论文摘要
本文采用不同的热处理工艺分别对Ti54.5Ni45.5、Ti51.2Ni48.8和Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜进行晶化退火,利用X射线衍射仪(XRD),原子力显微镜(AFM)、分光光度计系统地研究薄膜织结构、表面形貌及光学反射率。研究表明,经不同的热处理工艺晶化退火后,三种薄膜室温下均为马氏体相,Ti54.5Ni45.5薄膜中析出相主要为Ti2Ni,Ti51.2Ni48.8薄膜中无析出相,Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜中主要为Ni3Ti和GdNi两种析出相;薄膜晶粒随退火温度升高和保温时间的延长逐渐长大,晶粒尺寸在10-30nm之间。热处理工艺对薄膜表面形貌有明显影响,随着退火温度的升高,柱状颗粒逐渐长大,薄膜表面均方根粗糙度增加;随着保温时间延长,表面颗粒的生长方式有所改变,Ti51.2Ni48.8薄膜短时间晶化退火呈现柱状颗粒,并逐渐向岛状过渡,最终形成岛状颗粒,Ti54.5Ni45.5薄膜中柱状颗粒先长大后减小,呈现峰值效应,Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜在大于2min晶化退火处理后则全部为岛状形貌,说明Gd加入有明显影响。薄膜反射率光谱测试结果表明,室温下反射率随光源波长的增加先降低而后升高,在蓝光波段获得最小值;马氏体取向对薄膜在不同波长下反射率有显著影响。奥氏体态薄膜反射率随着光源波长的增加先升高后降低,然后继续增大。Ti51.2Ni48.8薄膜600℃退火1h时在红光波段有最大的反射率差,约为27%,退火10h在蓝光波段有最大的反射率差,约为15%;Ti54.5Ni45.5薄膜在600℃退火1h时在红光和蓝光波段有最大的反射率差,分别为和33%和34%;Ti44.5Ni46.9Gd8.6薄膜在600℃退火1h时具有最大的反射率差,红光和蓝光波段反射率差分别为18%和12%。
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