论文摘要
最小投影均匀性(Minimum Projection Uniformity，简称MPU)准则是用来比较二水乎因析设计的。而为了探索设计在模型未知条件下的投影效率提出的θ准则是用来比较对于定量因子的主效应设计的。此准则不仅考虑模型因子的主效应而且还考虑因子间的交互效应。θ_B准则则是在实验者在实施试验之前，已有一些关于不可忽略的效应的概率的先验知识。其中低维子模型的加权值反映了实验者对于不同参数的先验知识的认识。即若一个模型在合格模型中更有可能是最好的，则这个模型应赋予更多的加权值。本文对最小投影均匀性与θ和θ_B间的关系进行了讨论。所得出的结果有助于我们更好地了解均匀设计和最优设计之间的区别和联系。Double设计是用来构造两水平因析设计的，特别是对于分辨度为Ⅳ的设计。同时也对Double设计中的θ和θ_B准则进行了初步的讨论，我们发现Double设计D(Ⅹ)中的θ准则与Ⅹ中的θ准则有着密切的联系。