论文摘要
碳化硅(SiC)半导体材料是继第一代元素半导体材料(Si)和第二代化合物半导体材料(Ge、S、GaP、InP等)之后发展起来的第三代半导体材料,,具有间接宽禁带、大的击穿电场、高的热导率和高的电子饱和漂移速度等特点,使其在高温、高频、高功率和抗辐射等极端环境下工作的光电子器件制备方面有着巨大的应用前景。SiC纳米线除保留其宽带隙半导体性能外,还由于纳米尺寸效应、特定的形貌和内在的特殊结构,在力学性能、发光性能和场发射性能等方面展现出更多特异性,因此研究SiC纳米线合成、结构和性能具有重要意义。采用有机溶剂热分解法,我们成功地合成了几种SiC基—维纳米结构,并研究了其一些性质。1)用甲醇热分解法合成了SiC-SiO2纳米电缆;讨论了其合成中出现的纳米电缆分支现象和多种形貌形成的机理;研究了纳米电缆的红外、拉曼光谱和光致发光光谱等光谱性质。2)用以醇热分解法合成了具有高质量SiC单晶核部的SiC-SiO2纳米电缆,并讨论了红外光谱中出现的一些特殊现象的起因。3)通过调节气流速度,合成了碳纳米颗粒修饰的SiC-SiO2纳米电缆、SiC-SiO2-C三重同轴纳米电缆;研究了其光学及场发射性质。4)以四氯化钛为催化剂,生长了SiC-SiO2狼牙棒核壳纳米结构并讨论了其生长机理。
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