膜厚控制技术的研究以及一个智能化控制装置的研制；系统介绍了一个基于CPLD的镀膜机膜厚控制系统的总体构成。由于采用了CPLD技术，使系统结构、成本大为简化。文中详细叙述了系统硬件设计、仿真与具体实验结果。在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。而且由于采取了自动控制，在控制过程中剔除了人为因素的干扰，控制准确，提高了劳动生产率。

论文目录

• 目录
• 摘要
• ABSTRACT
• 第一章 绪论
• §1.1 引言
• §1.2 国际与国内研究现状
• §1.3 论文研究的目的与内容
• 第二章 离子束溅射镀膜机膜厚控制原理
• §2.1 离子束溅射镀膜机的工作原理
• §2.2 膜厚控制基本原理
• 第三章 离子束镀膜机膜厚控制系统总体设计
• §3.1 系统总体方案设计
• §3.2 系统主要部分设计指标要求与分析
• §3.3 CPLD技术在此系统中的应用
• 第四章 系统软件设计
• §4.1 串行通讯软件设计
• §4.2 单片机处理程序流程图
• §4.3 基于虚拟仪器的软件设计
• 第五章 系统可靠性分析
• §5.1 系统可靠性
• §5.2 印刷电路板的可靠性设计
• 第六章 实验测试与分析
• 结论与展望
• 致谢
• 参考文献
• 附录1 等精度频率计的CPLD原理图
• 附录2 等精度频率计的VHDL语言实现
• 附录3 单片机处理程序清单
• 附录4 等精度频率计的原理图设计
• 附录5 等精度频率计的PCB电路板设计