论文摘要
本论文运用一维光电子结构分析模拟软件AMPS-1D对硅基基薄膜太阳电池进行研究。首先分析了p-i-n型非晶硅薄膜太阳电池,然后对p-i-n结构纳米硅电池进行了详细的讨论,最后研究了纳米硅HIT太阳电池。主要内容及结论总结如下:(1).对非晶硅p-i-n单结太阳电池的研究表明,p/i界面处的缺陷态会严重影响电池的性能。因此,需要在p/i界面处设置本征a-Si C:H缓冲层,来减少该处缺陷态密度,以有效降低此处载流子的复合。通过调节缓冲层的带隙可改变价带补偿的分布,使得载流子复合率的分布发生变化。当缓冲层的带隙为2.00 eV时,电池的性能最佳。同时,在p/i界面处插入缓冲层后,可以明显改善电池的蓝光效应,增强电池的性能。此外,提高本征吸收层的材料质量,降低缺陷浓度,选择合适的迁移率带隙也可以使得电池性能得到优化。(2).设计(p+)nc-SiC:H/(i)nc-Si:H/(n+)nc-Si:H p-i-n单结纳米硅薄膜太阳电池模型,对本征吸收层的厚度进行了优化。当i层厚度为200 nm时,电池的性能最佳。通过对实验数据的数值拟合可以得到本征吸收层nc-Si:H晶粒尺寸与晶态比以及nc-Si:H晶粒尺寸与光学带隙的关系式。随着本征nc-Si:H层晶粒尺寸增大,本征层的光吸收系数减小,进而导致电池性能下降。窗口层的掺杂浓度也会影响电池的性能。当掺杂浓度为3×1018cm-3时,性能最优。(3).对TCO/(p+)nc-Si:H/(i)a-Si:H/(n)c-Si/(i)a-Si:H/(n+)nc-Si:H/Al结构的太阳电池进行模拟分析。结果表明要获得高的输出功率,透明导电膜TCO的功函数应该越大。可以通过优化(p+)nc-Si:H发射极的掺杂浓度以及厚度,进一步提高电池的光电转换效率。通过在硅片表面沉积本征a-Si层可以有效钝化硅片表面的Si悬挂键,从而降低(p+)nc-Si:H/(n)c-Si异质结处的界面缺陷态浓度。另外,设置背场可以显著提高HIT太阳电池的开路电压和短路电流。
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摘要ABSTRACT第一章 绪论1.1 太阳电池的基本原理1.1.1 太阳光谱1.1.2 半导体的光吸收及复合机制1.1.3 太阳电池的输出参数1.2 太阳电池的研究进展1.2.1 太阳电池的分类1.2.2 晶体硅太阳电池的研究进展1.2.3 硅基薄膜太阳电池研究进展1.3 AMPS 的原理和算法依据1.3.1 AMPS 电学模型方程1.3.2 AMPS 软件的使用方法+)a-SiC:H/buffer/(i)a-Si:H/(n+)a-Si:H 单结太阳电池的模拟'>第二章 (p+)a-SiC:H/buffer/(i)a-Si:H/(n+)a-Si:H 单结太阳电池的模拟2.1 a-Si:H 薄膜的基本特征2.2 a-Si:H 单结(p-i-n)太阳电池2.2.1 p-i-n 太阳电池的结构及相关参数的设置2.2.2 结果与讨论2.3 本章小结第三章 纳米硅p-i-n 型太阳电池的模拟3.1 nc-Si:H 薄膜的结构特征3.2 物理模型及模拟方法3.2.1 器件结构3.2.2 材料理化参数3.3 数据来源及分析3.3.1 纳米硅的光吸收系数3.3.2 对实验数据的数学拟合3.4 结果与讨论3.4.1 纳米硅本征层厚度对电池性能的影响3.4.2 电池性能与i-层中晶粒尺寸的关系3.4.3 窗口层掺杂浓度对电池性能的影响3.5 本章小结第四章 纳米硅HIT 太阳电池的模拟4.1 HIT 太阳电池的结构4.2 模拟结果与讨论+)nc-Si:H 发射极掺杂浓度对电池性能的影响'>4.2.1 (p+)nc-Si:H 发射极掺杂浓度对电池性能的影响+)nc-Si:H 发射极厚度对电池性能的影响'>4.2.2 (p+)nc-Si:H 发射极厚度对电池性能的影响4.2.3 背场对电池性能的影响4.2.4 界面态对电池性能的影响4.3 本章小结第五章 总结与展望5.1 总结5.2 展望参考文献致谢攻读硕士期间发表的学术论文
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