一、TiO_2复合膜的耐蚀性能研究（论文文献综述）
屈莉莎[1]（2021）在《镁合金表面ZrO2（TiO2）-MAO超疏水膜的制备及耐蚀性研究》文中提出镁合金由于高比强度、优异的电磁屏蔽性和可加工性在汽车工业、航空航天、生物医疗和电子通信等领域引起了广泛关注。但是镁合金高的电化学活性,使其易于氧化且在室温下易于腐蚀,严重限制了其工程应用。ZrO2和TiO2是一类化学性质稳定的氧化物陶瓷材料,超疏水表面可在金属基体和腐蚀液之间形成一层空气膜并有效阻碍腐蚀性介质与金属基体的相互作用,在镁合金表面构筑ZrO2/TiO2的超疏水层则有望显着提升镁合金材料的耐腐蚀性能。本文采用深紫外（DUV）辅助低温Sol-gel法在微弧氧化（MAO）AZ31B镁合金基底上制备出了超疏水ZrO2-MAO复合膜和TiO2-MAO复合膜,实现了 MAO、沉积耐蚀氧化物陶瓷涂层和构筑超疏水表面三种防腐技术的有机结合,显着提升了镁合金的耐腐蚀性能,并最终探究出了一种提高镁合金耐腐蚀性能的新方法。主要研究工作如下:（1）以正丁醇锆为原料,乙酰丙酮为螯合剂,配制了 ZrO2感光溶胶,研究了在DUV光照作用下,ZrO2凝胶陶瓷化转变的最佳工艺。结果表明:ZrO2凝胶膜在304 nm处具有最强吸收;当DUV光照时间为120min辅助加热温度为150℃时,ZrO2凝胶膜中的有机物可完全分解,ZrO2凝胶膜可完全转变为非晶态的ZrO2薄膜。（2）依次通过MAO和DUV辅助低温Sol-gel法在镁合金基体上制备了ZrO2-MAO复合膜,研究了退火温度对ZrO2-MAO复合膜微观结构、表面形貌和耐性能的影响,并对镁基底、MAO和不同退火温度下的ZrO2-MAO复合膜的耐腐蚀性能进行了对比研究。结果表明:退火温度为400℃时,ZrO2薄膜结晶为四方相结构;且ZrO2-MAO复合膜表面致密均匀、无裂纹;与镁基底相比,ZrO2-MAO复合膜的腐蚀电流密度（icorr）从1.69×10-4 A/cm2降低至9.77×10-8A/cm2,阻抗模量（|Z|f→0）从～103 Ω·cm2增加至～4×105Ω·cm2,耐蚀性提高了近3个数量级,表明ZrO2-MAO复合膜显着提升了镁合金的耐蚀性能。（3）以1H,1H,2H,2H-全氟辛基三氯硅烷（FAS）为化学修饰剂,对ZrO2-MAO复合膜进行化学修饰制备得到了具有超疏水特性的FAS/ZrO2-MAO复合膜,对表面化学组成、润湿性能和耐蚀性能进行了表征。结果表明:FAS有机分子层被均匀固载于复合膜表面;ZrO2-MAO复合膜具有微纳米粗糙结构,对水的静态接触角（WCA）小于5°,表现出优异的超亲水性,其经低表面能FAS修饰后所制备的FAS/ZrO2-MAO复合膜的WCA为162°,表现出优异的超疏水性。FAS/ZrO2-MAO复合膜与ZrO2-MAO复合膜相比,icorr从9.16×10-7 A/cm2降低至2.75×10-9 A/cm2,|Z|f→0从～4×105 Ω·cm2 增加至～107 Ω·cm2,耐蚀性能提高了1～2个数量级。（4）以钛酸正丁酯为原料,配制了 TiO2感光溶胶,采用与ZrO2相似的工艺,制备了TiO2-MAO复合膜,探讨了修饰前后TiO2-MAO复合膜表面微观结构、表面元素组成、润湿性能和耐蚀性能的变化。结果表明:FAS修饰剂对TiO2-MAO复合膜的表面形貌影响不大,FAS通过Si-OH基团和TiO2薄膜表面的-OH基团间的反应固载于TiO2的表面,形成CF3（CF2）5（CH2）2Si（OTi）3。TiO2-MAO复合膜的WCA为8°,在粗糙结构和低表面能FAS层的共同作用下,FAS/TiO2-MAO复合膜表现出优异的超疏水性,其WCA达到160°。与 TiO2-MAO 复合膜相比,FAS/TiO2-MAO 复合膜的icorr从1.64×10-7 A/cm2 降低至1.31 ×10-9A/cm,|Z|f→0值从～3×105Ω·cm2增加至～2×107Ω·cm2,耐蚀性能提升了近2个数量级。由此可见,超疏水特性的FAS/TiO2-MAO复合膜可有效阻碍腐蚀性介质与金属基体的相互作用,使TiO2-MAO复合膜对镁合金的耐蚀性能进一步提升。
陈阳[2]（2020）在《可降解医用镁合金表面微弧氧化/聚合物复合膜层植入体的研究》文中研究指明随着人们生活水平不断提高,传统医用骨植入体材料不可降解需二次手术取出、易引起应力遮蔽效应等缺点日益显现。而医用镁合金由于其自发降解、可被人体吸收、力学性能良好等诸多优点,引起人们的广泛关注。但是,镁合金材料依然存有降解速率过快,生物相容性不足等缺陷。本文设计铸造了 Mg-2Zn-0.3Ca,Mg-2Zn-0.5Ca,Mg-3Zn-0.3Ca,Mg-3Zn-0.5Ca,Mg-3Zn-0.15Sr,Mg-3Zn-0.5Sr,Mg-3Zn-1Sr七种三元镁合金。通过组织结构、力学性能、电化学测试和体外模拟体液浸泡等检测方法比较评估,探讨了合金元素对合金各项性能的影响机制,并确定铸态均匀化处理后的Mg-2Zn-0.5Ca及Mg-3Zn-0.5Sr兼具良好的力学性能,生物相容性和耐蚀性。另外,制备了挤压态Mg-3Zn-0.5Sr合金并研究了挤压处理对合金组织结构、力学性能、耐蚀性的影响机制。结果表明,适量Zn,Ca元素的添加能够一定程度上细化镁合金晶粒。Sr元素对镁合金晶粒细化作用更为显着,但抗张强度及伸长率随Sr含量增添而减小。适量均匀分布的第二相对腐蚀起到一定阻碍作用,但过多的第二相会加剧电偶腐蚀。挤压态合金晶粒是细小的等轴晶,热挤压处理可以极大地细化晶粒,晶粒直径减小为铸态的十分之一,从而引起细晶强化,使得合金抗拉强度提高了一倍,达到250±12.5MPa;抗压强度也提高一倍多,达到146±8.3MPa;硬度和伸长率也得到较大提高,达到了自然骨中皮质骨所需的强度要求。然而挤压处理使合金中晶界增多,加速了晶间腐蚀。因而依然选取铸态Mg-2Zn-0.5Ca及Mg-3Zn-0.5Sr作为基体开展下一步研究。合金化对提高镁合金耐蚀性效果是有限的,本文接下来采取了微弧氧化（MAO）的表面处理方法对合金进行改性。以Mg-2Zn-0.5Ca合金为基体,将10g/L Na5P3O10,2g/LNaOH,10mL/L C3H8O3 作为基础电解液,选取 Na2WO4,NaF,K2TiF6,纳米羟基磷灰石（n-HA）四种不同的添加剂,每种添加剂确定三种浓度,设计了四因素三水平正交试验L9（34）,在基体表面制备出自封孔含钛钙磷生物活性陶瓷膜层。研究各添加剂对膜层形貌,力学性能,相组成,耐蚀性,生物相容性的影响机理。结果表明Na2WO4,n-HA的加入可提高膜层与基体的结合强度,适量的NaF和K2TiF6促进了 MgF2的形成并增加了膜层厚度和稳定性。由于K2TiF6和n-HA的愈合封孔作用,样品耐蚀性显着提高。另外还探讨了膜层形成机理,确定添加剂的最佳组合为:0g/L Na2WO4,2.5g/L NaF,5g/L n-HA,5g/L K2TiF6。基于正交试验,在Mg-3Zn-0.5Sr合金表面制备了含银自封孔抗菌微弧氧化膜。电解液中添加了不同浓度的CH3COOAg（0,1,2,3 g/L）以探究添加剂对MAO膜层性能的影响。结果说明,在电解液中添加CH3COOAg导致纳米Ag2O和Ag2CO3相的形成,密封了膜层中的微孔,使膜层具有自封孔的特性,从而显着提高了样品的耐蚀性。膜层中存在的纳米级含银颗粒以及降解过程中逐渐释放的Ag+,分别起到了接触杀菌和释放杀菌作用,显示出对大肠杆菌的强大抗菌能力。经验证,添加2g/LCH3COOAg制备的样品具有最高的结合强度,致密均匀的结构,优异的耐腐蚀性,细胞相容性和抗菌性能,不会引起小鼠全身急性毒性反应。在此基础上本文通过层层自组装（LbL）方法在含银微弧氧化膜层表面制备了含A/W或TiO2的壳聚糖/肝素钠复合膜层,研究复合膜层的界面结合、体外和体内降解情况。通过控制循环制备LbL层的次数和LbL层中TiO2的含量实现灵活调控样品性能的目的,揭示循环次数和TiO2浓度对复合膜层的力学性能、耐蚀性、生物相容性等的影响规律,并探讨了复合膜层样品在模拟体液中的体外降解机理。研究结果表明,经过3次循环制备的LbL膜层样品有效地密封了 MAO膜层中的微孔,呈现出最均匀紧密的微观形貌,与MAO膜层间结合良好,表现出最佳耐蚀性。肝素钠层的叠加减缓了壳聚糖的溶胀作用,提高了复合膜层的耐蚀性,并有效抑制了血小板粘附,降低了凝血率,提高了血液相容性。TiO2的加入会增强膜层亲水性,促进细胞黏附,TiO2添加量为4g/L时细胞黏附数目最多,细胞相容性最佳,在SBF中浸泡15天过程中的腐蚀速率最慢,为5.03×10-6 g/（cm2·h）,耐蚀性最佳。且降解过程中pH稳定,体现出良好的生物相容性和生物活性。所有复合膜层样品不会造成小鼠全身急性毒性反应。由Micro-CT数据可看出Mg合金组体内降解较快,28周后股骨内仍存在许多空腔,CS-4组降解相对较慢,骨组织愈合状况良好。AgAC-2和CS-4试棒植入大鼠股骨后骨质吸收较少,新骨形成和骨组织矿化量较多,膜层对基体起到了有效保护作用,减缓了降解,调节了 Mg2+释放速度,增强了成骨细胞活性,加速了新骨生成和组织愈合。骨组织及周围肌肉组织中没有明显炎症迹象。本文的研究极大地提高了镁基材料作为骨植入体的综合性能,为镁合金进一步的临床应用打下了坚实基础。
徐福民[3]（2020）在《AZ31镁合金纳米复合膜设计与腐蚀行为》文中认为镁合金具有密度小、强度高和生物相容性好等特点,是最轻金属结构材料之一,在现代工业产品和生物医用材料等领域具有广阔的应用前景。然而,较差的耐腐蚀性严重限制了镁合金的应用范围。本论文通过设计制备纳米复合薄膜来改善AZ31镁合金的耐腐蚀性能,分别对薄膜微观组织形貌、力学特性及耐腐蚀性能进行表征,并探讨在复合薄膜表面改性条件下AZ31镁合金的腐蚀机制。主要研究结论如下:（1）采用原子层沉积技术在AZ31镁合金表面制备了GaN薄膜、Al2O3薄膜和GaN/Al2O3复合薄膜,膜层厚度分别约为20.17nm、20.14 nm和20.22 nm。GaN薄膜表面平整呈网状结构分布,非晶态Al2O3薄膜表面光滑致密且无明显孔隙与裂纹,GaN/Al2O3复合薄膜表面平整致密,类似于Al2O3薄膜。三种薄膜均可提高AZ31镁合金表面硬度,相较于GaN薄膜和Al2O3薄膜,GaN/Al2O3复合薄膜力学性能表现更优异。在3.5wt.%的NaCl水溶液中,三种薄膜均有效提高了 AZ31镁合金的耐腐蚀性能,促进腐蚀模式由非均匀腐蚀向均匀腐蚀转变,GaN/Al2O3复合薄膜将AZ31镁合金的自腐蚀电位从-1.621 V提高至-1.326V,腐蚀电流密度从61.700 μA/cm2降低至1.457 μA/cm2,耐腐蚀性能表现更为优异。（2）采用原子层沉积技术在AZ31镁合金表面先行制备厚度约为19.97 nm的TiN薄膜,薄膜表面平整无明显孔隙和裂纹。随后TiN薄膜经原位氧化处理获得TiN/TiO2复合薄膜,表面形貌和厚度无明显变化。通过控制氧化时间可以对TiN和TiO2相对含量进行调节。实验结果表明,当氧化15 min时,TiN/TiO2复合薄膜表现出最佳的力学性能;当氧化20 min时,TiN/TiO2复合薄膜的耐腐蚀性能最佳。在3.5 wt.%的NaCl水溶液中,TiN/TiO2复合薄膜（氧化20 min）使得AZ31镁合金的腐蚀电位从-1.621 V升高至-1.206 V,腐蚀电流密度从61.71μA/cm2 降低至 0.485 μA/cm2。（3）原子层沉积技术作为纳米薄膜的主要制备技术,具有良好的工艺重复性,薄膜制备组分和厚度控制精确,且与基体有较好的结合。通过将GaN/Al2O3和TiN/TiO2纳米复合薄膜相比较可以发现,两种复合薄膜均为层间界面结合结构,该结构使得复合薄膜充分发挥了本身的力学特性优势;在3.5 wt.%NaCl水溶液中,薄膜界面可有效阻止Cl离子对AZ31镁合金的侵蚀和Mg离子向溶液中的扩散。相对于GaN/Al2O3复合薄膜,TiN/TiO2复合薄膜表现出更加优异的耐腐蚀性能,这是由于前者复合薄膜中的两种组元是分别通过ALD沉积后获得复合结构,而后者复合结构是通过原位氧化获得,因此后者组元间界面结合更为致密。此外,在TiN/TiO2复合薄膜中当外层的TiO2发生侵蚀破损时,其内层的TiN氧化产物为TiO2,可对外层的TiO2形成有效补充,具有一定的自修复性。
王天鹏[4]（2019）在《磁致涡流效应对阳极箔扩面增容的影响研究》文中认为随着现代科技的飞速发展,铝电解电容器趋向小型化、集成化发展。众所周知,提高铝阳极箔比电容是实现铝电解电容器小型化、高比容的关键所在。本论文通过在发孔腐蚀、扩孔缓蚀工艺及电沉积TiO2-A12O3复合铝氧化膜层过程中引入磁致涡流效应（magnetohydrodynamics,MHD效应）,利用其强化传质作用改善阳极箔表面的发孔状态和优化扩孔缓蚀过程中的蚀孔形貌来提高其比表面积S,以及增加复合氧化膜中阀金属氧化物的含量来提高其介电常数εr,进而达到增大比电容Cd、提高缓蚀性能的目的。主要的研究内容及结论如下:（1）磁致涡流效应对阳极铝箔形貌及比电容的影响通过在阳极铝箔直流电腐蚀过程中引入MHD效应,系统性地研究了其强化蚀孔内部/外部以及发孔液中的离子传质对阳极铝箔点蚀发孔和蚀孔生长的影响。结果表明,MHD效应导致氧化铝膜的生长受到抑制作用,箔面Cl-的吸附量逐渐提高,扩散层厚度不断减薄,蚀孔内外Cl-和Al3+的传质效果得以改善,电解液中离子传递阻力进一步减小,进而提高了阳极箔的蚀孔密度、平均孔径以及平均蚀孔深度的均一性,继而提高了比电容Cd,其值由无磁场时的20.83 μF·cm-2增至39.63 μF·cm-2。（2）磁场作用下十二烷基苯磺酸钠对阳极铝箔缓蚀性能及比电容的影响以十二烷基苯磺酸钠（SDBS）为缓蚀剂,通过在阳极箔扩面增容过程中引入磁场,系统研究了 MHD效应对腐蚀箔扩孔缓蚀过程中的蚀孔形貌、缓蚀性能及比电容的影响规律。结果表明MHD效应有效提高了电解液中DBS/NO3-向箔面/孔内的传质速率,改善了腐蚀箔表面SDBS吸附量及分布均一性,减少了失重,增大了耐蚀性能;同时蚀孔内部空间容积增大,平均蚀孔长度由63.52 μm增至70.30μm。对应的腐蚀箔比电容由51.66 μF·cm-2增至65.39 μF·cm-2。（3）磁致涡流效应对化成铝箔A12O3-TiO2复合膜结构及性能的影响通过磁场辅助电沉积法在腐蚀箔表面及蚀孔内部生成具有高εr的A12O3-TiO2复合膜层。系统地研究了磁致涡流效应对电沉积液中离子传递行为以及A12O3-TiO2复合氧化膜层结构与性能的影响规律。结果表明,随着磁感应强度B的不断增强,电沉积液中Ti4+离子向阳极箔表面及蚀孔内部的传递阻力逐渐减小,复合膜层中锐钛矿型TiO2含量提高,且其在箔面及蚀孔内部分布均一性提升。另外,电化学性能测试表明MHD效应提高了复合氧化膜介电常数,减少了阳极氧化阶段的形成电量,对应的化成箔比电容增大至58.29 μF·cm-2,较之无MHD制备的Al2O3-TiO2化成箔,其形成电量减少了 23.1%,比电容增加了 10.1%。
王霞[5]（2019）在《铋基化合物改性的TiO2纳米管膜及其光生阴极保护效应》文中研究指明光生阴极保护是新型的金属腐蚀防护方法,主要通过半导体材料的光电转换特性将光能转换为电能,对金属施加阴极保护,并不需要消耗阳极或外加电源,具有环境友好、可持续等特点,因而受腐蚀研究者的关注。TiO2半导体材料性质稳定,广泛用作光阳极,但单一的TiO2半导体材料只能吸收紫外光,可见光利用率低,且光生电子-空穴对易复合,光电转换效率较低。本工作主要采用复合窄禁带半导体对TiO2纳米管膜进行改性。选用光电性能优异的铋基半导体化合物,通过适当的方法将铋基半导体化合物的纳米颗粒沉积到Ti02纳米管膜上获得高性能的TiO2纳米管复合膜。在合适的空穴捕获剂的协同作用下,复合膜对403不锈钢（403SS）具有良好的阴极保护效应。主要研究内容和结果如下:（1）通过阳极氧化法在Ti箔表面制备TiO2纳米管膜,发展低温溶剂热法在TiO2纳米管内外表面沉积BiVO4纳米颗粒,获得了BiVO4/TiO2纳米管复合膜。100 ℃下反应5 h制备的复合膜光电化学性能最佳,其禁带宽度约为2.43 eV。与TiO2纳米管膜相比,BiVO4/TiO2复合膜的光电流值提高至约8.5倍,约为271μA·cm-2。在白光照射下,BiVO4/TiO2复合膜使0.5 mol·L-1 NaCl溶液中的403SS的电极电位下降了 520 mV,使403SS的电荷转移电阻下降至15.8 kΩ·cm2。同时,揭示了复合膜的光生阴极保护机理。（2）发展阳极氧化法和溶剂热反应相结合的方法,制备了 BiFeO3/TiO2纳米管复合膜。溶剂热最佳条件为150 ℃下反应7h。BiFe03/TiO2复合膜的禁带宽度约为2.33 eV,光照下,光电流值可达373 μA·cm-2,约为TiO2纳米管膜的8.3倍。此外,白光照射下的BiFeO3/TiO2复合膜使0.5 mol·L-1 NaCl溶液中的403SS的电极电位下降了560 mV,具有良好的光生阴极保护效应。（3）以TiOO2纳米管膜为基础,采用恒电流密度电沉积法和连续离子层吸附反应在纳米管上依次沉积了 CdSe纳米颗粒和Bi2S3纳米颗粒,构筑了具有级联能带结构的Bi2S3/CdSe/TiO2纳米管复合膜。光照下,三元复合膜的光电流值可达670 μA·cm-2,约为TiO2纳米管膜的17.6倍。三元复合膜对0.5 mol·L-1 NaCl溶液叶中的403SS具有良好的光生阴极保护作用,可使其电极电位下降690 mV。所制备的上述三种复合膜在长达30 h的对403SS阴极保护效应测试中始终保持稳定,具有优良的耐蚀性和光生阴极保护性能。
官自超[6]（2019）在《纳米阵列半导体复合膜的构筑及其光生阴极保护效应》文中研究表明以传统阴极保护与半导体光电技术相结合的光生阴极保护技术受到了腐蚀研究者的高度重视。光生阴极保护技术利用半导体光照下被激发的电子使金属阴极极化而抑制金属腐蚀,是一种绿色节能、环保、可持续的新型金属腐蚀防护技术,具有良好的潜在应用前景。目前,光生阴极保护研究主要集中在光阳极材料开发,其中Ti02是研究最早、最多的光阳极材料。Ti02半导体材料优势明显,缺陷也不容忽视。它具有绿色无毒、稳定性高、催化活性高、价格低廉、易于制备和调控形貌的特点。但是,其禁带宽度大（3.0～3.2 eV）、基本无可见光响应、光生电荷易复合、载流子寿命短、光电转化率低,暗态阴极保护无法实现。这些因素成为限制Ti02光生阴极保护技术实际应用的技术难题,如何克服这些难题成为研究的重点。针对这些技术难题,本工作发展多种Ti02改性方法,获得了多种以Ti02为基础的复合光阳极,以期实现更好的光生阴极保护效果。同时,尝试以W03为基础获得新型半导体光阳极。通过多种现代表征技术对光阳极材料形貌、光电化学性质、光电转换机制及光生阴极保护特性进行深入的研究。主要研究内容和进展如下:（1）发展阳极氧化和脉冲电沉积技术相结合方法,制备了具有高光电化学性能的β-Bi2O3/TiO2复合膜光阳极。由于β-Bi2O3和TiO2之间形成的p-n异质结,复合膜的电荷分离和光电转换效率显着提高,其光电流达80 μA/cm2,是相同条件下纯Ti02纳米管膜光电流密度的4倍。当0.5 mol/LNaCl溶液中403SS与受光照的β-Bi2O3/TiO2光阳极耦连时,其电位负移450 mV,表明光阳极具有显着的光生阴极保护性能。（2）结合阳极氧化、化学气相沉积和化学浴沉积技术制备了 Ag/g-C3N4/TiO2三元复合膜光阳极。由于g-C3N4与Ti02之间形成了异质结结构,以及Ag纳米颗粒表面等离子体共振效应的协同作用,复合膜的光电化学性能显着增强。其光吸收范围扩展到可见光区,光生电荷分离效率提高,光电流密度达到135 μA/cm2,是纯TiO2膜光电流密度的11倍。在白光照射下,复合膜可将与之相连的403SS的电极电位相对于自腐蚀电位降低了 530mV,明显优于连接Ti02膜光阳极时相应降低的270 mV。（3）建立以两次水热法和化学气相沉积为基础的三步合成法,制备了 g-C3N4/SrTiO3/TiO2复合膜光阳极。复合膜中g-C3N4具有可见光响应,三者能带位置匹配,导带位置从g-C3N4到SrTiO3到TiO2逐渐降低,如此组合极大促进电荷分离和转移,使复合膜具有显着增强的光电化学性能,其光电流密度达到180μA/cm2。作为光阳极时,白光照射下能够使0.5mol/LNaCl溶液中403SS电位下降530 mV,具有良好的光生阴极保护效应。（4）设计并制备了一种以WO3为基础材料的ZnS-Bi2S3/TiO2/WO3复合膜光阳极。复合膜中WO3作为基础框架和电子存储材料,TiO2作为电子传输过渡层,Bi2S3为光敏材料,ZnS为保护层。四种材料协同作用,使复合膜具有电子存储性能、可见光响应、高的电荷分离效率以及很好的稳定性。在白光照射下,复合膜使0.5 mol/L NaCl溶液中403SS显着阴极极化,使其电位降低540 mV,特别是在光照停止的20h内能够维持一定的阴极保护效应。
顿玉超[7]（2018）在《铝合金表面硅烷/石墨烯复合膜的制备及耐蚀性研究》文中研究指明铝合金具有优良的导热导电性能、比刚度、比强度、延展性和易加工性而被广泛用于航空航天、汽车、电子、食品等各个领域,其表面处理和腐蚀防护十分重要。近年来,为替代有毒铬酸盐处理,对利用硅烷进行金属表面处理的可行性进行了很多研究。但硅烷膜厚度一般不超过微米级,并且脆性较大,不宜作为独立膜层使用。另一方面,石墨烯被认为是潜在的理想防腐材料,而利用氧化石墨烯构建硅烷/石墨烯复合膜的研究还很少。本文利用硅烷和氧化石墨烯（GO）构建了耐热、耐蚀、厚度达几微米至几十微米的复合膜层,并通过调控石墨烯在硅烷膜层中分布方式对硅烷/石墨烯复合膜性能进行了进一步改善。首先通过提高水解液浓度及延长水解时间制备了大厚度的硅烷膜。短时间内水解液中以GPTMS单体及二、三活性低聚体为主,含有大量的活性硅醇;而长时间水解后,水解液中活性硅羟基减少,分子量增大,水解液粘度增大。利用活性硅醇交联形成的较厚硅烷膜耐蚀性更好。通过氧化石墨烯的片层结构调控可以解决硅烷膜的脆性及厚度问题。氧化石墨烯（GO）与Al3+复合在铝合金表面形成凝胶膜,固化过程中GO被铝部分还原,Al3+与GO交联可以提高GO薄膜的强度。GPTMS水解液中加入GO溶液后,活性硅醇优先在铝合金表面吸附,然后接枝GPTMS的GO片层通过硅醇缩合吸附到表面,组装制备了厚度达十几微米的GPTMS/还原氧化石墨烯（GPTMS/rGO）复合膜层。复合膜层具有良好的附着力,GO片层可以将压力分散,同时抑制微裂纹的产生与发展,从而提高膜层的显微硬度。GPTMS和GO片层的热学性能及堆叠结构使得GPTMS/rGO具有很好的热稳定性及耐热冲击性,并具有良好的屏蔽性能和耐紫外老化性能。TEM横截面观察证实GPTMS/rGO内两平行片层间大约7-10nm,约2-4个硅醇单体大小,限制了硅醇在垂直GO片层方向上的交联生长,即GPTMS/rGO内石墨烯片层阻断了线性和环状硅氧烷的生成,降低了硅烷的交联度。因而尝试利用氟硅烷对膜层的形成过程进行调控以改变GO片层的分布方式,以获得更好耐蚀性的复合膜（FG/rGO）。氟硅烷基本上均匀分散在膜层内,-CFx为低表面官能团,改变了水解液的局部浸润性,从而改变了亲水的GO片层的吸附方式,GO在膜层内不规则分布且片间距增大,使硅烷交联度增加。测试结果表明FG/rGO 比 GPTMS/rGO具有更好的耐蚀性。通过向硅烷水解液中引入缓蚀剂8-HQ,同时利用位阻效应及苯环间的排斥作用调控GO片层的分布形式,制备了具有一定自愈性的复合膜。将8-HQ与GPTMS复合后,与GO形成复合膜层（HG/rGO）,GO片层在膜层内呈网状分布,膜层表面平整,表面无褶皱,微孔缺陷减少。复合膜层破损后,8-HQ与Al3+反应,生成难溶的AlQ3络合物阻塞微孔及裂纹,可阻碍裂纹向纵深发展,从而膜层具有更好的耐蚀性。
徐义库,爨洛菲,王旭阳,李俊桥,宋绪丁,杨晶晶,陈永楠,郝建民[8]（2018）在《铝合金复合阳极氧化的研究现状及进展》文中进行了进一步梳理综述了电沉积、化学沉积、浸渗法等几种复合膜制备工艺以及特点。介绍了Si C复合膜、稀土铈复合膜、PTFE复合膜的制备机理,归纳了第二相添加浓度、温度、电流密度及添加剂等不同工艺参数与膜层微观形貌、硬度、耐磨耐蚀性的相关性,并对比了不同复合阳极氧化的优化工艺参数范围。同时还介绍了其他添加材料的复合氧化膜的研究现状。
徐芳[9]（2018）在《磁体表面功能性Al基薄膜制备及性能研究》文中研究表明烧结型钕铁硼（NdFeB）永磁体因其具有较高的矫顽力、饱和磁通量、磁能积、良好的机械性能以及相对较低的价格,在通信、电学、生物和航空等众多领域得到广泛应用,是一种具有发展前景的新型功能材料。但是,烧结型NdFeB在电化学环境（暖湿、高温等）中易发生腐蚀,导致其磁性能下降,特别是近年来电机的加速发展,需要NdFeB永磁体在更复杂的环境下长期工作,对磁体的防护提出了更高要求。纳米半导体材料的迅速发展,使得光生阴极保护被广泛应用到金属防腐蚀领域。在特定的光照条件下,纳米半导体材料会产生光生电子-空穴对,足够多的电子迁移到金属表面使得金属电势下降到自保护区域,降低腐蚀速率。由于二氧化钛和氧化锌具有特殊的能带结构,在金属防护上起到了很好的光生阴极保护作用。为更好地提高NdFeB永磁体的耐腐蚀性,通过优化工艺制备了性能优异的纳米结构铝薄膜,引入纳米半导体材料（TiO2/ZnO）,在钕铁硼表面制备了复合功能性薄膜（Al/TiO2、Al/ZnO及Al/TiO2/ZnO）,通过光生阴极保护原理提高NdFeB永磁体在特殊工业环境中的耐腐蚀性能。主要结论如下:1、在室温离子液体（AlCl3-EMIC）中,获得NdFeB表面上脉冲电沉积Al膜的最佳工艺。结果表明,沉积电流12.5mA/cm2,占空比系数0.5,频率5Hz时,NdFeB表面获得的Al膜平整光滑,其在3.5%NaCl溶液中自腐蚀电位为-0.800V,比恒电位下负移0.2V,自腐蚀电流密度达到整个实验体系中最小。2、以最佳NdFeB表面Al膜为基底,通过溶胶旋涂法在NdFeB表面获得Al/TiO2复合膜,同时研究热处理温度和添加剂（全文涉及的添加剂均为PEG2000）含量对复合膜的影响。当热处理温度为450℃,添加剂含量10mg/L时,NdFeB/Al/TiO2在紫外氙灯（365nm）光照下,在3.5%NaCl溶液中自腐蚀电位负移50mV,自腐蚀电流密度略有减小,产生光电流密度112μA/cm2。3、以最佳NdFeB表面Al膜为基底,通过溶胶旋涂法在NdFeB表面获得Al/ZnO复合膜,同时研究了添加剂含量对复合膜的影响。在热处理温度为500℃,添加剂含量10mg/L时,NdFeB/Al/ZnO在高压氙灯（波长>420nm）光照下,在3.5%NaCl溶液中自腐蚀电位负移44mV,自腐蚀电流密度略有减小,产生光电流密度104μA/cm2。4、以最佳NdFeB表面Al膜为基底,通过溶胶旋涂的方法制备复合膜Al/TiO2/ZnO,采用分步涂覆分步热处理方法,避免薄膜形成过程中晶体的生长发生相互抑制。实验结果表明:NdFeB/Al/TiO2/ZnO在高压氙灯（全波段）光照下在3.5%NaCl溶液中的自腐蚀电位负移101mV,自腐蚀电流密度略有减小,产生光电流密度141μA/cm2。
邢树楠[10]（2013）在《金属表面硅烷复合膜的制备及在海水中的腐蚀性能研究》文中提出金属材料的腐蚀现象无处不在，不仅给社会发展带来了巨大的经济损失，而且阻碍着科学技术的进步。在海水环境中，金属材料的腐蚀主要是由界面开始，不断向基体内部扩展，因此对金属表面进行处理可以有效的延缓或阻止腐蚀现象的发生。传统的金属表面处理工艺（磷化及铬处理）毒性大，而且防护成本高，因此，开发一种环境友好、价格低廉、易于操作的的金属防腐技术成为一个重要的课题。研究表明，硅烷水解后易于在金属表面成膜，但是由于膜层中微孔、裂纹和低交联区域的存在，有机硅烷膜的防腐作用并不能持久。通过在硅烷溶液中加入纳米颗粒或金属盐等无机成分来制备有机-无机硅烷复合膜可以有效地改善硅烷膜的这些缺陷，与单纯的硅烷膜相比，其在海水中的耐蚀性能也有了很大的提高。本论文选用双-[3-（三乙氧基）硅丙基]四硫化物（BTESPT）为研究对象，用浸渍法在304不锈钢表面制备了BTESPT/TiO2/MWCNT硅烷复合膜，借助动电位极化技术和电化学阻抗技术测试了复合膜在海水中的耐蚀性能。动电位极化曲线分析结果表明，BTESPT/TiO2/MWCNT硅烷复合膜比BTESPT/TiO2硅烷复合膜具有更好的电化学稳定性；电化学阻抗图谱测试结果表明，BTESPT/TiO2/MWCNT硅烷复合膜在海水中的耐蚀性能也有了很大的提高。由于TiO2在海水环境中会优先腐蚀，MWCNT的加入，能够与TiO2及BTESPT的官能团结合成键，对TiO2颗粒有很好的稳固作用，同时对于增加膜的致密性，阻止腐蚀介质的浸入有很大的帮助。本论文将BTESPT/TiO2硅烷复合膜防腐体系引入到2024铝合金基体上，并通过电化学阻抗图谱手段研究其电化学性能，但是由于硅烷复合膜在2024铝合金基体之间的结合力比较弱，影响了膜层在海水中的的耐蚀性能。为克服这些缺点，利用阴极电沉积法在2024铝合金表面成功制备了BTESPT硅烷膜、BTESPT/TiO2和BTESPT/TiO2/MWCNT硅烷复合膜。扫描电子显微镜结果表明，电沉积法制备的BTESPT硅烷膜与提拉法制备的BTESPT硅烷膜相比，膜层的厚度、致密性以及成膜均匀性有明显的增加。动电位极化曲线结果表明，阴极电沉积法制备的硅烷复合膜要比浸渍法制备的复合膜更为有效的抑制腐蚀介质的浸入；电化学阻抗结果对比表明了阴极电沉积法制备的BTESPT/TiO2/MWCNT硅烷复合膜的耐蚀性能要好于BTESPT/TiO2复合膜，两者对比提拉法制备的BTESPT/TiO2复合膜，其耐蚀性能提高的非常明显。一方面由于阴极电沉积法的催化作用在阴极处生成大量的OH-，有助于增加膜层与基体之间形成Si-O-Me和Ti-O-Me化合键，使结合力增强；同时MWCNT上的羧基的引入能够与TiO2和BTESPT的基团化合成键，提高了膜层的致密性并防止膜层的脱落。
二、TiO_2复合膜的耐蚀性能研究（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、TiO_2复合膜的耐蚀性能研究（论文提纲范文）
（1）镁合金表面ZrO2（TiO2）-MAO超疏水膜的制备及耐蚀性研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 镁合金简介 |
| 1.1.1 镁合金的特性及应用 |
| 1.1.2 镁合金的电化学腐蚀 |
| 1.2 镁合金的防护 |
| 1.2.1 合金化处理 |
| 1.2.2 表面处理 |
| 1.3 超疏水表面润湿理论及其在金属表面上的应用 |
| 1.3.1 影响表面润湿性的因素 |
| 1.3.2 润湿理论模型 |
| 1.3.3 超疏水涂层在金属表面的应用 |
| 1.4 本课题的研究目的及内容 |
| 2 实验部分 |
| 2.1 实验方案设计 |
| 2.2 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的制备 |
| 2.2.1 ZrO2 薄膜的制备 |
| 2.2.2 ZrO2-MAO复合膜的制备 |
| 2.2.3 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的制备 |
| 2.3 FAS/TiO2-MAO复合膜的制备 |
| 2.3.1 TiO2-MAO复合膜的制备 |
| 2.3.2 FAS/TiO_2-MAO复合膜的制备 |
| 2.4 实验原材料与实验试剂 |
| 2.4.1 实验基底 |
| 2.4.2 实验试剂 |
| 2.5 实验仪器设备 |
| 2.5.1 基底处理及薄膜的制备仪器 |
| 2.5.2 分析测试仪器 |
| 3 超疏水ZrO_2-MAO复合膜的表征 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 DUV光照辅助低温处理下ZrO_2薄膜的表征 |
| 3.2.1 ZrO2 薄膜的感光性分析 |
| 3.2.2 ZrO_2薄膜的光学性能分析 |
| 3.2.3 ZrO2 薄膜的XPS分析 |
| 3.3 不同处理工艺下ZrO_2-MAO复合膜的表征 |
| 3.3.1 ZrO_2-MAO复合膜的XRD分析 |
| 3.3.2 ZrO_2-MAO复合膜的表面形貌分析 |
| 3.3.3 ZrO_2-MAO复合膜的极化曲线分析 |
| 3.3.4 ZrO_2-MAO复合膜的阻抗分析 |
| 3.4 超疏水ZrO_2-MAO复合膜的表征 |
| 3.4.1 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的表面形貌分析 |
| 3.4.2 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的润湿性及润湿机理分析 |
| 3.4.3 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的极化曲线分析 |
| 3.4.4 FAS/ZrO_2-MAO复合膜的阻抗分析 |
| 3.4.5 长期浸泡实验 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 超疏水TiO_2-MAO复合膜的表征 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 超疏水TiO_2-MAO复合膜的表征 |
| 4.2.1 FAS/TiO_2-MAO复合膜的XPS分析 |
| 4.2.2 FAS/TiO_2-MAO复合膜的表面形貌分析 |
| 4.2.3 FAS/TiO_2-MAO复合膜的润湿性分析 |
| 4.2.4 FAS/TiO_2-MAO复合膜的极化曲线分析 |
| 4.2.5 FAS/TiO_2-MAO复合膜的阻抗分析 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的论文及专利 |
（2）可降解医用镁合金表面微弧氧化/聚合物复合膜层植入体的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 选题背景及意义 |
| 1.2 镁及镁合金作为可降解生物材料的应用 |
| 1.2.1 镁及镁合金作为生物材料的优势 |
| 1.2.2 镁及镁合金作为生物材料的限制 |
| 1.2.3 合金化 |
| 1.2.4 热处理及挤压态 |
| 1.3 医用镁合金表面微弧氧化 |
| 1.3.1 微弧氧化电参数 |
| 1.3.2 微弧氧化电解液 |
| 1.4 可降解镁基复合材料的研究进展 |
| 1.4.1 合成聚合物复合膜层 |
| 1.4.2 天然聚合物复合膜层 |
| 1.4.3 陶瓷一聚合物复合材料 |
| 1.4.4 层层自组装技术 |
| 1.5 现存的主要问题 |
| 1.6 本文的主要研究内容 |
| 1.7 本文的主要创新点 |
| 第2章 试验材料和研究方法 |
| 2.1 试验材料 |
| 2.1.1 试验原料 |
| 2.1.2 试验试剂 |
| 2.2 合金制备 |
| 2.2.1 镁合金的熔炼 |
| 2.2.2 镁合金均匀化处理 |
| 2.2.3 镁合金挤压加工 |
| 2.3 微弧氧化陶瓷膜层的制备 |
| 2.3.1 试样预处理及膜层制备 |
| 2.3.2 电解液的配制 |
| 2.3.3 微弧氧化电参数 |
| 2.4 层层自组装膜层的制备 |
| 2.4.1 不同层数含A/W的LbL复合膜层制备 |
| 2.4.2 不同层数含TiO_2的LbL复合膜层的制备 |
| 2.4.3 不同TiO_2含量的LbL复合膜层制备 |
| 2.5 分析测试方法 |
| 2.5.1 扫描电子显微镜 |
| 2.5.2 X射线衍射分析 |
| 2.5.3 傅里叶变换红外光谱 |
| 2.5.4 电化学性能测试 |
| 2.5.5 接触角测量 |
| 2.5.6 膜层厚度测量 |
| 2.5.7 粗糙度测量 |
| 2.5.8 膜层结合力测试 |
| 2.5.9 镁合金力学性能测试 |
| 2.6 体外生物试验测试 |
| 2.6.1 体外降解性能研究 |
| 2.6.2 体外生物活性表征 |
| 2.6.3 抗菌试验 |
| 2.6.4 体外细胞增殖粘附试验 |
| 2.6.5 血小板黏附测试 |
| 2.7 体内实验 |
| 2.7.1 小鼠全身急性毒性试验 |
| 2.7.2 植入实验 |
| 2.7.3 Micro-CT |
| 2.7.4 骨组织与肌肉切片 |
| 第3章 镁合金基体的组织结构及性能 |
| 3.1 铸态镁合金组织结构及性能 |
| 3.1.1 合金相组成 |
| 3.1.2 合金组织结构 |
| 3.1.3 合金显微硬度 |
| 3.1.4 合金力学性能 |
| 3.1.5 体外浸泡试验 |
| 3.1.6 电化学行为 |
| 3.2 挤压态镁合金的组织结构及性能 |
| 3.2.1 相组成 |
| 3.2.2 显微组织 |
| 3.2.3 力学性能 |
| 3.2.4 电化学行为 |
| 3.3 本章小结 |
| 第4章 自封孔抗菌微弧氧化膜层的性能研究 |
| 4.1 正交试验制备自封孔微弧氧化膜层 |
| 4.1.1 外观,厚度和结合力 |
| 4.1.2 表面形貌及成分分析 |
| 4.1.3 耐蚀性 |
| 4.1.4 相组成 |
| 4.1.5 体外生物相容性 |
| 4.1.6 膜层的生长机理 |
| 4.2 含银抗菌微弧氧化膜层 |
| 4.2.1 结合力 |
| 4.2.2 表面及截面形貌 |
| 4.2.3 耐蚀性 |
| 4.2.4 相组成 |
| 4.2.5 体外降解行为 |
| 4.2.6 体外细胞相容性 |
| 4.2.7 膜层的抗菌性 |
| 4.2.8 全身急性毒性 |
| 4.3 本章小结 |
| 第5章 复合膜层的性能及体内植入实验 |
| 5.1 MAO/CS(含A/W)/肝素钠复合膜层的性能 |
| 5.1.1 相组成及红外光谱分析 |
| 5.1.2 动电位极化曲线 |
| 5.1.3 表面形貌 |
| 5.2 不同层数含TiO_2的LbL复合膜层性能 |
| 5.2.1 膜厚与粗糙度 |
| 5.2.2 接触角测量结果分析 |
| 5.2.3 复合膜层的相组成 |
| 5.2.4 电化学行为 |
| 5.2.5 表面及截面微观形貌 |
| 5.2.6 血小板黏附测试 |
| 5.3 不同TiO_2含量的LbL复合膜层的性能 |
| 5.3.1 接触角 |
| 5.3.2 粗糙度及膜层厚度 |
| 5.3.3 表面及截面微观形貌和元素分祈 |
| 5.3.4 膜层相组成 |
| 5.3.5 电化学极化曲线和阻抗谱 |
| 5.3.6 膜层体外降解行为 |
| 5.3.7 细胞相容性 |
| 5.3.8 全身急性毒性 |
| 5.4 体内植入实验 |
| 5.4.1 体重变化 |
| 5.4.2 Micro-CT |
| 5.4.3 肌肉组织切片分析 |
| 5.4.4 骨组织切片分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 结论及展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文及发明专利 |
| 附件 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 |
（3）AZ31镁合金纳米复合膜设计与腐蚀行为（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 镁合金概论 |
| 1.2 镁合金的腐蚀与防护 |
| 1.2.1 镁合金的腐蚀 |
| 1.2.2 镁合金的腐蚀防护策略 |
| 1.3 镁合金表面改性技术 |
| 1.4 原子层沉积技术 |
| 1.4.1 原子层沉积的基本原理 |
| 1.4.2 原子层沉积的技术特点 |
| 1.5 本论文研究的意义与主要内容 |
| 1.5.1 研究意义 |
| 1.5.2 主要研究内容 |
| 第2章 实验材料及研究方法 |
| 2.1 技术路线图 |
| 2.2 试样材料及预处理 |
| 2.3 实验设备 |
| 2.4 薄膜的制备 |
| 2.4.1 GaN/Al_2O_3复合薄膜的制备 |
| 2.4.2 TiN/TiO_2复合薄膜的制备 |
| 2.5 显微组织观测 |
| 2.5.1 金相显微镜(OM) |
| 2.5.2 扫描电子显微镜(SEM) |
| 2.5.3 X射线衍射法(XRD) |
| 2.5.4 X射线光电子能谱分析(XPS) |
| 2.5.5 X射线全反射(XRR) |
| 2.6 力学性能测试 |
| 2.6.1 硬度试验 |
| 2.6.2 纳米压痕仪 |
| 2.7 腐蚀性能测试 |
| 2.7.1 中性盐雾实验 |
| 2.7.2 电化学实验 |
| 第3章 AZ31镁合金GaN/Al_2O_3复合薄膜腐蚀行为研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 薄膜制备方案 |
| 3.3 AZ31镁合金GaN/Al_2O_3复合薄膜的组织表征 |
| 3.3.1 金相组织分析(OM) |
| 3.3.2 扫描电镜及能谱分析(SEM、EDS) |
| 3.3.3 反射率测量分析(XRR) |
| 3.3.4 掠入射X射线衍射分析(GIXRD) |
| 3.3.5 X射线光电子能谱分析(XPS) |
| 3.4 AZ31镁合金GaN/Al_2O_3复合薄膜的力学性能表征 |
| 3.4.1 显微硬度测试 |
| 3.4.2 纳米压痕测试 |
| 3.5 AZ31镁合金GaN/Al_2O_3复合薄膜的腐蚀性能表征 |
| 3.5.1 中性盐雾测试 |
| 3.5.2 掠入射X射线衍射分析(GIXRD) |
| 3.5.3 动电位极化曲线测试 |
| 3.5.4 电化学阻抗谱测试 |
| 3.6 AZ31镁合金GaN/Al_2O_3复合薄膜的腐蚀机理分析 |
| 3.7 本章小结 |
| 第4章 AZ31镁合金TiN/TiO_2复合薄膜腐蚀行为研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 TiN/TiO_2复合薄膜制备方案 |
| 4.3 AZ31镁合金TiN/TiO_2复合薄膜的组织表征 |
| 4.3.1 金相组织分析(OM) |
| 4.3.2 扫描电镜及能谱分析(SEM、EDS) |
| 4.3.3 反射率测量分析(XRR) |
| 4.3.4 掠入射X射线分析(GIXRD) |
| 4.3.5 X射线光电子光电子能谱深度探测分析(XPS-depth) |
| 4.4 AZ31镁合金TiN/TiO_2复合薄膜的力学性能表征 |
| 4.4.1 显微硬度测试 |
| 4.4.2 纳米压痕测试 |
| 4.5 AZ31镁合金TiN/TiO_2复合薄膜的腐蚀性能表征 |
| 4.5.1 扫描电镜及能谱分析(SEM、EDS) |
| 4.5.2 动电位极化曲线测试 |
| 4.5.3 电化学阻抗谱分析 |
| 4.6 AZ31镁合金TiN/TiO_2复合薄膜的腐蚀机理分析 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 复合薄膜耐腐蚀性能的对比分析 |
| 5.1 GaN/Al_2O_3和TiN/TiO_2复合薄膜的对比分析 |
| 5.2 含TiN组元其他复合薄膜的腐蚀性能评价 |
| 5.3 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间的研究成果 |
（4）磁致涡流效应对阳极箔扩面增容的影响研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 文献综述 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 铝电解电容器简介 |
| 1.2.1 铝电解电容器发展历程及现状 |
| 1.2.2 铝电解电容器的结构特点 |
| 1.2.3 阳极箔增容机理 |
| 1.3 提高比表面积S扩面增容研究进展 |
| 1.3.1 光箔结构及组成 |
| 1.3.2 电化学腐蚀工艺及参数 |
| 1.3.3 缓蚀扩面增容 |
| 1.4 提高介电常数ε_r增容研究进展 |
| 1.4.1 复合铝氧化膜 |
| 1.4.2 晶型铝氧化膜 |
| 1.5 论文选题目的、研究思路和研究内容 |
| 1.5.1 存在的问题 |
| 1.5.2 研究思路及主要研究内容 |
| 第二章 磁致涡流效应对阳极箔形貌及比电容的影响 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验部分 |
| 2.2.1 试剂与仪器 |
| 2.2.2 实验过程 |
| 2.2.3 结构表征 |
| 2.2.4 电化学性能测试 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 XRD分析 |
| 2.3.2 吸附平衡等温线比表面积分析 |
| 2.3.3 形貌分析 |
| 2.3.4 阳极箔计时电位曲线分析 |
| 2.3.5 阳极箔Tafel极化曲线分析 |
| 2.3.6 阳极箔循环伏安曲线分析 |
| 2.3.7 阳极箔交流阻抗曲线分析 |
| 2.4 本章结论 |
| 第三章 磁场作用下十二烷基苯磺酸钠对阳极铝箔缓蚀性能及比电容的影响 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 试剂与仪器 |
| 3.2.2 实验过程 |
| 3.2.3 结构表征 |
| 3.2.4 电化学性能测试 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 SDBS缓蚀机理 |
| 3.3.2 XRD衍射谱图 |
| 3.3.3 腐蚀箔表面蚀孔及截面形貌 |
| 3.3.4 EDS能谱图 |
| 3.3.5 腐蚀箔表面形貌及S元素分布图 |
| 3.3.6 电化学性能测定 |
| 3.4 本章结论 |
| 第四章 磁致涡流效应对化成铝箔Al2O_3-TiO_2复合膜结构及性能的影响 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 试剂与仪器 |
| 4.2.2 实验过程 |
| 4.2.3 结构表征 |
| 4.2.4 电化学性能测试 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 XRD衍射谱图 |
| 4.3.2 腐蚀箔表面及蚀孔形貌 |
| 4.3.3 EDS能谱图 |
| 4.3.4 热处理箔截面/表面形貌及Ti元素分布图 |
| 4.3.5 电化学性能测定 |
| 4.4 本章结论 |
| 第五章 结论与展望 |
| 5.1 全文工作总结论 |
| 5.2 论文的创新之处 |
| 5.3 前景展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 硕士研究生期间的科研成果 |
（5）铋基化合物改性的TiO2纳米管膜及其光生阴极保护效应（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 金属腐蚀与防护 |
| 1.2 光生阴极保护 |
| 1.2.1 光生阴极保护原理 |
| 1.2.2 金属与半导体的连接方式 |
| 1.3 TiO_2纳米材料的基本性质 |
| 1.4 TiO_2纳米管的制备 |
| 1.4.1 模板法 |
| 1.4.2 水热法 |
| 1.4.3 电化学阳极氧化法 |
| 1.4.3.1 发展历程 |
| 1.4.3.2 氧化机理 |
| 1.4.3.3 影响因素 |
| 1.4.3.4 热处理过程 |
| 1.4.4 制备方法的比较 |
| 1.5 TiO_2纳米材料的改性 |
| 1.5.1 贵金属负载 |
| 1.5.2 金属离子掺杂 |
| 1.5.3 非金属掺杂 |
| 1.5.4 染料敏化 |
| 1.5.5 半导体复合 |
| 1.6 TiO_2纳米材料对不锈钢的光生阴极保护效应 |
| 1.6.1 光阳极材料 |
| 1.6.2 空穴捕获剂 |
| 1.7 本工作的研究内容和意义 |
| 1.7.1 研究内容 |
| 1.7.2 研究意义 |
| 参考文献 |
| 第二章 实验技术与仪器 |
| 2.1 试剂和材料 |
| 2.2 仪器 |
| 2.3 TiO_2纳米管膜的制备 |
| 2.4 403不锈钢电极的制备 |
| 2.5 形貌和成分表征 |
| 2.6 光吸收和光电化学性能测试 |
| 2.6.1 暂态光电流 |
| 2.6.2 紫外-可见吸收光谱 |
| 2.6.3 光致发光光谱 |
| 2.7 光生阴极保护性能测试 |
| 2.7.1 电极电位 |
| 2.7.2 Tafel极化曲线 |
| 2.7.3 电化学阻抗谱 |
| 参考文献 |
| 第三章 BiVO_4/TiO_2纳米管复合膜的制备及其光生阴极保护效应 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验 |
| 3.2.1 BiVO_4/TiO_2复合膜的制备 |
| 3.2.2 形貌和成分表征 |
| 3.2.3 光吸收和光电化学性能测试 |
| 3.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 SEM分析 |
| 3.3.2 TEM分析 |
| 3.3.3 XRD分析 |
| 3.3.4 XPS分析 |
| 3.3.5 Raman分析 |
| 3.3.6 暂态光电流分析 |
| 3.3.7 UV-Vis吸收光谱分析 |
| 3.3.8 PL光谱分析 |
| 3.3.9 电极电位分析 |
| 3.3.10 Tafel极化曲线分析 |
| 3.3.11 电化学阻抗谱分析 |
| 3.3.12 机理分析 |
| 3.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 BiFeO_3/TiO_2纳米管复合膜的制备及其光生阴极保护效应 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验 |
| 4.2.1 BiFeO_3/TiO_2复合膜的制备 |
| 4.2.2 形貌和成分表征 |
| 4.2.3 光吸收和光电化学性能测试 |
| 4.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 SEM和EDS分析 |
| 4.3.2 TEM分析 |
| 4.3.3 XRD分析 |
| 4.3.4 XPS分析 |
| 4.3.5 暂态光电流分析 |
| 4.3.6 UV-Vis吸收光谱分析 |
| 4.3.7 PL光谱分析 |
| 4.3.8 电极电位分析 |
| 4.3.9 电化学阻抗谱分析 |
| 4.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 Bi_2S_3/CdSe/TiO_2纳米管复合膜的制备及其光生阴极保护效应 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验 |
| 5.2.1 CdSe/TiO_2复合膜的制备 |
| 5.2.2 Bi_2S_3/CdSe/TiO_2复合膜的制备 |
| 5.2.3 形貌和成分表征 |
| 5.2.4 光吸收和光电化学性能测试 |
| 5.2.5 光生阴极保护性能测试 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 SEM分析 |
| 5.3.2 XRD分析 |
| 5.3.3 XPS分析 |
| 5.3.4 暂态光电流分析 |
| 5.3.5 UV-Vis吸收光谱分析 |
| 5.3.6 PL光谱分析 |
| 5.3.7 电极电位分析 |
| 5.3.8 电化学阻抗谱分析 |
| 5.3.9 Bi_2S_3/CdSe/TiO_2复合膜的光电转换机理分析 |
| 5.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表与交流的论文 |
| 致谢 |
（6）纳米阵列半导体复合膜的构筑及其光生阴极保护效应（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| 英文摘要 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 金属腐蚀与防护概述 |
| 1.1.1 金属腐蚀及其危害 |
| 1.1.2 金属腐蚀类型 |
| 1.1.3 金属腐蚀防护 |
| 1.2 光生阴极保护 |
| 1.2.1 光生阴极保护原理 |
| 1.2.2 光生阴极保护系统 |
| 1.3 纳米TiO_2半导体 |
| 1.3.1 半导体简介 |
| 1.3.2 TiO_2半导体 |
| 1.3.3 纳米TiO_2半导体的改性 |
| 1.3.3.1 离子掺杂 |
| 1.3.3.2 贵金属负载 |
| 1.3.3.3 染料敏化 |
| 1.3.3.4 半导体复合 |
| 1.3.4 纳米TiO_2半导体光电化学应用 |
| 1.3.4.1 光解水制氢 |
| 1.3.4.2 光催化降解 |
| 1.3.4.3 太阳能电池 |
| 1.3.4.4 传感器 |
| 1.3.4.5 金属腐蚀防护 |
| 1.4 半导体光阳极材料研究进展 |
| 1.4.1 一元半导体光阳极 |
| 1.4.2 二元复合半导体光阳极 |
| 1.4.2.1 可见光响应 |
| 1.4.2.2 电荷分离效率 |
| 1.4.2.3 储能特性 |
| 1.4.2.4 其他二元复合光阳极 |
| 1.4.3 多元复合半导体光阳极 |
| 1.5 本工作研究内容与目的 |
| 参考文献 |
| 第二章 实验技术与仪器 |
| 2.1 试剂与材料 |
| 2.1.1 试剂 |
| 2.1.2 材料 |
| 2.2 样品制备 |
| 2.2.1 阳极氧化法制备TiO_2纳米管阵列膜 |
| 2.2.2 水热法制备TiO_2纳米棒阵列膜 |
| 2.2.3 水热法制备WO_3纳米片阵列膜 |
| 2.3 样品表征 |
| 2.3.1 微观形貌观测 |
| 2.3.2 化学成分分析 |
| 2.4 光吸收和光电化学性能表征 |
| 2.4.1 紫外-可见吸收光谱 |
| 2.4.2 光致发光光谱 |
| 2.4.3 Mott-Schottky曲线 |
| 2.4.4 光电流响应 |
| 2.4.5 光电位响应 |
| 2.4.6 电化学阻抗谱 |
| 2.5 光生阴极保护测试 |
| 2.5.1 403SS电极的制备 |
| 2.5.2 光生阴极保护性能测试 |
| 2.5.3 403SS电化学阻抗谱测试 |
| 参考文献 |
| 第三章 β-Bi_2O_3/TiO_2纳米管复合膜制备及其光生阴极保护性能 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验 |
| 3.2.1 β-Bi_2O_3/TiO_2纳米管阵列复合膜的制备 |
| 3.2.2 样品的表征 |
| 3.2.3 光电化学性能测试 |
| 3.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 样品形貌分析 |
| 3.3.2 样品成分分析 |
| 3.3.3 光吸收和光电化学性能 |
| 3.3.4 光生阴极保护性能 |
| 3.3.5 光生阴极保护机理 |
| 3.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 Ag/g-C_3N_4/TiO_2纳米管复合膜的构建及其光生阴极保护作用 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验 |
| 4.2.1 样品的制备 |
| 4.2.2 样品的表征 |
| 4.2.3 光电化学性能测试 |
| 4.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 样品形貌与成分表征 |
| 4.3.2 光吸收和光电化学性能 |
| 4.3.3 光生阴保护性能 |
| 4.3.4 电化学阻抗谱 |
| 4.3.5 机理探讨 |
| 4.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 g-C_3N_4/SrTiO_3/TiO_2纳米棒复合光阳极的制备及其光生阴极保护效应 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验 |
| 5.2.1 g-C_3N_4/SrTiO_3/TiO_2纳米棒阵列复合膜制备 |
| 5.2.2 样品表征 |
| 5.2.3 光吸收和光电化学性能测试 |
| 5.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 样品形貌 |
| 5.3.2 样品成分分析 |
| 5.3.3 光吸收和光电化学性能 |
| 5.3.4 电化学性能 |
| 5.3.5 光生阴极保护效应 |
| 5.3.6 g-C_3N_4/SrTiO_3/TiO_2复合膜光生阴极保护机理 |
| 5.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 WO_3纳米片复合膜的制备及其对403不锈钢的光生阴极保护效应 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 实验 |
| 6.2.1 WO_3基光阳极的设计与制备 |
| 6.2.2 样品表征 |
| 6.2.3 光吸收和光电化学性能测试 |
| 6.2.4 光生阴极保护性能测试 |
| 6.3 结果与讨论 |
| 6.3.1 样品形貌 |
| 6.3.2 样品成分 |
| 6.3.3 光吸收和光电化学性能 |
| 6.3.4 光电转换效应 |
| 6.3.5 光生阴极保护性能 |
| 6.3.6 光生阴极保护机理 |
| 6.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第七章 总结与展望 |
| 7.1 总结 |
| 7.2 展望 |
| 作者攻读博士学位期间发表与交流的论文 |
| 致谢 |
（7）铝合金表面硅烷/石墨烯复合膜的制备及耐蚀性研究（论文提纲范文）
| 学位论文数据集 |
| 摘要 |
| abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 铝合金性质及其应用 |
| 1.1.1 铝合金的耐蚀性及分类 |
| 1.1.2 铝合金腐蚀类型 |
| 1.1.3 铝合金腐蚀的防护 |
| 1.2 金属表面硅烷处理研究 |
| 1.2.1 硅烷偶联剂的应用及结构 |
| 1.2.2 硅烷水解液 |
| 1.2.3 金属表面硅烷处理的目的及种类 |
| 1.2.4 金属表面硅烷处理研究进展 |
| 1.3 石墨烯及其防腐应用 |
| 1.3.1 石墨烯简介 |
| 1.3.2 氧化石墨烯 |
| 1.3.3 石墨烯的应用 |
| 1.3.4 石墨烯在材料防腐中的应用 |
| 1.4 论文的研究内容及意义 |
| 1.4.1 论文的研究内容 |
| 1.4.2 论文的研究意义 |
| 参考文献 |
| 第二章 GPTMS的水解及硅烷膜的耐蚀性研究 |
| 2.1 前言 |
| 2.1.1 水解及吸附 |
| 2.1.2 GPTMS |
| 2.2 实验方法 |
| 2.2.1 实验材料 |
| 2.2.2 试样的制备 |
| 2.2.3 试样的表征 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 水解产物的结构及硅烷膜表观形貌 |
| 2.3.2 硅烷膜表面官能团 |
| 2.3.3 微观形貌 |
| 2.3.4 硅烷膜热稳定性及硬度 |
| 2.3.5 耐蚀性测试 |
| 2.4 小节 |
| 参考文献 |
| 第三章 GPTMS/rGO膜的制备及耐蚀性能研究 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 rGO膜和GPTMS/rGO的制备 |
| 3.2.1 实验材料 |
| 3.2.2 GO和rGO膜的制备 |
| 3.2.3 GPTMS/rGO膜的制备 |
| 3.3 膜层的表征 |
| 3.3.1 电化学测试 |
| 3.3.2 光谱分析 |
| 3.3.3 形貌观察 |
| 3.3.4 成分及结构分析 |
| 3.3.5 显微力学测试 |
| 3.3.6 热重分析 |
| 3.4 GO膜的结构及形貌 |
| 3.4.1 GO的结构 |
| 3.4.2 GO的厚度 |
| 3.4.3 GO和rGO膜表面官能团 |
| 3.5 GPTMS/rGO膜的结构及性能 |
| 3.5.1 GPTMS/rGO膜的工艺参数 |
| 3.5.2 GPTMS/rGO膜FTIR和XPS |
| 3.5.3 GPTMS/rGO的晶体结构 |
| 3.5.4 GPTMS/rGO微观形貌及结构 |
| 3.5.5 GPTMS/rGO成膜过程 |
| 3.5.6 GPTMS/rGO机械性能及热性能 |
| 3.5.7 GPTMS/rGO耐蚀性能研究 |
| 3.6 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 FG/rGO膜的制备及性能研究 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 试样制备 |
| 4.2.2 FG/rGO膜的表征 |
| 4.3 FG/rGO的结构及性能 |
| 4.3.1 FG/rGO表面成分及润湿性 |
| 4.3.2 FG/rGO耐蚀性研究 |
| 4.3.3 FG/rGO表面形貌 |
| 4.3.4 FG/rGO机械性能及热稳定性 |
| 4.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 HG/rGO膜的制备及性能研究 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 实验部分 |
| 5.2.1 试样的制备 |
| 5.2.2 试样的表征 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 8-HQ缓蚀效果研究 |
| 5.3.2 HG/rGO表面成分及形貌 |
| 5.3.3 耐蚀性研究 |
| 5.3.4 HG/rGO热稳定性及显微硬度 |
| 5.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 6.3 创新点 |
| 致谢 |
| 发表和正在撰写的学术论文 |
| 作者及导师简介 |
| 附件 |
（8）铝合金复合阳极氧化的研究现状及进展（论文提纲范文）
| 1 复合阳极氧化膜制备工艺及特点 |
| 2 常见复合阳极氧化膜的研究进展 |
| 2.1 添加SiC粉体复合阳极氧化膜 |
| 2.1.1 沉积机理 |
| 2.1.2 复合膜层性能影响因素 |
| 2.2 添加铈盐复合阳极氧化膜 |
| 2.2.1 沉积机理 |
| 2.2.2 复合膜层性能影响因素 |
| 2.3 添加PTFE材料复合阳极氧化膜 |
| 2.3.1 沉积机理 |
| 2.3.2 复合膜层性能影响因素 |
| 2.4 添加其他材料复合阳极氧化膜 |
| 3 结语和展望 |
（9）磁体表面功能性Al基薄膜制备及性能研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 烧结型NdFeB永磁体材料的腐蚀与防护 |
| 1.2.1 NdFeB永磁材料 |
| 1.2.2 NdFeB永磁材料的腐蚀及机理 |
| 1.2.3 NdFeB永磁材料的防护技术 |
| 1.3 NdFeB磁性材料在室温离子液体中电沉积Al膜的研究现状 |
| 1.4 纳米材料光生阴极保护原理及其于金属防腐中应用 |
| 1.4.1 纳米TiO_2的基本性质 |
| 1.4.2 纳米氧化锌的基本性质 |
| 1.4.3 纳米材料光生阴极保护原理 |
| 1.4.4 纳米半导体材料在金属防腐中的应用 |
| 1.5 本课题研究的目的及内容 |
| 1.5.1 本课题研究的目的 |
| 1.5.2 本课题研究的内容 |
| 2 实验材料及测试方法 |
| 2.1 实验材料 |
| 2.1.1 基底材料NdFeB的组成成份 |
| 2.1.2 主要药品 |
| 2.1.3 主要仪器 |
| 2.2 实验过程 |
| 2.3 测试方法 |
| 2.3.1 NdFeB表面Al膜的耐蚀性测试 |
| 2.3.2 复合膜的光电化学性能测试 |
| 2.3.3 表面形貌及成分分析 |
| 2.3.4 薄膜晶体结构测试 |
| 2.3.5 硬度测试 |
| 2.3.6 膜厚测试 |
| 2.3.7 吸收透射光谱测试 |
| 2.3.8 胶体性能测试 |
| 3 NdFeB在离子液体中脉冲电沉积Al膜 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验结果及测试分析 |
| 3.2.1 沉积电流密度对NdFeB表面电沉积Al膜的影响 |
| 3.2.2 脉冲频率对NdFeB表面电沉积Al膜的影响 |
| 3.2.3 脉冲占空比对NdFeB表面电沉积Al膜的影响 |
| 3.2.4 脉冲频率和占空比对NdFeB表面电沉积Al膜耐蚀性的影响 |
| 3.3 本章小结 |
| 4 NdFeB表面复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO的制备及光生阴极保护性能研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO薄膜的性能测试与结果分析 |
| 4.2.1 溶胶体系的性能表征 |
| 4.2.2 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO的结构分析 |
| 4.2.3 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO的表面形貌分析 |
| 4.2.4 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO对紫外可见光的吸收和透射结果分析 |
| 4.2.5 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO的光电性能测试结果分析 |
| 4.2.6 复合膜Al/TiO_2和Al/ZnO的光生阴极保护 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 NdFeB表面功能性复合膜Al/TiO_2/ZnO制备及光生阴极保护性能研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 复合膜Al/TiO_2/ZnO的性能分析 |
| 5.2.1 复合膜Al/TiO_2/ZnO的结构分析 |
| 5.2.2 Al基功能性薄膜对紫外可见光吸收透射图谱结果分析 |
| 5.2.3 Al基功能性薄膜的光电性能分析 |
| 5.2.4 Al基功能性薄膜NdFeB的光生阴极保护 |
| 5.3 本章小结 |
| 6 结论和展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 作者简历 |
（10）金属表面硅烷复合膜的制备及在海水中的腐蚀性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 前言 |
| 1.2 不锈钢的腐蚀机理及其研究现状 |
| 1.3 铝合金的腐蚀机理及其研究现状 |
| 1.3.1 铝合金的腐蚀现状 |
| 1.3.2 铝合金表面化学前处理 |
| 1.3.3 铝合金表面氧化膜处理工艺 |
| 1.4 金属防护手段 |
| 1.4.1 电化学保护技术 |
| 1.4.2 缓蚀剂保护 |
| 1.4.3 表面涂层技术 |
| 1.5 硅烷偶联剂 |
| 1.5.1 硅烷偶联剂的结构特征及作用机理 |
| 1.5.2 硅烷偶联剂在复合材料中的应用 |
| 1.5.3 金属表面硅烷防腐涂层的研究现状 |
| 1.6 本文的选题思路和主要的研究内容 |
| 1.6.1 选题思路 |
| 1.6.2 论文主要研究内容 |
| 2 304 不锈钢表面 BTESPT/TiO_2/MWCNT 复合膜的制备及其耐蚀性能研究 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验试剂及仪器 |
| 2.3 实验部分 |
| 2.3.1 304 不锈钢基体的预处理 |
| 2.3.2 提拉法制备 BTESPT/TiO_2/MWCNT 硅烷复合膜 |
| 2.3.3 测试方法 |
| 2.4 结果与讨论 |
| 2.4.1 304 不锈钢表面 BTESPT/TiO_2/MWCNT 硅烷复合膜的制备与表征 |
| 2.4.2 BTESPT/TiO_2/MWCNT 硅烷复合膜的耐蚀性及稳定性研究 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 2024 铝合金表面 BTESPT 硅烷膜及硅烷复合膜的制备及其耐蚀性能研究 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 实验仪器及药品 |
| 3.3 实验部分 |
| 3.3.1 2024 铝合金基体的表面处理 |
| 3.3.2 电沉积法制备硅烷膜及硅烷复合膜 |
| 3.3.3 测试方法 |
| 3.4 结果与讨论 |
| 3.4.1 2024 铝合金表面提拉法制备 BTESPT/TiO_2硅烷复合膜 |
| 3.4.2 沉积电压对 BTESPT 硅烷膜电化学性能的影响 |
| 3.4.3 阴极电泳沉积法在 2024 铝合金表面 BTESPT/TiO_2硅烷复合膜的制备与表征 |
| 3.4.4 阴极电泳沉积法在 2024 铝合金表面 BTESPT/TiO_2/MWCNT 硅烷复合膜的制备及其表征 |
| 3.4.5 BTESPT/TiO_2/MWCNT 硅烷复合膜耐蚀性测试 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 总结与展望 |
| 4.1 本论文的主要结论 |
| 4.2 论文创新点 |
| 4.3 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
| 发表的学术论文 |
四、TiO_2复合膜的耐蚀性能研究（论文参考文献）
- [1]镁合金表面ZrO2（TiO2）-MAO超疏水膜的制备及耐蚀性研究[D]. 屈莉莎. 西安理工大学, 2021(01)
- [2]可降解医用镁合金表面微弧氧化/聚合物复合膜层植入体的研究[D]. 陈阳. 山东大学, 2020(04)
- [3]AZ31镁合金纳米复合膜设计与腐蚀行为[D]. 徐福民. 南昌大学, 2020(01)
- [4]磁致涡流效应对阳极箔扩面增容的影响研究[D]. 王天鹏. 扬州大学, 2019(02)
- [5]铋基化合物改性的TiO2纳米管膜及其光生阴极保护效应[D]. 王霞. 厦门大学, 2019(08)
- [6]纳米阵列半导体复合膜的构筑及其光生阴极保护效应[D]. 官自超. 厦门大学, 2019(07)
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