相干光散斑的计算模拟与实验研究

论文摘要

散斑场的研究与探测多年来在散斑干涉计量术等多个领域中一直备受关注,由于散斑场的空间分布特征包含了物体的位移和形变信息,因此可借助于散斑场的研究和探测进而获取物体的位移和形变信息。众所周知,散斑杨氏干涉条纹是干涉计量学的基础,目前杨氏干涉条纹图样已构成了许多前沿领域的基础,因此散斑杨氏干涉条纹图样的研究也具有重要意义。一般说来,散斑的性质是由散射体和散射后光波所经过的光学系统共同决定的。其中散射体所引起的光波初始随机相位起伏的剧烈程度对散斑场的概率分布等某些基本统计特性有重要影响,而光波散射后所经过的光学系统也是影响散斑场的相关和概率分布等统计特性的重要因素。然而像面散斑的理论研究目前尚未十分完善。近来研究表明利用散斑场同样可以提取随机表面的统计特性。经随机表面产生的散斑场与随机表面统计特性之间有着密切的联系,因此可通过研究散斑场的特性来提取随机表面的参量。并且散斑方法以其无接触,无损伤和成本低廉等优点已成为探测或提取随机表面信息的最重要的方法之一。此外在散斑场的实验测量中由于实验条件的限制,散斑场的测量精度总是受到限制。为了进一步提高散斑场探测的精度,我们必须克服目前探测器的分辨极限的影响。为此围绕相干散斑场的特性、探测和应用本文先后开展了一下几个方面的研究工作。第一章首先对随机表面的标定方法以及统计特性进行了描述,对比了不同特征参量的随机表面的差异。此外通过对散斑干涉计量术基本原理的分析,得到了散斑杨氏干涉条纹与物体形变之间的关系。最后剖析了散斑场探测器CCD 的基本工作原理,得到散斑图测量精度的最终限制来自于探测器本身的分辨极限的这一结论。第二章对随机表面产生的像面散斑进行了模拟和计算,讨论了像面散斑对比度与随机表面参量以及成像系统之间的关系。通过模拟获得随机表面并通过4f 系统产生了像面散斑,并计算了散斑的对比度,结果发现像面散斑对比度与成像系统参量

论文目录

• 摘要
• Abstract
• 绪论
• 1.1 随机表面参量及统计特性
• 1.2 光电系统及CCD、CMOS
• 1.3 像素及分辨率
• 1.4 散斑干涉计量
• 1.5 结论
• 第二章 随机表面产生的像面散斑对比度与随机表面及成像系统参量关系的模拟与计算
• 2.1 引言
• 2.2 随机表面在4 f 系统中产生像面散斑的模拟
• 2.3 随机表面产生的像面散斑对比度的模拟计算结果
• 2.3.1 像面散斑对比度随成像系统滤波孔径及随机表面粗糙度的变化
• 2.3.2 对比度随表面分形指数的变化
• 2.3.3 对比度随表面横向相关长度的变化
• 2.4 结论
• 第三章 随机光场探测中退卷积方法的理论与实验研究
• 3.1 引言
• 3.2 退卷积法及其演示
• 3.3 实验装置及操作
• 3.4 实验结果及讨论
• 3.5 结论
• 第四章 散斑杨氏条纹对比度的研究
• 4.1 引言
• 4.2 散斑杨氏条纹对比度数学表示式的推导
• 4.3 对几种特殊情况的散斑杨氏条纹对比度的分析及实验
• 4.4 结论
• 参考文献
• 攻读硕士学位期间发表的论文
• 致谢