周宏明:CuO掺杂对钇钡铜氧陶瓷电性能的影响论文

周宏明:CuO掺杂对钇钡铜氧陶瓷电性能的影响论文

本文主要研究内容

作者周宏明,王博益,李荐,程名辉(2019)在《CuO掺杂对钇钡铜氧陶瓷电性能的影响》一文中研究指出:采用传统固相烧结法制备的Y1Ba2Cu3O7-x(YBCO)陶瓷为功能相、玻璃粉为烧结助剂、CuO为掺杂剂,制备了CuO掺杂的钇钡铜氧陶瓷。通过X射线衍射仪、扫描电镜、能谱分析仪、微欧仪和高低温交变湿热试验箱对其相组成、微观结构及电性能进行研究。研究结果表明:CuO掺杂有利于减少YBCO晶体结构中存在的氧缺陷;随CuO掺杂量从0%增加到3%,陶瓷致密度逐渐增加,电阻率明显降低; CuO掺杂量大于3%后,陶瓷致密度逐渐下降,电阻率也明显升高;随CuO掺杂量增加,陶瓷的电阻温度系数逐渐由负向正偏移,电阻温度系数值逐渐减小。当CuO掺杂量为3%时,样品的综合电性能最佳:电阻率为1. 55×10-4Ω·m,电阻温度系数为-1 470×10-6/℃。

Abstract

cai yong chuan tong gu xiang shao jie fa zhi bei de Y1Ba2Cu3O7-x(YBCO)tao ci wei gong neng xiang 、bo li fen wei shao jie zhu ji 、CuOwei can za ji ,zhi bei le CuOcan za de yi bei tong yang tao ci 。tong guo Xshe xian yan she yi 、sao miao dian jing 、neng pu fen xi yi 、wei ou yi he gao di wen jiao bian shi re shi yan xiang dui ji xiang zu cheng 、wei guan jie gou ji dian xing neng jin hang yan jiu 。yan jiu jie guo biao ming :CuOcan za you li yu jian shao YBCOjing ti jie gou zhong cun zai de yang que xian ;sui CuOcan za liang cong 0%zeng jia dao 3%,tao ci zhi mi du zhu jian zeng jia ,dian zu lv ming xian jiang di ; CuOcan za liang da yu 3%hou ,tao ci zhi mi du zhu jian xia jiang ,dian zu lv ye ming xian sheng gao ;sui CuOcan za liang zeng jia ,tao ci de dian zu wen du ji shu zhu jian you fu xiang zheng pian yi ,dian zu wen du ji shu zhi zhu jian jian xiao 。dang CuOcan za liang wei 3%shi ,yang pin de zeng ge dian xing neng zui jia :dian zu lv wei 1. 55×10-4Ω·m,dian zu wen du ji shu wei -1 470×10-6/℃。

论文参考文献

  • [1].烧结过程中氧压对钇钡铜氧超导材料的影响[J]. 唐厚舜,余夕同.  材料科学进展.1988(05)
  • [2].YBa2Cu3O7-δ超导相在水中的分解破坏[J]. 蔡灿珍,车声雷,朱怀勇,王海霞.  西安交通大学学报.1988(04)
  • [3].物理之窗[J].   物理教学.1988(01)
  • [4].CuO对钢渣微晶玻璃机械性能及颜色的影响[J]. 李荣升,宗燕兵,代文彬,李宇.  冶金能源.2014(02)
  • [5].CuO纳米粉体材料的制备与表征[J]. 李闪闪,石亚琳,柴春霞,王月秀,张彭程,朱明柳,郭曼,彭鹏.  周口师范学院学报.2014(05)
  • [6].沉淀剂对CuO超细粉体形态与性能的影响[J]. 王文亮,李东升,岳可芬,薛岗林,张祝莲.  化学研究与应用.2003(06)
  • [7].CuO对白云石烧结性能的影响[J]. 张汪年,邓宁,梁伟杰,彭俐俐,王新海.  粉末冶金技术.2016(04)
  • [8].钇钡铜氧单晶生长用锆酸钡坩埚的制备[J]. 崔景慧,周国梁,潘传龙,蒋丹宇,夏金锋,粘洪强.  中国陶瓷.2014(08)
  • [9].含钇钡铜的新型类水滑石的合成与性能研究[J]. 郑美云,章文贡.  广州化工.2012(02)
  • [10].氧氩比对磁控溅射CuO薄膜特性的影响[J]. 李静杰,付宏远,周毅坚,项国姣,张子旭,赵洋,李新忠,王辉.  半导体技术.2019(11)
  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自材料导报的周宏明,王博益,李荐,程名辉,发表于刊物材料导报2019年02期论文,是一篇关于钇钡铜氧陶瓷论文,氧化铜掺杂论文,致密度论文,电阻率论文,电阻温度系数论文,材料导报2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自材料导报2019年02期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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