本文主要研究内容
作者云攀攀,张文涛,王献英（2019）在《超精密掩模台位移测量系统热漂移研究》一文中研究指出：针对28nm浸没式扫描光刻机掩模台的光栅干涉仪位移测量系统,开展了系统热漂移研究,并进行了热漂移测试实验与结果分析。该位移测量系统采用外差对称式四细分的光路设计以及栅距为1μm的二维光栅,配合2048倍电子细分的相位计数卡,其系统分辨力达到了0.12nm。热漂移测试结果显示:该系统的热漂移X向为17.86nm/K,Y向为41.43nm/K。在光刻机掩模台的实际测量环境中,测量环境的温度波动稳定在5mK以内,此时系统的热漂移X向可以控制在0.09nm以内,Y向可以控制在0.21nm以内。实验数据表明系统的热漂移误差小于1nm,满足掩模台亚纳米位移测量精度需求。
Abstract
zhen dui 28nmjin mei shi sao miao guang ke ji yan mo tai de guang shan gan she yi wei yi ce liang ji tong ,kai zhan le ji tong re piao yi yan jiu ,bing jin hang le re piao yi ce shi shi yan yu jie guo fen xi 。gai wei yi ce liang ji tong cai yong wai cha dui chen shi si xi fen de guang lu she ji yi ji shan ju wei 1μmde er wei guang shan ,pei ge 2048bei dian zi xi fen de xiang wei ji shu ka ,ji ji tong fen bian li da dao le 0.12nm。re piao yi ce shi jie guo xian shi :gai ji tong de re piao yi Xxiang wei 17.86nm/K,Yxiang wei 41.43nm/K。zai guang ke ji yan mo tai de shi ji ce liang huan jing zhong ,ce liang huan jing de wen du bo dong wen ding zai 5mKyi nei ,ci shi ji tong de re piao yi Xxiang ke yi kong zhi zai 0.09nmyi nei ,Yxiang ke yi kong zhi zai 0.21nmyi nei 。shi yan shu ju biao ming ji tong de re piao yi wu cha xiao yu 1nm,man zu yan mo tai ya na mi wei yi ce liang jing du xu qiu 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自仪器仪表用户的云攀攀,张文涛,王献英，发表于刊物仪器仪表用户2019年07期论文，是一篇关于光栅干涉仪论文,位移测量论文,热漂移论文,掩模台论文,仪器仪表用户2019年07期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自仪器仪表用户2019年07期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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