顶发射OLED工艺中Ag反射膜蚀刻技术的研究

论文摘要

近年来,随着市场对产品分辨率、对比度、视角、响应速度等诸方面特性要求的提高,传统的LCD已经逐渐不能满足高端市场的要求。本世纪以来,OLED （Organic Light-Emitting Display）崭露头角,并由于它各方面的逐渐应用而使其为人们所熟知,被众多企业所看好。OLED目前有两种主流工艺,顶发射与底发射,顶发射OLED由于其高亮度、高开口率而有着巨大的优势。在阳极材料上,具有4.5eV-5.3eV的高功函数、性质稳定且透光的ITO透明导电膜,便被广泛应用于阳极。同时,高反射率的Ag及其合金成为反射层的首选材料。加上Ag底层的pixel层ITO,总共需要三层。为了降低制造成本,减少成膜工艺的复杂性,并减少由于多次曝光而造成的位置偏离风险,需要用尽量少的过程中完成对这几层的蚀刻工艺。在对镀膜工艺进行调整,微调其最上层及最下层ITO的膜厚及膜质,并对蚀刻条件进行调整后,可以做到可以接受的Taper角度及线宽损失。由此,可以在节省产能及提高工艺可靠性的前提下,做到可以接收的量产水准。

论文目录

• 摘要
• Abstract
• 第一章 AMOLED简介
• 1.1 OLED的发展历史
• 1.2 中国OLED产业主要生产企业
• 1.3 OLED显示原理
• 1.4 OLED发光部分的构造
• 1.5 AMOLED显示器的整体结构
• 1.6 OLED显示器制造流程
• 第二章 像素电极/反射层/ITO阳极相关的制造工艺
• 2.1 PVD工艺
• 2.2 光刻工艺
• 2.3 湿刻工艺
• 第三章 复合膜层蚀刻对于PVD成膜性能的要求
• 3.1 OLED工艺对于膜层的要求
• 3.2 提高复合膜层效果的PVD工艺改善
• 3.3 复合膜层成膜相对于蚀刻工艺的改善
• 3.4 复合膜层成膜条件的结论
• 第四章 复合膜层湿刻条件的验证
• 4.1 蚀刻药液的选择及试验室结果
• 4.2 产线调试及结果
• 4.3 总结
• 第五章 论文总结
• 致谢
• 参考文献