太阳电池上氮化硅减反射膜性能的研究

太阳电池上氮化硅减反射膜性能的研究

论文摘要

太阳能的应用是解决能源与环境问题的有效途径。多晶硅太阳电池是未来最有发展潜力的太阳电池之一。氮化硅薄膜的应用是进一步提高多晶硅太阳电池的转化效率,降低生产成本的重要手段,为此本文研究了氮化硅薄膜的性能对于多晶硅太阳电池的影响。本文采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备了氮化硅薄膜。首先,用PECVD法分别以不同的[SiH4:N2]/[NH3]比在两批样品上沉积出富硅和富氮的氮化硅薄膜,沉积温度和时间分别为沉积温度360℃,时间6min和沉积温度350℃,沉积时间8min。然后利用椭圆偏振仪、准稳态光电导衰减法(QSSPCD)、X射线光电子能谱(XPS)、红外吸收光谱(IR)、反射谱等手段,对氮化硅薄膜进行了深入的研究,优化了薄膜制备条件并采用最优沉积条件制备了多晶硅太阳电池。研究发现,富硅氮化硅最佳的沉积条件是:温度360℃,SiH4:NH3=5:1,时间6min;富氮氮化硅薄膜在[NH3]/ [SiH4:N2]=4:1,沉积温度350℃,沉积时间8min时,获得了沉积氮化硅后硅片高寿命,高折射率、氢含量高钝化效果好、反射率低的工艺条件。其次,对于富硅氮化硅薄膜进行不同退火条件的研究,分别在N2/H2气氛下采用不同的退火条件,数据表明,氮化硅薄膜的有效少数载流子寿命在700℃时达到最大值。通过测量红外吸收光谱,发现氮化硅薄膜的氢含量与有效少数载流子寿命有一定的关系;比较了沉积前后电池的各项性能,确认沉积氮化硅薄膜后电池效率提高了40%以上,电池的短路电流也提高了30%以上。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 第一章 前言
  • §1-1 全球能源形势
  • §1-2 太阳电池的研究概况
  • §1-3 铸造多晶硅的基本特性
  • §1-4 本文的主要研究内容
  • 参考文献
  • 第二章 硅太阳电池的基本原理
  • §2-1 太阳电池概述
  • 2-1-1 光的反射与折射
  • 2-1-2 半导体中的光吸收
  • 2-1-3 PN 结的光生伏特效应
  • §2-2 硅太阳电池的基本器件方程
  • 2-2-1 理想PN 结的伏安特性
  • 2-2-2 硅太阳电池的基本结构
  • 2-2-3 硅太阳电池的基本特征
  • 2-2-4 太阳电池的输出特性
  • 2-2-5 影响电池效率的因素
  • 参考文献
  • 第三章 氮化硅的性能及在太阳电池中的作用
  • §3-1 氮化硅的性能
  • 3-1-1 性能概述
  • 3-1-2 PECVD 工艺参数对氮化硅膜性质的影响
  • §3-2 氮化硅在多晶硅太阳电池上的作用
  • 3-2-1 减反射作用
  • 3-2-2 钝化作用
  • §3-3 氮化硅的常见制备方法
  • 3-3-1 直接氮化
  • 3-3-2 物理气相沉积法(PVD)
  • 3-3-3 化学气相沉积(CVD)
  • 参考文献
  • 第四章 实验工艺及设备
  • §4-1 实验工艺
  • 4-1-1 样品预处理
  • 4-1-2 扩散制结
  • 4-1-3 电极制备
  • 4-1-4 热处理
  • §4-2 实验设备
  • 4-2-1 PECVD 简介
  • 4-2-2 退火设备
  • §4-3 测试设备
  • 4-3-1 少子寿命测试仪
  • 4-3-2 傅立叶变换红外光谱仪
  • 参考文献
  • 第五章 氮化硅的制备
  • §5-1 实验简介
  • 5-1-1 样品表面处理
  • §5-2 实验方案
  • §5-3 结果与分析
  • 5-3-1 方案一中薄膜性能的研究
  • 5-3-2 方案二中氮化硅薄膜性能的研究
  • 5-3-3 沉积温度的优化
  • §5-4 小结
  • 参考文献
  • 第六章 退火对于氮化硅薄膜性能的影响
  • §6-1 退火后薄膜性能对比
  • 2/H2 气氛退火后的少子寿命'>6-1-1 多晶硅样品进行N2/H2气氛退火后的少子寿命
  • 6-1-2 氮气氛退火后的IR 谱
  • 6-1-3 氢气氛退火后的IR 谱
  • § 6-2 退火时间对薄膜少子寿命的影响
  • 6-2-1 样品参数
  • 6-2-2 实验结果
  • §6-3 氮化硅在多晶硅太阳电池上的作用
  • §6-4 小结
  • 参考文献
  • 第七章 结论
  • 致谢
  • 攻读学位期间所取得的相关科研成果
  • 相关论文文献

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