邱奕斌:氮流量对掺氮氧化亚铜薄膜性能的影响论文

邱奕斌:氮流量对掺氮氧化亚铜薄膜性能的影响论文

本文主要研究内容

作者邱奕斌,陈倩倩,叶凡,蔡兴民,张东平,范平(2019)在《氮流量对掺氮氧化亚铜薄膜性能的影响》一文中研究指出:氧化亚铜在光伏及光催化等领域有潜在应用,掺氮能增加其空穴浓度从而提高电导率,但氮在氧化亚铜的状态仍未被深入研究.在溅射压强等参数不变的条件下,逐步增加氮气流量,制备了一系列纯相的氮掺杂的氧化亚铜,并用X射线衍射、台阶仪、扫描电子显微镜、能量色散谱仪、拉曼光谱、X射线光电子能谱仪、霍尔效应及分光光度计等方法对所得样品进行分析.霍尔效应测试结果表明,氮掺杂能使氧化亚铜薄膜空穴浓度提高1个数量级.禁带宽度随氮气流量的增加而逐渐减小,氮在氧化亚铜中以β-N(氮原子)、α-N2(分子态氮,—N■N—)及γ-N2(分子态氮,N≡N)3种形式存在,随着氮流量的增加,β-N的结合能的峰强不断增强,而α-N2的结合能的峰强不断减弱.氮流量为2标准立方厘米每分钟(sccm)时所得样品的电阻率最小.

Abstract

yang hua ya tong zai guang fu ji guang cui hua deng ling yu you qian zai ying yong ,can dan neng zeng jia ji kong xue nong du cong er di gao dian dao lv ,dan dan zai yang hua ya tong de zhuang tai reng wei bei shen ru yan jiu .zai jian she ya jiang deng can shu bu bian de tiao jian xia ,zhu bu zeng jia dan qi liu liang ,zhi bei le yi ji lie chun xiang de dan can za de yang hua ya tong ,bing yong Xshe xian yan she 、tai jie yi 、sao miao dian zi xian wei jing 、neng liang se san pu yi 、la man guang pu 、Xshe xian guang dian zi neng pu yi 、huo er xiao ying ji fen guang guang du ji deng fang fa dui suo de yang pin jin hang fen xi .huo er xiao ying ce shi jie guo biao ming ,dan can za neng shi yang hua ya tong bao mo kong xue nong du di gao 1ge shu liang ji .jin dai kuan du sui dan qi liu liang de zeng jia er zhu jian jian xiao ,dan zai yang hua ya tong zhong yi β-N(dan yuan zi )、α-N2(fen zi tai dan ,—N■N—)ji γ-N2(fen zi tai dan ,N≡N)3chong xing shi cun zai ,sui zhao dan liu liang de zeng jia ,β-Nde jie ge neng de feng jiang bu duan zeng jiang ,er α-N2de jie ge neng de feng jiang bu duan jian ruo .dan liu liang wei 2biao zhun li fang li mi mei fen zhong (sccm)shi suo de yang pin de dian zu lv zui xiao .

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自深圳大学学报(理工版)的邱奕斌,陈倩倩,叶凡,蔡兴民,张东平,范平,发表于刊物深圳大学学报(理工版)2019年05期论文,是一篇关于凝聚态物理学论文,氧化亚铜论文,氮掺杂论文,磁控溅射论文,光电性能论文,薄膜性质论文,深圳大学学报(理工版)2019年05期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自深圳大学学报(理工版)2019年05期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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