高精度微光学器件激光直写光刻系统研究

高精度微光学器件激光直写光刻系统研究

论文摘要

近年来,集微光学、微电子、微机械装置于一体的MEMS和MOEMS技术迅猛发展,推动了微细加工技术的不断改进和提高,其中激光直写光刻技术因其控制灵活,不需要掩模,加工周期短,加工精度高,受到越来越多的关注。本论文研制了一套高精度激光直写光刻系统,它采用带17位增量式编码器的松下MINAS A系列交流伺服马达,同时还采用基于高精密滚珠丝杆和超精密线性滑轨导向的X-Y运动平台,可以实现约30nm的运动控制灵敏度。论文针对该系统开发了一套基于ISA总线的三维运动控制卡,它采用8253计数器来控制马达运行速度和行程,同时采用8255接口芯片来控制马达运行方向,实现马达限位保护。进一步论文采用PCI9052芯片实现了三维运动控制卡从ISA总线到PCI总线的升级。软件方面,在Visual C++开发环境下开发了控制软件界面,实现了直线和曲线运动控制,进一步还采用WinDriver开发了PCI设备驱动程序以及相关应用程序。通过感光胶片和SU-8光刻胶的光刻实验,表明上述激光直写光刻系统完全能够满足光刻精度的要求,并且具有控制简单,行程轨迹精确、响应速度快、性能稳定等特点,适用于许多微光学器件加工领域。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 绪论
  • 1.1 微光机电系统的历史概况
  • 1.2 微光机电系统的组成要素
  • 1.3 微光机电技术(MOEMS)在光通信领域的典型应用
  • 1.4 微光机电系统的制造工艺
  • 1.4.1 掩模成像光刻制造技术
  • 1.4.2 无掩模光刻技术
  • 1.5 国内外激光直写系统发展现状
  • 1.6 交流伺服系统概述
  • 1.6.1 交流伺服系统的特点
  • 1.6.2 交流伺服系统数字化控制的优点
  • 1.6.3 全数字交流伺服系统的组成
  • 1.7 论文的主要内容和章节安排
  • 第二章 高精度激光直写光刻系统总体设计
  • 2.1 高精度激光直写光刻系统的总体设计方案
  • 2.2 松下 MINASA系列交流伺服系统
  • 2.2.1 性能特点
  • 2.2.2 工作原理
  • 2.2.3 驱动信号连接和参数设置
  • 第三章 激光直写光刻系统控制电路的硬件设计
  • 3.1 控制电路功能要求
  • 3.2 三维运动控制卡总体设计
  • 3.3 单元电路模块设计
  • 3.3.1 PC接口及地址译码模块的设计
  • 3.3.2 时钟产生模块
  • 3.3.3 方向信号产生模块
  • 3.3.4 脉冲信号产生模块
  • 3.3.5 保护电路
  • 3.4 ISA总线到PCI总线转换电路设计
  • 3.4.1 PCI总线概述
  • 3.4.2 PCI局部总线的特点
  • 3.4.3 PCI总线的体系结构
  • 3.4.4 PCI局部总线的信号定义及其命令
  • 3.4.5 PCI总线的配置空间
  • 3.4.6 PCI接口芯片的选择
  • 3.4.7 PCI总线接口设计
  • 3.4.8 PCI9052的复位和 EEPROM的初始化
  • 3.4.9 PCI9052配置寄存器的配置
  • 3.4.10 局部总线 ISA接口模式数据传输操作
  • 第四章 基于 ISA接口的控制电路和 PCI接口卡软件设计
  • 4.1 基于 ISA接口的控制电路软件设计
  • 4.2 PCI设备驱动程序和应用程序的开发
  • 4.2.1 WDM设备驱动程序概述
  • 4.2.2 WDM设备驱动程序开发工具 WinDriver功能简介
  • 4.2.3 用户模式驱动程序的开发流程
  • 4.2.4 应用程序的开发
  • 第五章 系统实验调试
  • 5.1 系统的硬件调试
  • 5.2 激光直写系统光刻实验
  • 5.2.1 感光胶片刻蚀实验
  • 5.2.2 SU-8光刻胶光刻实验
  • 第六章 结论与展望
  • 参考文献
  • 附录 1:运动控制卡实物图
  • 附录 2:激光直写光刻系统机械装置图
  • 在校期间发表的论文
  • 致谢
  • 相关论文文献

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