晶体偏光器件增透膜研究

晶体偏光器件增透膜研究

论文摘要

随着偏光技术的发展,晶体偏光器件得到了越来越多的应用。晶体偏光器件是利用晶体的双折射性质设计制成,具有消光比高,使用波段范围宽等优点。但是,晶体偏光棱镜的透射比一般小于90%,而且对于云母制作的1/4波片来说,表面较大的反射会造成延迟量和透射率的干涉振荡,这些都影响了晶体偏光器件的使用性能。 增透膜可以减小器件表面的反射,提高透过率。为了改善晶体偏光器件的使用性能,我们研究了晶体偏光器件增透膜的设计、制备及测试。主要包括两方面的内容: 1.Glan-Taylor棱镜、Wollaston棱镜增透膜的设计、制备和测试。 2.表面反射干涉对云母1/4波片延迟量和透过率的影响,给出了考虑多次反射后云母1/4波片的琼斯矩阵形式,以及增透膜的设计、制备和测试。 晶体偏光器件增透膜的设计制备有以下两个特点: 1.由于基体的硬度低及力学和热学性质上的各向异性使得膜层和基体的附着力差,给膜系的设计和制备带来了困难。 2.Wollaston棱镜增透膜的设计要兼顾o光e光同时增透,这是和一般基体增透膜设计的不同之处。 我们通过多次实验,摸索出了几种膜料和基体的附着力情况及蒸镀的条件,解决了附着力问题。对于Wollaston棱镜增透膜的设计,我们分析了内层膜的作用并给出了一种矢量作图法来得到初始结构。测试结果表明制备的增透膜达到了我们的设计要求,从而改善了器件的使用性能。全文概括起来有以下几个方面的内容: 第一章主要介绍了本论文的目的、意义。 第二章介绍了薄膜光学的发展历史及研究的现状;薄膜光学的基本理论;在本论文设计时使用的两种解析设计方法。 在第三章中,介绍了Glan-Taylor棱镜端面增透膜的设计,斜面增透膜的设计并讨论了入射角度、膜层折射率等因素对增透膜性能的影响。探讨了Wollaston棱镜端面增透膜的设计方法,并给出了几种膜系结构。对于云母

论文目录

  • 一、绪论
  • 二、薄膜光学的基本理论
  • 1、薄膜光学简介
  • (1) 薄膜光学的历史
  • (2) 薄膜光学的研究现状
  • 2、薄膜光学的电磁理论基础
  • (1) 麦克斯韦方程
  • (2) 菲涅尔反射原理
  • (3) E和H的边界条件
  • 3、光学薄膜系统特性的计算方法
  • 4、光学薄膜设计方法概述
  • (1) 矢量法
  • (2) 导纳匹配法
  • 三、晶体偏光器件增透膜的设计
  • 1、概述
  • 2、Glan—Taylor棱镜增透膜的设计
  • (1) 端面窄带增透膜的设计
  • (2) 斜面窄带增透膜的设计
  • (3) 宽带增透膜的设计
  • 3、Wollaston棱镜增透膜的设计
  • (1) 概述
  • (2) 窄带增透膜的设计
  • (3) 宽带增透膜的设计
  • 4、延迟器件增透膜的设计
  • (1) 云母1/4波片表面多次相干反射对延迟量和透过率的影响
  • (2) 增透膜的设计
  • 四、样品的制备、测试与分析
  • 1、膜料附着力的研究
  • 2、薄膜样品的制备
  • 3、棱镜增透膜反射光谱的测试与分析
  • (1) 棱镜端面增透膜反射光谱的测试
  • (2) Glan—Taylor棱镜斜面增透膜反射率的测试
  • 4、云母1/4波片透过率及延迟量的测量与分析
  • (1) 透过率的测量
  • (2) 相位延迟量的测量
  • 5、样品制备与测量误差定性分析
  • 全文总结
  • 参考文献
  • 已完成的工作或发表的论文
  • 致谢
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