论文摘要
通过磁控贱射法在玻璃基底上制备了厚度约为300 nm的氧化锌薄膜,室温下采用80 keVAu离子对该薄膜进行注入,注入剂量为2×1015/cm2。制备态及注入ZnO样品随后在氮气气氛下进行退火1小时,退火温度范围为100到700 oC。借助于X射线衍射谱仪、X射线光电子能谱仪、紫外-可见-近红外分光光度计、荧光分光光度计和原子力显微镜等多种测试分析手段研究了ZnO薄膜的结构、表面形貌、化学成分和光学性质。研究结果表明:对于制备态的ZnO薄膜,高温退火会使得薄膜的结构得到了明显的改善。具体表现在:晶粒长大和光学透射率明显增加,同时光致发光强度也随着退火温度的增加而显著增加。金离子注入会导致ZnO薄膜的表面结构受损和光学性能的恶化。随后退火至300 oC,使得薄膜的结构得到了明显的恢复,且光学性能得到了明显的改善。具体表现在:X射线衍射主峰(002)、(103)随着退火明显增强,光学透射率明显增加,光致发光强度也随着退火温度的增加而显著增加。进一步退火到600 oC,X射线衍射主峰(002)、(103)和光致发光强度虽然随着退火明显增强,但是光学透射率却在下降。退火至700 oC透过率大幅上升。PL测试结果显示在所有未注入的样品中均出现了2.38、2.65、2.75和3.0 eV四个可见发光带,而对应于本征的紫外发光带没有观测到。3.0 eV跟锌间隙子有关,2.65 eV归结于电子从离子化的氧空位能级跃迁到价带产生的发光,而2.75 eV处的蓝光源于氧空位浅施主能级上的电子到价带上的跃迁。2.38 eV绿光发射源于氧空位引起的绿光发射。金离子注入使ZnO薄膜的光学带隙增大。随退火温度升高,Au离子注入的ZnO薄膜的光学带隙变大,同时使绿光发光增强,并出现紫外发光。
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