论文摘要
随着惯性约束核聚变在能源和军事上的应用发展,高功率激光器也日益受到更多关注。磷酸二氢钾(KDP)晶体是为惯性约束核聚变提供短波长的必不可少的谐波转换光学元件,其重要程度不言而喻。然而,长期暴露在空气中的KDP晶体容易受潮发雾,不仅降低光透过率,而且缩短其使用寿命。目前为解决这一问题国际上均采用镀膜技术,而溶胶-凝胶法制备的多孔二氧化硅(SiO2)增透膜因具有良好的光学性质和高的激光破坏阈值而被普遍采用,多孔SiO2增透膜必须具备一系列优良的特性才能满足ICF和X光激光等实验需要,例如必须有很好的增透效果,有较高的抗激光损伤阈值以及大面积成膜的均匀性,较强的薄膜强度和较长的膜层使用寿命等。无疑,镀膜性能的改进对高功率激光系统的性能和可靠性有举足轻重的作用。本文基于溶胶一凝胶法,寻找出使薄膜性能更加优越的方法。本文首先采用溶胶-凝胶法,室温中碱性催化条件下,利用正硅酸乙酯的水解缩聚反应制各出SiO2溶胶凝胶,使用旋涂和提拉法镀膜。通过紫外荧光测试发现:薄膜具有宽带增透性能。通过改变实验参数,如水含量等,得到了薄膜光透过率的最佳值。之后探索了薄膜的抗激光损伤的性能,并初步分析了影响薄膜激光损伤阈值的因素。其次研究了薄膜的表面改性,分析在不同的实验条件下,如添加三甲基氯硅烷(TMCS),聚乙二醇(PEG)以及热处理等对薄膜憎水性能的改善,并且结合表面改性对薄膜光透过率的影响,选择出实验参数的最优值。最后研究了有机改性剂的添加对薄膜光学以及疏水的综合影响,本文选择的有机改性剂包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、聚氨酯(PU)以及聚对苯二甲酸乙二酯(PET),实验表明PMMA和PS不仅可以使薄膜的疏水性能显著的提高,最高达140°左右,且同时薄膜的光学最高透过率仍保持高达98%以上。通过对各种实验参数和实验方法的性能测试比较,最终发现TMCS,PEG,PMMA和PS可以显著提高薄膜的疏水性能,同时不会引起薄膜光透过率的明显下降,为宽带减反憎水薄膜的制备提供了一种全新的方法,且所制得薄膜性能优越。
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