本文主要研究内容
作者李坤茂,刘静,张晓燕,李宏,代燕（2019）在《Ti6Al4V钛合金渗碳层在HF中的腐蚀行为》一文中研究指出：用真空感应渗碳方法对Ti6Al4V钛合金进行高速渗碳,研究了渗碳层在HF溶液中的腐蚀行为。对腐蚀前后渗碳层的相结构和形貌的分析发现:对Ti6Al4V钛合金高速渗碳后,在表面生成一层TiC和CTi0.42V1.58复合化合物相的渗碳层。因为表面有渗碳层,Ti6Al4V钛合金在浓度为0.2%的HF中?泡其腐蚀速率从4.65×10-10g·m-2·h-1降低到3.3×10-10g·m-2·h-1。电化学腐蚀测试结果表明,其自腐蚀电位从未渗碳时的-0.94 V升高到-0.68 V,腐蚀电流密度从4.10 mA·cm-2降至1.65 mA·cm-2,极化电阻从6.36Ω·cm2增大到15.8Ω·cm2,Rt从0.2Ω·cm2增大到5.7Ω·cm2。渗碳层具有n型半导体特性,未渗碳样品具有p型半导体特性。Ti6Al4V钛合金渗碳后,在腐蚀过程中电子转移的阻力增大,使耐蚀性提高。F-对Ti6Al4V钛合金渗碳层的腐蚀机理,主要是析氢腐蚀。
Abstract
yong zhen kong gan ying shen tan fang fa dui Ti6Al4Vtai ge jin jin hang gao su shen tan ,yan jiu le shen tan ceng zai HFrong ye zhong de fu shi hang wei 。dui fu shi qian hou shen tan ceng de xiang jie gou he xing mao de fen xi fa xian :dui Ti6Al4Vtai ge jin gao su shen tan hou ,zai biao mian sheng cheng yi ceng TiChe CTi0.42V1.58fu ge hua ge wu xiang de shen tan ceng 。yin wei biao mian you shen tan ceng ,Ti6Al4Vtai ge jin zai nong du wei 0.2%de HFzhong ?pao ji fu shi su lv cong 4.65×10-10g·m-2·h-1jiang di dao 3.3×10-10g·m-2·h-1。dian hua xue fu shi ce shi jie guo biao ming ,ji zi fu shi dian wei cong wei shen tan shi de -0.94 Vsheng gao dao -0.68 V,fu shi dian liu mi du cong 4.10 mA·cm-2jiang zhi 1.65 mA·cm-2,ji hua dian zu cong 6.36Ω·cm2zeng da dao 15.8Ω·cm2,Rtcong 0.2Ω·cm2zeng da dao 5.7Ω·cm2。shen tan ceng ju you nxing ban dao ti te xing ,wei shen tan yang pin ju you pxing ban dao ti te xing 。Ti6Al4Vtai ge jin shen tan hou ,zai fu shi guo cheng zhong dian zi zhuai yi de zu li zeng da ,shi nai shi xing di gao 。F-dui Ti6Al4Vtai ge jin shen tan ceng de fu shi ji li ,zhu yao shi xi qing fu shi 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料研究学报的李坤茂,刘静,张晓燕,李宏,代燕，发表于刊物材料研究学报2019年07期论文，是一篇关于材料表面与界面论文,渗碳论文,感应加热论文,组织论文,腐蚀行为论文,材料研究学报2019年07期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料研究学报2019年07期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。