论文摘要
本论文主要分为两部分,第一部分是用电镀法制备FeNi合金薄膜和磁场热处理对它的影响；第二部分是采用溶胶-凝胶（sol-gel）旋转涂层工艺制备NiZn铁氧体薄膜并对其磁场热处理。第一部分电镀法制备FeNi合金薄膜并对其磁场热处理,论文在制备FeNi合金薄膜时固定了溶液的成份和沉积时间,研究了直流沉积时不同沉积电压和加外磁场下对样品形貌和磁性的影响,也研究了在不同温度下磁场热处理对其面内单轴各向异性的诱导,来提高共振频率,从而探索提高它的高频应用。得出以下结论：1、在相同的沉积时间600 s,沉积电压分别为0.6 V,0.8 V,1.0 V下沉积的FeNi合金薄膜,0.6 V下沉积的薄膜饱和磁化强度Ms最高,为998emu/cc,且矫顽力Hc为9 Oe。在对样品进行磁场热处理发现,制备的FeNi合金薄膜面内不同方向的矫顽力Hc发生了变化,饱和磁化强度Ms有所增大,并且它们的共振频率fr石得到了不同程度的提高,磁场热处理效果明显。2、在沉积薄膜时加一定的外磁场发现,薄膜具有明显的面内单轴各向异性。在磁场热处理下,它的面内单轴各向异性有所变化,在300℃磁场热处理下各向异性场有所增加,但是在高温下有所降低。第二部分采用溶胶-凝胶（sol-gel）旋转涂层工艺制备NiZn铁氧体薄膜并对其磁场热处理,论文在溶胶配制、甩胶及退火工艺方面对NiZn铁氧体薄膜的性能进行了研究,同时研究了磁场热处理对它的影响,得出以下结论：1、制备的NiZn铁氧体薄膜在不同温度热处理下,通过XRD研究发现随着温度的升高结晶能变好,700℃下处理的样品结晶性最好,从VSM可以看出Hc都普遍很小,Ms先增大后减小,最大值为349emu/cc。由SEM图可以看出薄膜颗粒大小均匀,厚度为386 nm,颗粒大小为30 nm左右。2、在不同温度和不同时间下对制备的NiZn铁氧体薄膜进行磁场热处理发现,对铁氧体的诱导效果不明显,而且在诱导过程中会导致矫顽力Hc的增大,降低软磁性能。
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摘要Abstract第一章 绪论1.1 引言1.2 磁场热处理的机制和磁场热处理的发展应用1.2.1 磁场热处理的机制1.2.2 磁场热处理的发展应用1.3 真空磁场热处理设备1.3.1 真空磁场热处理设备的组成1.3.2 实验步骤1.4 本论文的主要内容参考文献第二章 样品的测试方法和表征手段2.1 薄膜结构的表征:X-ray衍射（XRD）2.2 薄膜厚度和成分的表征:扫描电子显微镜（SEM）和EDS2.3 磁性能的表征:振动样品磁强计（VSM）2.4 动态磁性的表征:矢量网络分析仪参考文献第三章 电镀法制备FeNi合金薄膜和磁场热处理对其性能的影响3.1 电镀法制备FeNi合金薄膜3.1.1 电镀法简述3.1.2 电镀法制备软磁薄膜材料3.2 实验原料和仪器3.3 FeNi合金薄膜的制备和基本磁性3.3.1 镀层的结构和成份分析3.3.2 制备的FeNi薄膜的磁性能3.3.3 制备的FeNi合金薄膜的高频性能3.4 FeNi合金薄膜的真空磁场热处理3.4.1 实验条件和实验设计3.4.2 对沉积电压为0.6 V的样品的磁场热处理3.4.3 对沉积电压为1.0 V的样品进行磁场热处理3.4.4 对沉积电压为0.6 V加外场800 Oe的样品进行磁场热处理3.5 本章小结参考文献2O4和磁场热处理对其的影响'>第四章 Sol-gel法制备（NiZn）Fe2O4和磁场热处理对其的影响4.1 溶胶凝胶旋转涂层法制备NiZn铁氧体薄膜4.1.1 NiZn铁氧体的晶体结构和磁学性能4.1.2 溶胶凝胶旋转涂层法简述4.2 实验原料和仪器4.2.1 实验原料4.2.2 实验设备和器材4.3 NiZn铁氧体的制备4.4 制备NiZn铁氧体的结果和分析4.4.1 溶胶浓度和甩胶工艺对薄膜质量的影响4.4.2 退火温度对薄膜结构和磁性的影响4.5 NiZn铁氧体薄膜的磁场热处理4.5.1 磁场热处理的条件4.5.2 结果和分析4.6 本章小结参考文献第五章 结论硕士在读期间发表文章致谢
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