导读:本文包含了显影模拟论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:光栅,介质波导,单模共振干涉,光刻
显影模拟论文文献综述
杨正,张志友,李淑红,高福华,杜惊雷[1]（2013）在《单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究》一文中研究指出针对纳米光栅的加工需求,提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法。该方法以柱形光栅耦合结构为掩模,结合光刻胶和基底层形成介质波导,入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成干涉条纹,光刻胶作为波导层,可将入射光光强增强25～50倍,从而大大提高了光能利用率。采用441nm的入射光,通过模拟计算,可以得到周期小于λ/3、凹槽宽度为42～88nm(λ/10～λ/5)的纳米结构。(本文来源于《光学学报》期刊2013年05期）
包国俊[2]（2012）在《模拟论证：让思辩显影》一文中研究指出把作战模拟论证、信息网络等现代化手段引入军事理论研究，所有重点课题都要经过模拟论证平台进行数字仿真验证……10年来，有着“中国军事智库”之称的军事科学院，科研工作实现历史性转型，大步迈进模拟论证时代。 战争能否打赢，先用实验说话，用数据回答。(本文来源于《解放军报》期刊2012-09-04）
瞿宏璟[3]（2012）在《湿式氧化法处理模拟显影废水的研究》一文中研究指出感光材料废水（包括废显影液与废定影液）是一种典型的高浓度、难降解、具有生物毒性的废水，其主要成分（感光材料）属《国家危险废物名录》中HW16类危险废物。本课题以湿式氧化技术处理由米吐尔配置的模拟显影废水，研究该处理技术对米吐尔的去除效果、影响因素及降解机理，以期为显影废液的处理提供新的思路。本研究以COD去除率作为技术指标，考察了反应温度、反应氧分压、溶液初始pH值、搅拌速率和米吐尔初始浓度等参数对米吐尔模拟废水的降解效果影响，确定最适降解条件。结果表明湿式氧化法对米吐尔模拟废水有着较好的处理效果，在最适反应条件下，处理60min后COD去除率可以达到85.1%。同时，实验结果表明温度是影响湿式氧化处理效果的主要因素，随着温度的升高，湿式氧化处理效果明显提高。而溶液的初始pH值是另一个重要的影响因素。研究结果表明，酸性条件更有利于米吐尔的氧化降解。氧分压、搅拌速率等因素对降解效果影响较小，但能有效提高初始阶段的反应速率。米吐尔浓度为6.00g/L时最适反应条件为：反应温度180℃，反应的氧分压1.6MPa，溶液初始pH值3.91（即为6.00g/L米吐尔溶液的原始pH值），搅拌速率300r/min。此外，本研究运用液相色谱-质谱联用法（LC-MS）对米吐尔的降解机理进行了探讨，结果表明米吐尔在酸性及充满羟基的实验环境中，主要依次发生了氧化脱氢反应、聚合反应、加氢加成反应、加水加成反应等，反应生成了聚合物、醌类、酚类和小分子羧酸等物质。(本文来源于《华中科技大学》期刊2012-05-01）
郑宇,王景全,李敏,牛晓云,杜惊雷[4]（2010）在《SPPs光刻曝光显影模拟研究》一文中研究指出基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条件,对表面等离子体激元光刻的进一步工作和实验开展有着重要的意义.(本文来源于《光子学报》期刊2010年05期）
朱小敏,孟建文,赵成如,朱肖杰,罗西友[5]（2010）在《一种新型可显影栓塞剂的体外模拟研究》一文中研究指出以合成的含碘聚合物溶于适宜的溶剂作为栓塞剂,建立体外输送模型和体外栓塞效能模型,观察研究可显影栓塞剂的体外模拟栓塞情况。观察栓塞剂在微导管中的输送情况,筛选出栓塞剂的适宜浓度;观察栓塞剂在体外栓塞效能模型中的栓塞过程,考查栓塞剂的弥散性、栓塞效果等,摸索推注速度及结束点等操作条件,验证栓塞剂的栓塞效能;通过两个模型的实验结果,筛选出了最佳栓塞剂浓度,最佳推注速度和结束点,为下一步做动物实验和临床试验提供了依据。(本文来源于《生物医学工程研究》期刊2010年01期）
孔鹏,巴音贺希格,李文昊,唐玉国[6]（2010）在《全息光栅非对称曝光显影的理论模拟及实时监测》一文中研究指出两束记录光非对称入射必然造成光刻胶中潜像光栅"沟槽"的倾斜,进而影响显影后光栅沟槽的形状。特别是在凹面全息光栅的制作中,两束记录光一般都是非对称入射。为了能够从理论上分析并指导非对称全息光栅的制作,建立了非对称曝光、显影理论模型,重点分析了两束记录光从光栅表面一侧照射的情况。运用此模型模拟了光栅沟槽的形成过程,计算了全息光栅制作中非对称曝光、显影的实时监测曲线。理论计算显示,非对称曝光下,曝光实时监测曲线和显影实时监测曲线变化趋势与对称曝光时相同,只是衍射效率值不同,这与实验结果吻合;数值模拟光栅沟槽的演化发现,非线性效应特别显着时得到的沟槽为倾斜矩形,非线性效应比较显着时得到的沟槽为非对称梯形,非线性效应受到抑制时得到的沟槽为非对称性不明显的正弦形,这与实验结果一致。该模型能够有效地指导全息光栅掩模的制作,有助于为离子束刻蚀工艺提供所需的合格掩模。(本文来源于《光学学报》期刊2010年01期）
崔滨,万旺根,吴永亮,金龙存,杨晓东[7]（2009）在《用点渲染算法实现光刻胶显影过程的叁维模拟(英文)》一文中研究指出用顶点和面片叁维显示光刻胶显影模拟结果的方法不支持海量数据。为此提出基于层次结构的叁维场景绘制点渲染算法,并引入网格插值法填补显影模拟中在光刻胶表面出现的空洞,用Dill算法、Kim模型和介质光线算法建立光刻显影模型。实验结果表明,该方法能高效、精确、实时地绘制光刻显影模型输出的大规模海量数据。(本文来源于《应用科学学报》期刊2009年04期）
陈刚,吴建宏,刘全,陈新荣,李朝明[8]（2009）在《光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验》一文中研究指出为了控制光刻胶全息光栅显影过程,建立了槽形演化和衍射效率模型,模拟了槽形演化和衍射效率曲线,分析了显影监测曲线的特征和规律。并将模拟槽形和实验槽形、模拟监测曲线和实验监测曲线进行对比,均很好地吻合。结果表明衍射效率的监测对把握显影过程停显时刻、控制掩摸槽形非常有效。(本文来源于《光学技术》期刊2009年01期）
范明明[9]（2007）在《光敏热显成像材料热显影过程中影响银离子迁移因素的模拟研究》一文中研究指出光敏热显成像材料(Photothermographic materials,简称PTG材料)是近年来国际感光界的研究热点之一。PTG材料具有成像质量优异,影像保存稳定性高,干式加工便捷无污染等优点,因此尽管传统的卤化银胶片市场正在逐步萎缩,而具有环境友好特点的PTG材料市场仍有着良好的发展前景。当前,国际感光界的学者正在大力开展对PTG材料成像机理方面的研究。其中美国学者Whitcomb和日本学者Maekawa对于PTG材料热显影过程中银离子的迁移及还原过程进行了深入的分析研究,并提出了不同的见解。本论文以邻苯二甲酸(PA)与酞嗪(PHZ)为起始原料,采用液相沉淀法合成了PTG材料热显成像过程中可能存在的含银中间体邻苯二甲酸二银(Ag2PA)与[Ag2PHZ2PA·H2O]配合物,通过元素分析、ICP-AES分析对Ag2PA与[Ag2PHZ2PA·H2O]配合物的元素组成进行了确定,采用XRD、FTIR、TG与DSC等方法对Ag2PA与[Ag2PHZ2PA·H2O]进行了表征,确定了其分子结构。通过对PTG材料热显影过程中银离子迁移过程的分析表明,调色剂PA与PHZ在PTG材料热显影过程中起着改变反应历程,降低反应活化能的作用,Maekawa等提出的银离子迁移路线具有一定的合理性。采用X射线衍射K值分析法,在100~123℃PTG材料热显影温度范围内,研究了山嵛酸银(AgBeh)与PA的固相反应过程。结果表明,AgBeh与PA的固相反应为固态扩散控制过程。在一定的反应时间内,Jander方程能够较好的描述AgBeh与PA的固相反应动力学,反应的表观活化能为84.5 kJ·mol-1,表观频率因子为7.06×107 min-1。AgBeh与PA样品以较小的颗粒度分散于PTG体系中,有利于提高PTG材料的成像速度。通过XRD及FTIR等方法对Ag2PA与PHZ之间的反应进行研究,结果表明Ag2PA与PHZ可以通过固液相反应发生作用,反应物的扩散过程为Ag2PA与PHZ之间反应的控制步骤。测定了调色剂PA、PHZ与6-异丙基酞嗪在粘合剂PVA中的扩散系数。实验表明,温度越高,调色剂的扩散系数越大。在相同的条件下,PHZ与6-异丙基酞嗪的扩散系数均远大于PA的扩散系数。随着粘合剂浓度的增大,PA、PHZ与6-异丙基酞嗪的扩散系数均有所降低,这种降低的趋势在不同的温度条件下均有体现。综合分析认为,对于PA—PHZ的调色剂组合体系,决定银离子迁移速率的主要因素为调色剂PA在粘合剂涂层中的扩散行为,适当增加PTG材料的热显影温度、调整涂层结构与配方以缩短调色剂PA在涂层中的有效扩散距离以及降低PTG材料涂层中粘合剂的浓度均有利于提高PTG材料的显影速度,即提高PTG材料的热显影效率;对于PA—6-异丙基酞嗪的调色剂组合体系,在实际的PTG材料热显成像条件下,调色剂6-异丙基酞嗪的扩散行为会对银离子的迁移速率起到一定的限制作用,而这种限制作用有利于获得色调更佳的银影像。测定了调色剂PA、6-异丙基酞嗪在苯丙乳液粘合剂中的扩散系数并确定了扩散活化能。实验数据显示,PA、6-异丙基酞嗪在苯丙乳液粘合剂中的扩散系数均略大于其在同浓度PVA粘合剂中的扩散系数。(本文来源于《天津大学》期刊2007-12-01）
段茜,姚欣,陈铭勇,马延琴,刘世杰[10]（2006）在《用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓》一文中研究指出考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点,用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型,仿真厚层抗蚀剂光刻过程,并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示,用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好;并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀剂AZ4562的显影轮廓,给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律,提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5μm和15μm的抗蚀剂,经计算,可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s和208s。(本文来源于《光电工程》期刊2006年04期）
显影模拟论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
把作战模拟论证、信息网络等现代化手段引入军事理论研究，所有重点课题都要经过模拟论证平台进行数字仿真验证……10年来，有着“中国军事智库”之称的军事科学院，科研工作实现历史性转型，大步迈进模拟论证时代。 战争能否打赢，先用实验说话，用数据回答。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
显影模拟论文参考文献
[1].杨正,张志友,李淑红,高福华,杜惊雷.单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究[J].光学学报.2013
[2].包国俊.模拟论证：让思辩显影[N].解放军报.2012
[3].瞿宏璟.湿式氧化法处理模拟显影废水的研究[D].华中科技大学.2012
[4].郑宇,王景全,李敏,牛晓云,杜惊雷.SPPs光刻曝光显影模拟研究[J].光子学报.2010
[5].朱小敏,孟建文,赵成如,朱肖杰,罗西友.一种新型可显影栓塞剂的体外模拟研究[J].生物医学工程研究.2010
[6].孔鹏,巴音贺希格,李文昊,唐玉国.全息光栅非对称曝光显影的理论模拟及实时监测[J].光学学报.2010
[7].崔滨,万旺根,吴永亮,金龙存,杨晓东.用点渲染算法实现光刻胶显影过程的叁维模拟(英文)[J].应用科学学报.2009
[8].陈刚,吴建宏,刘全,陈新荣,李朝明.光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验[J].光学技术.2009
[9].范明明.光敏热显成像材料热显影过程中影响银离子迁移因素的模拟研究[D].天津大学.2007
[10].段茜,姚欣,陈铭勇,马延琴,刘世杰.用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓[J].光电工程.2006