论文摘要
稀磁半导体能够同时利用电子的电荷和自旋来处理和存储信息,在磁学、光学、电学等领域具有广泛的应用前景。由于以ZnO为母体材料的稀磁半导体有可能实现较高的掺杂浓度和高于室温的铁磁性,所以人们对ZnO基稀磁半导体开展了广泛的研究。本文采用基于密度泛函理论的第一性原理方法,研究了ZnO和过渡金属元素V掺杂ZnO体系的几何结构、电子结构、磁学性质和光学性质。分别计算了V占据Zn位、O位和间隙位的形成能、几何结构和电子结构,结果表明,V替代Zn位的形成能最小,并且富锌条件更利于这种掺杂的实现。未掺杂的ZnO是典型的直接带隙半导体,掺杂V原子后,ZnO的能带结构在费米能级附近发生了劈裂,具有较高的自旋极化率。通过对不同V掺杂浓度(6.25%、8.3%、12.5%)的ZnO体系的计算,我们发现,V原子的掺杂浓度对体系的磁性影响不大,磁矩主要由V原子贡献。体系中的V原子趋向于形成V的团簇,基态磁耦合是铁磁态,是由RKKY磁相互作用机制导致的。对含有本征缺陷的V掺杂ZnO体系的研究表明,O空位能使体系的磁性增强,Zn空位会使体系的磁性减弱。本文计算得到的ZnO的光学性质与实验中测得的数据基本吻合。掺杂V原子后,ZnO的电子结构发生了改变,体系的光学性质也随之发生了变化。价带中的电子发生跃迁时,首先会跃迁到能量相对较低的杂质能级,然后再跃迁到导带,导致吸收光子的波长变长,吸收边红移,光学带隙变小。
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摘要ABSTRACT第一章 绪论1.1 引言1.2 稀磁半导体的理论模型1.2.1 RKKY 交换作用1.2.2 Zener 双交换作用1.2.3 束缚磁极化子1.3 ZnO 的基本性质1.3.1 ZnO 的晶体结构1.3.2 ZnO 的电学性质1.3.3 ZnO 的光学性质1.4 ZnO 基稀磁半导体的研究现状1.4.1 V 掺杂 ZnO 的实验结果1.4.2 V 掺杂 ZnO 的理论计算结果1.5 本论文的主要工作第二章 第一性原理计算方法介绍2.1 绝热近似2.2 密度泛函理论2.2.1 Hohenberg-Kohn 定理2.2.2 Kohn-Sham 方程2.2.3 局域密度近似和广义梯度近似2.2.3.1 局域密度近似2.2.3.2 广义梯度近似2.2.4 Kohn-Sham方程的自洽求解过程2.3 平面波方法2.4 赝势方法2.5 Materials Studio软件介绍第三章 V 掺杂 ZnO 的几何结构和电子结构的理论计算3.1 理论模型与计算方法3.1.1 理论模型3.1.2 计算方法3.2 结果分析与讨论3.2.1 晶体结构分析3.2.1.1 各原子的晶格属性及化学势3.2.1.2 V 掺杂 ZnO的晶格属性及形成能3.2.2 电子结构分析3.2.3 Muliken集居数分析3.3 本章小结第四章 V 掺杂 ZnO 的磁学性质的理论计算4.1 模型构造4.2 结果讨论4.2.1 掺杂浓度对体系磁性的影响4.2.2 磁性耦合作用4.2.3 居里温度4.2.4 本征缺陷对体系磁性的影响4.3 本章小结第五章 V 掺杂 ZnO 的光学性质的理论计算5.1 计算方法5.2 结果分析与讨论5.2.1 介电函数5.2.2 光学常数5.2.2.1 折射率和消光系数5.2.2.2 反射率5.2.2.3 能量损失函数5.2.3 吸收系数5.2.4 光学带隙5.3 本章小结第六章 总结参考文献攻读硕士学位期间发表的论文致谢
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