麻根旺:掺Ag含量对金刚石薄膜场发射性能的影响论文

麻根旺:掺Ag含量对金刚石薄膜场发射性能的影响论文

本文主要研究内容

作者麻根旺,于盛旺,黑鸿君,贾志轩,吴艳霞,申艳艳(2019)在《掺Ag含量对金刚石薄膜场发射性能的影响》一文中研究指出:采用电泳沉积的方法在钛基体上沉积了不同含量Ag纳米颗粒掺杂的金刚石复合薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射光谱和拉曼光谱对样品的结构和形貌进行表征,最后进行场发射特性的测试。SEM试验结果表明,制备得到的薄膜连续、致密且纳米颗粒均匀的分布在其中。场发射测试结果显示样品的场发射性能随着复合膜中Ag含量的增加呈现先增强后降低的趋势,在Ag纳米颗粒的掺杂含量为7.5 mg (0.18 g/L)时,复合膜的场发射性能最优。此时,开启电场(E0)低至1.55 V/μm,在1.96 V/μm的电场强度下可以得到22.69μA/cm2的场发射电流密度,这表明适量的Ag纳米颗粒掺杂可以显著提升样品场发射性能。同时,文中结合F-N理论进一步讨论了Ag纳米颗粒掺杂含量的变化对金刚石场膜发射性能影响的作用机理。

Abstract

cai yong dian yong chen ji de fang fa zai tai ji ti shang chen ji le bu tong han liang Agna mi ke li can za de jin gang dan fu ge bao mo ,li yong sao miao dian zi xian wei jing 、Xshe xian yan she guang pu he la man guang pu dui yang pin de jie gou he xing mao jin hang biao zheng ,zui hou jin hang chang fa she te xing de ce shi 。SEMshi yan jie guo biao ming ,zhi bei de dao de bao mo lian xu 、zhi mi ju na mi ke li jun yun de fen bu zai ji zhong 。chang fa she ce shi jie guo xian shi yang pin de chang fa she xing neng sui zhao fu ge mo zhong Aghan liang de zeng jia cheng xian xian zeng jiang hou jiang di de qu shi ,zai Agna mi ke li de can za han liang wei 7.5 mg (0.18 g/L)shi ,fu ge mo de chang fa she xing neng zui you 。ci shi ,kai qi dian chang (E0)di zhi 1.55 V/μm,zai 1.96 V/μmde dian chang jiang du xia ke yi de dao 22.69μA/cm2de chang fa she dian liu mi du ,zhe biao ming kuo liang de Agna mi ke li can za ke yi xian zhe di sheng yang pin chang fa she xing neng 。tong shi ,wen zhong jie ge F-Nli lun jin yi bu tao lun le Agna mi ke li can za han liang de bian hua dui jin gang dan chang mo fa she xing neng ying xiang de zuo yong ji li 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自中国表面工程的麻根旺,于盛旺,黑鸿君,贾志轩,吴艳霞,申艳艳,发表于刊物中国表面工程2019年02期论文,是一篇关于金刚石论文,纳米颗粒论文,场发射性能论文,中国表面工程2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自中国表面工程2019年02期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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