论文题目: 硼碳氮薄膜的制备及其光透过性质研究
论文类型: 博士论文
论文专业: 光学
作者: 王玉新
导师: 冯克成
关键词: 射频磁控溅射,硼碳氮薄膜,沉积参数,透过率
文献来源: 长春理工大学
发表年度: 2005
论文摘要: 硼碳氮(BCN)是一种新型的人工合成功能材料，它具有一系列优异的物理化学特性，有着极其广泛的应用前景。近几年来，硼碳氮薄膜的制备和性能研究已逐步成为国际上薄膜研究的热点。目前，硼碳氮薄膜的研究还处于初级阶段，制备方法以化学气相沉积为主。同时，各种PVD方法也被用来制备硼碳氮薄膜，如溅射法、离子束辅助沉积和脉冲激光沉积等。对该化合物的性能研究主要集中在力学和一部分电学性质方面，它的光学特性研究的比较少。并且，在溅射沉积法中，采用磁控溅射技术并直接用六角氮化硼和石墨为溅射靶制备BCN薄膜的情况十分罕见。本文即以六角氮化硼和石墨为溅射靶，采用射频磁控溅射技术分别在硅和玻璃衬底上制备了无定型的硼碳氮薄膜，并对其光透过性质进行了系统的研究。 在论文的第一部分，首先对薄膜的定义、薄膜材料的研究现状及发展前景等问题进行了综述。介绍了课题选择的背景，讨论了金刚石薄膜和立方氮化硼薄膜性能的优缺点，对制备兼具二者优点的硼碳氮薄膜的可行性进行了分析，并着重从理论和实验两方面阐述了硼碳氮薄膜的研究现状和存在的问题。 在论文的第二部分，介绍了溅射镀膜的基本原理，并用射频磁控溅射法成功制备了硼碳氮薄膜，得到制备实现原子级化合的硼碳氮薄膜的合适的实验条件为：靶到衬底的距离5cm、工作气压1.3Pa、射频功率80～130W、氮气分压比1／10～2／3、沉积温度300～500℃、沉积时间1～4h、衬底偏压为0V。所制备样品由傅里叶变换红外光谱、X-射线光电子能谱、X-射线衍射、原子力显微镜及扫描电子显微镜等检测手段进行了表征。测量结果表明薄膜中B、C和N原子实现了原子级杂化，且薄膜为无定型结构并具有平坦的表面，薄膜厚度约为50nm～300nm。 在论文的第三部分，系统地研究了热处理和沉积参数对硼碳氮薄膜的生长和内应力的影响。结果表明，新制备的硼碳氮薄膜中存在较大的压应力，对其进行600℃热处理能有效释放薄膜中的压应力。另外，改变沉积参数也可减小薄膜中的压应力，实验结果表明制备具有较小的压应力的硼碳氮薄膜的最佳沉积条件
论文目录:
摘要
ABSTRACT
目录
第一章 绪论
§1.1 薄膜的定义
§1.2 薄膜材料的研究现状及发展前景
§1.3 课题选择的背景
1.3.1 金刚石薄膜的优缺点
1.3.2 立方氮化硼薄膜的优缺点
§1.4 硼碳氮薄膜的研究现状和存在的问题
1.4.1 硼碳氮薄膜的研究现状
1.4.1.1 硼碳氮薄膜的理论研究
1.4.1.2 硼碳氮薄膜的实验研究
1.4.2 存在的问题
§1.5 硼碳氮薄膜的表征
1.5.1 傅里叶变换红外光谱(FTIR)
1.5.2 X—射线光电子能谱(XPS)
1.5.3 X—射线衍射(XRD)
1.5.4 扫描电子显微镜(SEM)
1.5.5 原子力显微镜(AFM)
§1.6 课题选择与研究内容
第二章 射频磁控溅射制备硼碳氮薄膜
§2.1 溅射的基本原理
2.1.1 辉光放电
2.1.2 溅射机理
2.1.3 溅射薄膜的结构
2.1.4 溅射成膜速率
§2.2 射频磁控溅射原理及实验装置
§2.3 硼碳氮薄膜的制备
2.3.1 薄膜制备的基本程序
2.3.2 衬底表面处理
2.3.3 硼碳氮薄膜的沉积
§2.4 在合适实验条件下沉积的硼碳氮簿膜
2.4.1 硼碳氮薄膜的傅里叶变换红外光谱(FTIR)
2.4.2 硼碳氮薄膜的X—射线光电子能谱(XPS)
2.4.3 硼碳氮薄膜的X—射线衍射分析(XRD)
2.4.4 硼碳氮薄膜的扫描电子显微镜测试(SEM)
2.4.5 硼碳氮薄膜的原子力显微镜测试(AFM)
§2.5 本章小结
第三章 硼碳氮薄膜的生长和内应力研究
§3.1 引言
§3.2 硼碳氮的薄膜残余应力分析
§3.3 减小硼碳氮薄膜内应力的方法
§3.4 射频功率对硼碳氮薄膜生长和内应力的影响
3.4.1 实验
3.4.2 结果和讨论
3.4.3 结论
§3.5 氮气分压比对硼碳氮薄膜生长和内应力的影响
3.5.1 实验
3.5.2 结果和讨论
3.5.3 结论
§3.6 沉积温度对硼碳氮薄膜生长和内应力的影响
3.6.1 实验
3.6.2 结果和讨论
3.6.3 结论
§3.7 沉积时间对硼碳氮薄膜生长和内应力的影响
3.7.1 实验
3.7.2 结果和讨论
3.7.3 结论
§3.8 本章小结
第四章 沉积参数对硼碳氮薄膜的组分和厚度的影响
§4.1 射频功率对硼碳氮薄膜的组分和厚度的影响
4.1.1 实验
4.1.2 结果与讨论
4.1.3 结论
§4.2 气体分压比对硼碳氮薄膜的组分和厚度的影响
4.2.1 实验
4.2.2 结果与讨论
4.2.3 结论
§4.3 沉积温度对硼碳氮薄膜的组分和厚度的影响
4.3.1 实验
4.3.2 结果与讨论
4.3.3 结论
§4.4 沉积时间对硼碳氮薄膜的组分和厚度的影响
4.4.1 实验
4.4.2 结果与讨论
4.4.3 结论
§4.5 本章小结
第五章 沉积参数对硼碳氮薄膜的光透过性质的影响
§5.1 射频功率对硼碳氮薄膜光透过性质的影响
5.1.1 结果与讨论
5.1.2 结论
§5.2 氮气分压比对硼碳氮薄膜光透过性质的影响
5.2.1 结果与讨论
5.2.2 结论
§5.3 沉积温度对硼碳氮薄膜光透过性质的影响
5.3.1 结果与讨论
5.3.2 结论
§5.4 沉积时间对硼碳氮簿膜光透过性质的影响
5.4.1 结果与讨论
5.4.2 结论
§5.5 本章小结
第六章 总结与展望
§6.1 总结
§6.2 展望
致谢
参考文献
攻读博士学位期间发表论文情况
长春理工大学博士论文原创性声明
发布时间: 2006-09-18
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