李玉叶:利用等离子反应器从SiF4与CH4制备HF和SiC的探索研究论文

李玉叶:利用等离子反应器从SiF4与CH4制备HF和SiC的探索研究论文

本文主要研究内容

作者李玉叶,黄忠,田强(2019)在《利用等离子反应器从SiF4与CH4制备HF和SiC的探索研究》一文中研究指出:研究了一个新型反应,即SiF4气体与CH4气体反应生成无水HF气体和SiC固体。该反应在最大能量为20eV的等离子反应器的固定床中进行,反应一段时间后,收集反应器壁上固体,通过分析固体中的碳含量来判断四氟化硅和甲烷的反应情况。结果表明:四氟化硅和甲烷可以发生反应,但是速度十分缓慢。

Abstract

yan jiu le yi ge xin xing fan ying ,ji SiF4qi ti yu CH4qi ti fan ying sheng cheng mo shui HFqi ti he SiCgu ti 。gai fan ying zai zui da neng liang wei 20eVde deng li zi fan ying qi de gu ding chuang zhong jin hang ,fan ying yi duan shi jian hou ,shou ji fan ying qi bi shang gu ti ,tong guo fen xi gu ti zhong de tan han liang lai pan duan si fu hua gui he jia wan de fan ying qing kuang 。jie guo biao ming :si fu hua gui he jia wan ke yi fa sheng fan ying ,dan shi su du shi fen huan man 。

论文参考文献

  • [1].四氟化硅的制备与纯化[J]. 黄华璠,张浩,岳立平,徐海云,李丹丹,罗文建.  当代化工.2019(04)
  • [2].四氟化硅的研究进展[J]. 何元琴.  建材与装饰.2018(32)
  • [3].四氟化硅·正丙醇络合物裂解过程的模拟计算研究[J]. 唐克,辛丽莹,苏红玉,邢锦娟.  当代化工.2017(04)
  • [4].高纯四氟化硅的制造方法[J]. 大冢丰三,木次直道,朱心才.  低温与特气.1986(01)
  • [5].四氟化硅的纯化方法[J]. 大冢丰三,木次直道,朱心才.  低温与特气.1986(02)
  • [6].氟硅酸返回生产系统的效益研究[J]. 丁祖明.  化学工程与装备.1989(01)
  • [7].由四氟化硅制氟化氢[J]. 方德恭.  化学世界.1962(03)
  • [8].四氟化硅气体中杂质的检测及净化研究进展[J]. 张丹辉,唐安江,韦德举,黄崇.  应用化工.2019(02)
  • [9].四氟化硅提纯方法重点专利申请现状研究[J]. 周倩,白璐.  科技与创新.2016(20)
  • [10].活性炭用于四氟化硅的净化[J]. 钱慧娟.  生物质化学工程.1983(12)
  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自云南化工的李玉叶,黄忠,田强,发表于刊物云南化工2019年05期论文,是一篇关于等离子体反应器论文,四氟化硅论文,甲烷论文,固定床论文,碳化硅论文,云南化工2019年05期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自云南化工2019年05期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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