本文主要研究内容
作者翟文杰,翟权（2019）在《碳化硅超声-电化学机械抛光试验研究》一文中研究指出：为探究超硬脆碳化硅(Si C)材料的高效研抛方法,分别应用铸铁抛光盘、聚氨酯抛光盘、半固结磨粒抛光盘在自来水、KOH溶液、芬顿反应液3种研抛液中通过控制变量法对Si C进行了超声-电化学机械研抛试验,得到以试件材料去除率和表面质量为评价指标的优化抛光工艺参数.试验结果表明:使用铸铁抛光盘时材料去除率高,但表面质量差;使用半固结磨粒抛光盘时表面质量最好,但材料去除率低;芬顿反应液对提高试件的材料去除率效果最好;在试件与抛光盘之间的电压为+10 V时,试件的材料去除率最高,比无电压时提高了55.1%;当试件保持环施加超声振动后,比无超声时材料去除率提高了91.7%,可见超声振动对Si C试件抛光起主要作用.
Abstract
wei tan jiu chao ying cui tan hua gui (Si C)cai liao de gao xiao yan pao fang fa ,fen bie ying yong zhu tie pao guang pan 、ju an zhi pao guang pan 、ban gu jie mo li pao guang pan zai zi lai shui 、KOHrong ye 、fen du fan ying ye 3chong yan pao ye zhong tong guo kong zhi bian liang fa dui Si Cjin hang le chao sheng -dian hua xue ji xie yan pao shi yan ,de dao yi shi jian cai liao qu chu lv he biao mian zhi liang wei ping jia zhi biao de you hua pao guang gong yi can shu .shi yan jie guo biao ming :shi yong zhu tie pao guang pan shi cai liao qu chu lv gao ,dan biao mian zhi liang cha ;shi yong ban gu jie mo li pao guang pan shi biao mian zhi liang zui hao ,dan cai liao qu chu lv di ;fen du fan ying ye dui di gao shi jian de cai liao qu chu lv xiao guo zui hao ;zai shi jian yu pao guang pan zhi jian de dian ya wei +10 Vshi ,shi jian de cai liao qu chu lv zui gao ,bi mo dian ya shi di gao le 55.1%;dang shi jian bao chi huan shi jia chao sheng zhen dong hou ,bi mo chao sheng shi cai liao qu chu lv di gao le 91.7%,ke jian chao sheng zhen dong dui Si Cshi jian pao guang qi zhu yao zuo yong .
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自哈尔滨工业大学学报的翟文杰,翟权，发表于刊物哈尔滨工业大学学报2019年01期论文，是一篇关于碳化硅论文,超声论文,电场论文,机械抛光论文,材料去除率论文,表面粗糙度论文,哈尔滨工业大学学报2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自哈尔滨工业大学学报2019年01期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：碳化硅论文; 超声论文; 电场论文; 机械抛光论文; 材料去除率论文; 表面粗糙度论文; 哈尔滨工业大学学报2019年01期论文;