一、感光材料底胶的合成及性能研究Ⅱ（论文文献综述）
刘江辉[1]（2021）在《基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究》文中研究指明基于数字微反射镜（Digital Micro-Mirror Device,DMD）的数字光刻方法使用DMD作为动态掩模图案生成装置,有效的避免了使用物理掩模版所引入的加工成本和工艺缺陷,同时也可以结合步进曝光或者扫描曝光等方式获得较好的加工效率和产出率,在二维平面微纳结构加工及三维微纳结构加工方面有着巨大的优势和良好的应用前景。然而,目前对于基于DMD的数字光刻技术的研究主要围绕在系统结构改善与加工原理优化,缺少对数字光刻技术本身潜力的开发运用。为此,本课题针对DMD器件的类三维空间光场调制能力进行了详细的研究分析,并探索了这一特性在数字光刻技术中的具体应用,从而进一步提升了数字光刻技术低成本、高效率、高灵活性的性能优势。首先,基于数字光刻系统的模型分析。本文在起始章节详细的阐述了基于DMD的数字光刻实验系统及子系统模块,并对其中的核心系统进行了拆解分析,包括照明系统方案的选择与设计、光学检焦方案的选择与设计、投影成像系统的参数耦合分析等。随后结合实验室实际工艺环境与本课题的研究需求,搭建了最小分辨率约为1.3um,曝光视场约为1.4mm×1.05mm的数字光刻实验系统。在此实验系统的基础上,开展了如下研究:（1）结合DMD动态生成掩模图案的特性,在分层切片式的类三维光场多步调控方法的基础上,对比分析了基于脉冲宽度编码调制的类三维光场单步调控方法,并以此建立了DMD像素化光场的类三维调控模型。（2）通过理论推导与实际曝光测试,分析了光敏介质与类三维光场的三维相互作用关系,提出了一种基于像素点灰度编码的曝光场均匀性优化技术,在无需成本的同时可以有效改善数字光刻系统的加工能力。（3）校正补偿了DMD类三维光场调控中由于脉冲触发沿等因素引起的非线性效应,从而实现了像素点光场强度的精确控制,在此基础上实现了一种平面微复眼结构的快速制备,并通过后续的表面形貌及光学性能测试验证了本方法加工复杂三维微结构的有效性。（4）在基于部分相干成像理论的基础上,仿真分析了数字光刻技术在小尺度出现的光学邻近效应现象,并结合DMD类三维光场与光敏介质在二维层面上的相互作用模型,提出了一种基于像素点编码优化的光学邻近效应优化方法,通过编码方式精确控制微反射镜在像方的光场能量并改善投影曝光区域的尺寸,通过逐点修正的方式优化理想曝光图案与实际曝光图案之间的不匹配度。本课题研究了目前数字光刻技术中存在的主要缺陷,且围绕DMD的类三维光场调控技术提出了相应的解决方案,并通过理论分析、数值仿真与实验验证的方式,验证了本课题提出方案的有效性,从而进一步拓展数字光刻低成本、高效率、高灵活性的工艺特点,并为数字光刻向更低尺度的发展提供了理论依据和技术支撑。
谢琴妍[2]（2020）在《紫外固化丙烯酸酯压敏胶及其氢氧化铝阻燃的研究》文中研究说明本文采用紫外光固化技术合成了一种丙烯酸酯预聚体并制备了增粘树脂改性丙烯酸酯压敏胶和氢氧化铝（ATH）填料改性丙烯酸酯压敏胶。研究了多种单体和树脂组分对压敏胶性能的影响,探讨氢氧化铝与丙烯酸的协同阻燃机理。首先,实验比较了不同丙烯酸酯单体合成的丙烯酸酯预聚体性能,预聚体的180°剥离强度在钢片上可达到18.2N/25mm,初粘强度为10号钢球,透光率可达90%以上。同时通过动态流式差示扫描量热法（DSC）、傅立叶红外光谱图（FT-IR）、热重分析（TGA）以及黏度计表征了预聚体的各项性能。其次,实验比较了不同稀释单体和不同增粘树脂对丙烯酸酯压敏胶性能的影响,制备了一种在PE膜上的180°剥离强度可达31N/25mm,在PET板材上的180°剥离强度可达27.4N/25mm,在钢片上的180°剥离强度可达42.7N/25mm的高剥离强度压敏胶。通过动态流式差示扫描量热法（DSC）、傅立叶红外光谱图（FT-IR）、热重分析（TGA）以及邵氏硬度计表征了高剥离强度压敏胶的玻璃化转变温度（Tg）、基团结构、热稳定性以及硬度,发现丙烯酸异冰片酯（IBOA）和碳五树脂的加入都会增加压敏胶的Tg和热稳定性,IBOA的加入会增加压敏胶的硬度。利用电子拉力机、胶带初粘强度测试仪和持粘强度测试仪测试了压敏胶的粘结强度,结果发现IBOA和增粘树脂的加入会使压敏胶的180°剥离强度和初粘强度先增后减,持粘强度下降。最后,实验将ATH填料与丙烯酸酯树脂共混,制备了一种阻燃丙烯酸酯压敏胶。通过TGA和热重-红外联用分析（TG-IR）实验发现ATH填料的加入会使压敏胶的初始热分解温度和最终温度的残炭率变高。再利用垂直燃烧测试实验研究了压敏胶的阻燃性能,结果证明了ATH和AA含量的增加都能改善丙烯酸酯压敏胶的阻燃性能,在二者占比适当时,复合压敏胶的垂直燃烧等级能达到V-0级,并使用扫描电镜（SEM）观察压敏胶的残炭形貌分析了其阻燃机理。然后使用电子拉力机和邵氏硬度计测试了阻燃压敏胶的180°剥离强度和硬度,结果表明当阻燃压敏胶的垂直燃烧等级为V-0级时,压敏胶的180°剥离强度最高可达19.3N/25mm;同时随着填料含量的增加,压敏胶的180°剥离强度逐渐下降,而硬度逐渐上升。
张宇[3]（2019）在《外贴FRP纤维的混凝土抗氯盐侵蚀试验研究》文中研究指明服役于海洋环境的码头平台、桥墩等混凝土结构,会因氯离子的侵蚀作用而过早地出现钢筋锈蚀问题,进而严重影响到结构的耐久性与长期使用安全性。外贴FRP纤维布加固混凝土的方法,可以实现对混凝土结构力学性能与耐久性的提升。目前,国内外学者对FRP加固混凝土结构的研究方向,主要围绕于结构宏观尺度的力学性能,而对于其抗氯盐侵蚀能力之类的耐久性研究却寥寥无几,因此有必要对其抗氯盐侵蚀耐久性进行研究。并且,紫外线辐射会给FRP材料带来老化作用,水工FRP混凝土结构长期暴露于此环境下,氯盐与紫外线的耦合侵蚀作用会给结构安全带来严重的隐患。故此类沿海复杂环境下,对经受氯盐和紫外线侵蚀等多因素耦合作用的FRP加固混凝土结构耐久性评估具有重要的意义。基于以上问题,本文主要研究了外贴FRP纤维布的混凝土抗氯离子侵蚀能力。设计了多种不同的加固防护体系,对氯盐浸泡环境、氯盐与加速紫外线耦合环境进行了试验模拟,为氯离子侵蚀环境下外贴FRP纤维的混凝土结构耐久性设计提供参考。主要研究内容如下:首先,研究了氯盐溶液浸泡作用下外贴FRP纤维的混凝土抗氯离子侵蚀性能。探究氯盐浸泡侵蚀的时间、FRP纤维布种类、纤维布层数以及环氧树脂涂层的存在,这些变量对抵抗氯离子渗透性的影响规律。试验测定了各个试验周期多种FRP加固类型混凝土内部的氯离子浓度分布情况,得到宏观耐久性指标。此外,对不同浸泡时间的试件做了抗压强度试验,从力学角度研究氯盐侵蚀对FRP加固混凝土的耐久性影响。其次,采用氯盐溶液浸泡与加速紫外线照射的耦合环境暴露方法,研究耦合作用对FRP加固混凝土耐久性的影响。包含的控制变量有:环境暴露类型因素、耦合作用的时间、FRP纤维布种类、纤维布层数。试验测定了各个周期多种FRP加固类型混凝土内部的氯离子浓度分布,并与单一因素的氯盐浸泡试验结果做了对比。借助SEM扫描电子显微镜,分析了试验前后混凝土、FRP纤维、树脂基体的细微观尺度变化,将宏观耐久性指标与细微观结构变化相结合,较为系统地揭示了FRP纤维布对混凝土抗氯离子侵蚀的防护机理及效果。最后,建立了外贴FRP纤维混凝土的氯盐侵蚀模型。基于已有理论模型并进行了修正,根据本文的相关试验结果,引入FRP等效影响系数因子并采用分段方程,建立氯盐溶液浸泡下的氯离子侵蚀模型,并给出了FRP防护混凝土氯离子侵入浓度的解析解,模型的预测结果与实测结果取得较好验证。根据扩散模型0.5年-50年的氯离子浓度预测结果,C2与B2抵抗氯离子效果最好,表现了较好的抗氯离子侵蚀耐久性。C1、B1D的效果次之,而B1效果逊于前两者;EP试件效果劣于FRP防护试件,但也较无防护试件OPC有较大改善。氯离子浓度分布的预测中损伤因子a的取值对结果有较大影响。为了较为准确地预测外贴FRP纤维混凝土长期抗氯离子耐久性能与服役寿命,需要考虑FRP防护层损伤因子。
楚小庆[4]（2018）在《技术发展与艺术形态嬗变的关系研究》文中提出自20世纪以来,技术的发展深刻地影响着艺术形态的变化,艺术形态的变化也及时回应着技术的变化。论文以技术作为艺术形态发展脉络的参照系,以技术的变化历程为时间坐标,对艺术创作与传播的历史轨迹做了梳理,着力思考在这个轨迹中,技术对于艺术的深刻影响以及艺术对技术发展的回应。技术发展与艺术形态嬗变的关系及其规律问题的探讨和展开,是以技术与艺术两者之间的辩证发展和相互影响关系为理论基础,从技术进步推动艺术形态变化与门类拓展、技术进步推动艺术创作领域的新变化、技术进步推动新艺术形式的衍生与跨界整合三个维度予以分析概括,以技术与艺术的共同未来和展望归纳研究结论。论文从绪论到结论,是一条一以贯之的主线。绪论包括概念与范畴、目的与创新、思路与方法、研究现状分析四个部分,并由此作为铺垫,引出关于本研究选题的理论思考部分。第二章理论思考可归纳为四个方面,分别为:内在本质特征:关联、多元、辩证、统一,西方理论比较:三个主要流派,社会现实意义:重要性、复杂性、艺术学宏观视角,理论基点与关键问题:普遍性、特殊性与中国实践。整篇论文以此四个方面的理论思考为立足点,展开了关于技术发展与艺术形态嬗变的关系和相互影响的论述、分析,其分析的脉络主干和主要依托为技术与艺术的历史发展进程,对这一延续上下五千年的宏大进程,论文又一分为二的从两个方面展开客观分析,也即技术对艺术的作用以及艺术对技术的影响。从章节上,关于两者的关系和影响,分别从技术进步推动艺术形态变化与门类拓展、技术进步推动艺术创作领域的新变化、技术进步推动新艺术形式的衍生与跨界整合这三个维度做了分析概括,而从具体的现象和形态领域梳理,则可分成以下八个方面,也即:艺术空间:文化生态与传统审美内涵变化,艺术语言:动态综合、主观体验与传播维度变化,艺术门类:新形态涌现、艺术扩容与门类拓展,艺术程式:作品呈现与欣赏场域、方式变化,艺术观念:作品创作工具、方法、观念变化,主客体关系:实践中作品创作与欣赏关系的变化,新艺术形式:与新技术环境融合共生,跨界整合:创作表现实践活动的新探索。以上述这八个方面较为详细的分析论述为基础,以前述四方面的理论思考为着眼点,以技术与艺术的历史发展进程为依托,以技术对艺术的作用与艺术对技术的影响的客观分析为关照和平衡尺度,论文经过上述系统的梳理、分析,得出了技术与艺术的共同未来与发展走向。对于技术与艺术共同未来具体内容的阐述,论文又从分析和展望两个方面具体入手,从发展规律与文化表现、辩证关系与社会影响、交互多元的文化景观三个方面做了深入地分析,从文化逻辑与美学观念、技术控制与文化自觉、审美理想与精神追求三个方面做了理论层面的宏观展望。在具体三点分析和三方面的展望之基础上,从上述六个方面的问题分析和阐述中得出核心观点,也即艺术审美活动的方向与精神文化坐标:以人为原点,携手传承与弘扬,创作生产技术与艺术相互协调统一的优秀作品。所以,全文结论为:技术与艺术共同携手面向美好未来。在人类社会的历史发展进程中,技术与艺术之间始终保持着密切的关联。技术进步虽然与艺术形态的发展变化之间并不存在直接的等同对应关系,但艺术自身又确实存在着对技术的依存关系。艺术作品既是技术之物,是技术支撑的具体呈现,与技术的进步发展密切相关,同时也是内在观念的显现和表达。在当代社会,技术进步对艺术的影响已拓展到艺术作品形式表现之外的广阔领域。技术从制作手段、材料载体、场景氛围和信息表达等方面对艺术作品形态的变化产生着影响。艺术则主要通过交流的方式、审美的途径、教化的功能、创意的驱动四个维度,展现着艺术本质属性对技术生态变革所产生的促进作用。艺术折射了社会文化中人与社会之间不断调整着的相互关系;同样,技术在自身发展中也以人为原点,关注并解决上述问题。技术决定了不同时代的艺术创作必然采用与之相应的方法手段。技术不断延长和拓展着艺术创作的方式和手段,潜移默化地影响着艺术的思想、观念、方法,带来了艺术作品外在感受方式和欣赏者心理感知的变化,同时也带来了艺术作品内在意蕴、精神品格和思想内涵的变化。技术进步逐步改变着整个艺术生态,在艺术形式表现中促使产生了新的形式特征,生成了新的艺术形态,形成了新的艺术门类。技术进步推动着人、社会、自然三者的关系随之变化,不仅产生了新的社会文化形态,而且形成了对传统经典艺术创作和表现形式认识的提升,由此生成的艺术精神则进一步形成了对现实社会的文化引领。技术的不断进步赋予艺术创作和艺术作品不同的时代信息和技术特征。技术决定不同时代的艺术创作必然采用与之相应的方法与手段,并呈现出不同面貌;同时,技术变革更使隐含在艺术表象内部的艺术观念同步发生重要的变化。这在外部显现为创作工具、材料应用、表现载体以及创作手法的改变,在内部则折射出审美追求、认识方式与评价模式的变化。艺术创作的数字化和艺术作品的虚拟化,反映了技术进步影响下艺术创作对于新材料、新介质以及新的存在、传播方式的广泛运用,以及个人审美精神领域中一种新的生命体验的艺术表达。艺术的发展变化始终伴随着技术进步的步伐。技术不断以各种方式介入艺术创作并影响着艺术的形态,而在艺术创作和作品表现形式中,也无不凸显出技术在视觉体验、界面形态变化和不同维度改变等方面的作用。艺术作品形态的蜕变,受制于艺术观念的更新,更深层是技术在创作中推动作品外在形式表现变化与内在观念创新的体现。由于介质的改变以及艺术题材、外在形式等表现空间范畴的拓展,技术在实际上不断丰富着艺术的感知效果和体验维度;同时,人对技术的依赖程度有了明显提升,艺术场域依托于技术进步得到了极大扩展,作品创作和艺术精神都实现了对于原有地理空间、意识形态、文化习俗等主、客观隔阂的有效跨越。技术进步加速了不同艺术形态之间的跨界融合,顺应了高技术应用及其与有关艺术领域交叉融合的新趋向,各种文化艺术形式也由此获得了新的生命活力、拓展了新的存在空间,并日渐成为实现文化繁荣发展的基础性问题。历史上,艺术创作主体与技术进步之间始终是相互适应的。技术在客观物质层面超越和支撑着艺术特别是具体的创作实践活动,艺术则在主观精神层面努力突破着技术模式对艺术创意自由舒展的客观制约和技术理性思维的惯性束缚,同时,艺术还在用自身的创新和先锋思想在审美欣赏和价值判断等精神层面,实现着对社会的引领。在网络信息时代中,技术的进步与普及促使艺术创作中实际操作的入门条件降低,社会大众普遍成为艺术创作者和艺术欣赏者,并可在二者之间轻易实现转换。技术进步自然突破和消解了艺术作品的原有边界,艺术继而从精神层面扞卫和重构出作品自身新的审美形式边界,出现了艺术创作与欣赏、接受过程之间相互渗透、角色互换等互动发展的文化新景观。艺术是人类社会智慧的结晶,艺术作品的最高境界就是让艺术欣赏者发现自然山川的美、体会社会生活的美、感受精神心灵的美。在艺术作品中追求和体现真、善、美的精神境界,并以美感人、以文化人,最终提升社会大众的精神品格和审美境界,引领社会风尚是艺术的实践追求和文化价值的核心问题所在。在当前这个高新技术普遍应用的时代,大众文化的流行与普遍存在已成为社会发展过程中历史的必然。在技术给予我们更多帮助和机会的同时,我们着眼更多的应是对优秀传统文化精神的传承,以及对经典作品创作理念和艺术审美标准的坚守。以艺术创作实践活动为中心,技术与艺术的完美结合,不仅会创造出精美的作品,而且会在现代化传媒和多元文化的融合交汇中,催生出以人为原点的理论价值体系。创作实践与理论评论的磨合、驱动,会共同营造出浓厚的文化氛围,我们应以此培育国家文化软实力,提升社会文明水准,涵养国民艺术精神。我们在艺术实践活动中不断实现对于技术的规范、引导、超越、提升,就一定能够促使艺术最终成为引领和推动人类社会不断前行的持续动力,以及不断超越现实、启蒙思想、开创未来、实现美好社会生活的智慧源泉。
江峰[5]（2007）在《齿科用可见光固化胶粘剂的制备及性能研究》文中研究指明近年来,可见光固化胶粘剂在牙科修复中应用广泛。由于此类胶粘剂能起到抵抗微渗漏,封闭基牙和修复体之间的间隙,并且通过机械的、化学的结合方式将基牙和修复用复合树脂粘接在一起的作用,因此其对于固定修复用复合树脂,防止继发龋显得尤为重要。但由于牙齿组织结构和口腔环境的特殊性,以至一直未能完全解决粘接强度和耐久性的问题。为此,本课题的主要目的在于研究开发出一种具有良好粘接强度和耐水性的可见光固化胶粘剂。本论文的研究工作分为两部分,第一部分为可见光固化胶粘剂基质树脂的制备及表征;第二部分为粘接体系的制备及其性能测试。首先,制备出四种基质树脂。采用直接酯化法,以顺丁烯二酸酐、环氧树脂、甲基丙烯酸为原料合成出顺丁烯二酸酐改性的环氧甲基丙烯酸酯;以甲苯2,4-二异氰酸酯、甲基丙烯酸羟乙酯、聚乙二醇-400为原料合成出聚氨酯甲基丙烯酸酯,然后与顺丁烯二酸酐改性的环氧甲基丙烯酸酯共混;分别以六亚甲基二异氰酸酯、环氧甲基丙烯酸酯和二苯基甲烷二异氰酸酯、环氧甲基丙烯酸酯为原料合成出两种异氰酸酯改性的环氧甲基丙烯酸酯。其次,将四种基质树脂配合稀释剂、光引发剂、偶联剂、填料等制备出可见光固化胶粘剂及复合树脂,考察了不同基质树脂及各个组分对胶粘剂及复合树脂性能的影响。最后,通过正交试验得到胶粘剂的最佳配比。试验结果表明,四种基质树脂中,以二苯基甲烷二异氰酸酯作基质树脂制备的粘接体系效果最好。并且当基质树脂与稀释剂质量比为3:2、光引发剂含量为0.4%、偶联剂含量为0.5%时,胶粘剂对玻璃和牙齿的粘接剪切强度分别达到8.64MPa和12.18MPa。当基质树脂与稀释剂质量比为3:2、光引发剂含量为0.3%、填料含量为30%时,复合树脂的压缩强度和固化深度分别达到240MPa和4.14mm。
刘建国[6]（2007）在《耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制》文中提出光刻胶是完成微电子制造光刻工艺的关键性基础材料,它决定着微电子技术的发展水平。光刻胶通常由成膜树脂、感光剂、溶剂和一些添加剂组成。在光刻胶的研制方面,我国与国外相比,还有比较大的差距。本文采用新的方法,合成出了一系列光刻胶成膜树脂的单体,包括:N-苯基甲基丙烯酰胺、N-（p-羟基苯基）甲基丙烯酰胺、N-（p-乙酰氧基苯基）甲基丙烯酰胺、对特丁氧酰氧基苯乙烯（PTBOCS）、N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯和N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯;并对它们进行了FT-IR和1H NMR表征。制备了两种常用的248nm深紫外光刻胶用光致酸发生剂（PAG）对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐和N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲基苯磺酸酯,对它们进行了FT-IR和1H NMR表征,测试了它们的热性能、紫外光吸收性能和溶解性能。结果表明它们适合作深紫外光刻胶的PAG。通过自由基聚合的方法,采用苯乙烯和前面制备的单体合成了三种聚合物:聚苯乙烯共N-（p-羟基苯基）马来酰亚胺,聚N-（p-羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-（p-羟基苯基）马来酰亚胺。测试了它们的相关性能。结果表明它们的玻璃化温度Tg均在250℃以上,具有良好的耐高温性能、溶解性能、成膜性能和亲水性,可以用作耐高温紫外正型光刻胶的成膜树脂。利用前面已经合成的单体PTBOCS和N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,制备了新的聚合物聚PTBOCS共N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,对它进行了FT-IR表征,测试了它的热性能和紫外吸收性能;结果表明,该聚合物具有良好的耐热性能（Tg=175℃）、248nm深紫外光透光性能、溶解性能和成膜性能,并且与基体有良好的结合力,适合作248nm深紫外光刻胶的成膜树脂。而另外一种新的聚合物聚PTBOCS共N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯因其溶解性不好,不适合作光刻胶的成膜树脂。首次将聚N-（p-羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺和聚N-苯基甲基丙烯酰胺共N-（p-羟基苯基）马来酰亚胺用作耐高温的紫外正型光刻胶的成膜树脂;通过与感光剂重氮奈醌磺酰氯（DNS）和阻溶剂二苯甲酮复配,较详细地探讨了聚N-（p-羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺—DNS系紫外正型光刻胶的配方组成和与之配套的光刻工艺条件,表明它的成像反差γ=3.001,它的等离子蚀刻速率可以与线形酚醛树脂—重氮萘醌（DNQ）系紫外光刻胶的相比,它的分辨率可以达到1μm左右。开发了一种新的248nm深紫外单层光刻胶体系,成膜树脂采用聚PTBOCS共N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯,PAG采用对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐,阻溶剂为（4,4’-二特丁氧酰氧基）二苯基丙烷,溶剂采用1:1（v/v）的乙二醇单甲醚乙酸酯（EGMEA）和乳酸乙酯（EL）的混合液,显影液为2.38%（w/w）氢氧化四甲基铵（TMAH）溶液。探讨了该系光刻胶的配方组成和与之配套的光刻工艺条件,结果表明这是一种环境稳定的化学增幅型深紫外光刻胶。它的抗蚀刻能力与线性酚醛树脂—DNQ系光刻胶的基本相同,初步的光刻实验表明,它的分辨率至少在0.5μm左右,它的感光灵敏度为22mJ/cm2。分别探讨了耐高温紫外正型光刻胶聚N-（p-羟基苯基）甲基丙烯酰胺共N-苯基马来酰亚胺—DNS系和248nm深紫外光刻胶聚PTBOCS共N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯—对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐体系的显影成像机理。
张卫华[7]（2007）在《铁电薄膜的微细图形制备及其性能研究》文中研究表明锆钛酸铅（PZT）、锆钛酸铅镧（PLZT）、钛酸锶钡（BST）等铁电薄膜由于具有铁电、压电、热释电等效应,在非挥发性存储器、非制冷红外焦平面阵列探测器以及微电子机械系统等高新技术领域有重要的应用。随着集成铁电学的发展,铁电器件的集成度不断提高,制备高性能的铁电器件,除了制备优良的铁电薄膜以外,其微细图形制备也成为关键技术之一。因此,研究铁电薄膜微细图形制备对于铁电器件的发展具有重要的理论意义和实用价值。本文系统研究了PZT、PLZT、BST系列铁电薄膜的化学修饰法感光性溶胶合成机理和直接感光法微细图形制备原理,讨论了不同衬底、不同晶种层对薄膜的相转变温度、晶体结构及其性能的影响,提出了PZT、PLZT、BST系列铁电薄膜的感光性Sol-gel工艺及其微细图形、微阵列制备新方法。系统研究了化学修饰剂β-二酮（乙酰丙酮、苯甲酰丙酮）与乙酸铅、硝酸氧锆、锆酸丁酯、钛酸丁酯、硝酸镧、乙酸钡、氯化锶等出发原料的配位螯合反应过程,结果表明:（1）β-二酮（乙酰丙酮、苯甲酰丙酮）可以和乙酸铅、硝酸氧锆、锆酸丁酯、钛酸丁酯发生配位螯合反应,形成相应的金属螯合物结构,在后续的溶胶合成和凝胶薄膜制备过程中均能够稳定存在;在本研究条件下,β-二酮（乙酰丙酮、苯甲酰丙酮）不能和硝酸镧、乙酸钡、氯化锶发生化学配位反应。（2）利用化学修饰剂β-二酮（乙酰丙酮、苯甲酰丙酮）与PZT、PLZT、BST溶胶合成过程中的部分出发原料可以发生配位螯合反应的特性,可以合成含有螯合物结构的PZT、PLZT、BST系列溶胶,其紫外特征吸收峰为其中螯合物结构的特征吸收峰的加和结果,并随着螯合物的种类和相对含量的不同在一定范围内变化。（3）所合成的PZT、PLZT、BST溶胶及其凝胶薄膜在可见光、大气环境下具有良好的热稳定性和化学稳定性;采用适当波长范围的紫外光源照射凝胶薄膜,可以光致分解薄膜中的螯合物结构,从而使凝胶薄膜表现出明显的感光特性。（4）对相应凝胶薄膜采用直接感光工艺,结合乙醇溶洗和热处理过程,可以得到具有微细图形的铁电薄膜。（5）采用苯甲酰丙酮为主要化学修饰剂合成的螯合物及其最终制备的溶胶和凝胶薄膜具有更好的感光性。系统研究了在不同衬底上制备的PZT、PLZT、BST薄膜相转变温度、晶体结构及其铁电、介电性能,结果表明:（1）本研究所采用的微细图形制备工艺对铁电薄膜的组分、晶体结构、铁电介电性能没有明显影响。（2） PZT、PLZT、BST铁电薄膜生长和晶相转变,属于“形核控制”方式,采用晶格匹配度好的衬底或晶种层能提供其异质形核核心,能有效改善PZT、PLZT、BST薄膜的铁电、介电性能。目前采用该工艺制备的PZT、PLZT、BST薄膜的最低热处理温度介于550℃～600℃,基本接近或达到铁电器件集成的允许温度和基本性能要求。采用双光束He-Cd激光的二次干涉,通过控制曝光时间,可以在无需掩模的条件下,制备大面积、微米级、亚微米级PZT、PLZT薄膜的光栅、格栅和点阵列微细图形。目前研究制备的阵列图形最小周期间距为0.9μm,阵点单元尺寸约为350nm×350nm×40nm;所制备的微阵列的阵点单元在交变电场作用下,具有明显的铁电特性。制备出高密度的二维ZrO2格栅模板,并在格栅孔内组装了PZT、PLZT铁电阵列,其中,PZT组装阵列的周期间距为1μm,阵列单元尺寸约为500nm×500nm×30nm;PLZT组装阵列周期间距为500nm,阵列单元尺寸约为250nm×250nm×30nm。研究结果表明,在该尺度下铁电阵列单元仍表现出明显的铁电特性。本研究还将扫描力探针显微镜和铁电分析仪联用,研究、讨论了铁电微阵列单元的电滞回线直接原位测试方法,与近年来发展起来的压电响应扫描力探针显微镜（PFM, Piezoresponse Force Microscope）相比,没有压电性、取向性和膜厚的严格限制,可以直接测试纳米厚度的铁电单元的电滞回线,是对铁电薄膜微阵列的铁电特性评价方法的丰富和补充。
菅晓霞[8]（2006）在《可见光固化胶粘剂的研制》文中研究表明本文在综述前人研究的基础上,采用超微Si02做填料,合成了适用于齿科的可见光固化胶粘剂,其性能优于国内同类产品,并研究了其粘接机理。主要内容和结果如下:1选用叔胺类催化剂,合成了基质树脂环氧.甲基丙烯酸酯,并加入顺丁烯二酸酐合成了EAM树脂,讨论了催化剂种类与用量,反应温度及时间、投料比等条件对反应的影响,并对其动力学机理进行了研究,最后通过正交实验,对反应进行了优化。通过动力学分析证明在低于110℃是一级反应。2先将偏苯三酸酐与氯化亚砜反应,制备中间体偏苯三酸酐酰氯,所得中间产物再与甲基丙烯酸羟乙酯进行脱氯化氢反应,利用四氯化碳进行重结晶即得合成产物4-META。讨论了各单体用量、反应时间、溶剂及其反应温度对反应及其产物性能的影响,并通过红外光谱对物质进行了鉴定。3对光固化引发剂及其引发促进剂、氧气的阻聚作用对固化速率的影响的研究,发现初始固化速率随引发剂用量的增大而线性加大,但在组分中达到一定程度后,固化速率不在增大。研究了填料Si02种类的选取和用量确定,交联剂用量对底胶和复合树脂强度的影响,发现交联程度和基质树脂与交联剂配比有关,同时发现复合树脂有一定固化深度,使用时在超过3mm最好分层固化。
李春荣,赵剑英,丁伦汉,钱鹏,黄家贤[9]（1998）在《感光材料底胶的合成及性能研究》文中研究说明本文以丙烯酸酯类和偏二氯乙烯为原料，采用乳液聚合法，合成了非交联型和抗溶剂性的热固交联型两类专用于涤纶膜与多种材料、特别是与高分子量的感光材料之间粘接的乳胶。研究了反应温度、引发剂浓度和反应时间对乳液聚合的影响，以及聚合体系中不同组分对粘接效果的影响。本文合成胶粘剂除具有乳胶的通用优点之外，还同时具有反应型特点，解决了涤纶片基对感光材料的粘接问题。
魏杰[10]（1998）在《激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光》文中进行了进一步梳理近年来随着现代科学技术飞速发展，社会各个领域的信息量急剧增加，现有信息记录材料已不能满足日益增长的信息存储需要，激光光盘具有巨大存储容量、高清晰度高保真图像、数字式信号方式读取、较长使用寿命和较低廉价格，其诞生和发展无疑是信息革命的重大成就。 本论文研究激光光盘母盘刻录用高分辨率信息记录材料，它也是进行精细图像加工、制造微电子器件、印刷制版关键性化学品。所用的激光光源以其单色性、相干性好、功率大的特点使感光材料在微米大小高强光点下曝光得到高集成度、高分辨率的图像，而成为光刻技术的新光源。 高分辨率信息记录材料通常是正性光致抗蚀剂，它由光敏剂、成膜树脂、溶剂及其相关添加剂组成。本论文以邻叠氮萘醌磺酰氯为感光剂，选择并合成酚醛树脂、2，3，4—三羟基二苯甲酮、2，2′，3，4—四羟基二苯甲酮、2，3′，4，4′—四羟基二苯甲酮和2，3，3′，4，4′，5—六羟基二苯甲酮，以及羟基硅、多羟基萘醌为接枝母体，通过缩合反应合成系列邻叠氮萘醌型光敏剂。利用红外、紫外光谱，元素分析，液相色谱等研究了光敏剂的组成。通过对酚醛树脂分子量及其分布的测定，筛选出适应于感光组成物的成膜树脂。以及具有良好溶解性的溶剂，配制出基本感光组成物。为使感光组成物的吸收波长与激光更好地匹配，选择并合成了香豆素酮等光谱增感剂。 论文进行了感光组成物在UV曝光下感光性能的研究，采用酸碱滴定法和动力学作图法研究了上述结构光敏剂的量子效率，利用重量法及灰梯尺法测定出特性曲线、相对感度及分辨率。此外也研究了粘度、玻璃化温度、前烘焙、放置稳定性等。得到分辨率＜1μm，感度≤100mJ／cm2的高分辨率信息记录材料。 论文也进行了感光组成物感激光性能的研究：利用激光荧光光谱及激光诱导荧光衰减法实现了实时探测邻叠氮萘醌型光敏剂感激光光化学过程、中间体的产生与结构以及增感作用的研究，该方法在国内外文献中未见有报道。探讨了利用激光感光特性曲线研究感光组成物激光感光度及增感倍率。经国家光盘联合实验室测试，得到涂敷成膜性能良好，预刻槽宽0.60+0.06μm，预刻槽间距1.62±0.10μm，预刻槽深800nm左右，分辨率满足光盘0.6μm刻槽需要的感激光高
二、感光材料底胶的合成及性能研究Ⅱ（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、感光材料底胶的合成及性能研究Ⅱ（论文提纲范文）
（1）基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 复制型微纳加工技术 |
| 1.2.1 光学投影光刻 |
| 1.2.2 纳米压印技术 |
| 1.3 生成型加工技术 |
| 1.3.1 电子束直写式曝光 |
| 1.3.2 微球超分辨光刻 |
| 1.4 数字光刻技术 |
| 1.4.1 空间光调制器简介 |
| 1.4.2 基于DMD的数字光刻技术基本工作原理 |
| 1.4.3 基于DMD的数字光刻技术研究现状 |
| 1.5 本文主要研究内容与章节安排 |
| 第2章 基于DMD的数字光刻系统设计及搭建 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 基于DMD的数字光刻系统框架 |
| 2.2.1 照明系统 |
| 2.2.2 掩模生成器件:数字微镜(DMD) |
| 2.2.3 光学投影系统 |
| 2.2.4 光学检焦方案 |
| 2.3 系统集成及调试 |
| 2.3.1 光刻系统整体光路原理图 |
| 2.3.2 数字光刻系统零部件选购与加工 |
| 2.3.3 数字光刻系统调试 |
| 2.4 本章内容小结 |
| 第3章 基于DMD的类三维空间光场编码调制技术 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 光敏介质的感光模型 |
| 3.2.1 正性/负性光刻胶 |
| 3.2.2 光刻胶的感光模型 |
| 3.3 基于聚合叠加方式的类三维光场多步调控方法 |
| 3.4 DMD类三维光场单步调控方法 |
| 3.4.1 基于空间编码调制的等效灰度调控方法 |
| 3.4.2 基于脉冲宽度编码调制原理的单步调控方法 |
| 3.4.3 基于脉冲宽度编码调制的类三维光场光刻理论 |
| 3.5 基于类三维光场编码技术的曝光场均匀性优化 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 类三维光场调控实现微复眼结构的快速制备 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 仿生微复眼的研究现状 |
| 4.3 微复眼设计及成型工艺 |
| 4.3.1 微复眼结构设计 |
| 4.3.2 灰度编码掩模设计 |
| 4.3.3 微复眼的快速制备 |
| 4.4 仿生微复眼制备结果与分析 |
| 4.4.1 微复眼制备结果 |
| 4.4.2 微复眼器件形貌分析 |
| 4.4.3 微复眼光学性能分析 |
| 4.5 本章小节 |
| 第5章 基于DMD的数字光刻中邻近效应编码校正技术 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 数字光刻相关成像理论 |
| 5.2.1 Huygens-Fresnel原理 |
| 5.2.2 Fraunhofer衍射理论 |
| 5.2.3 部分相干成像理论 |
| 5.3 光学投影光刻中的邻近效应及其优化技术 |
| 5.3.1 光学邻近效应引论 |
| 5.3.2 常见的光学邻近效应优化技术 |
| 5.4 数字光刻中的邻近效应及其编码优化技术 |
| 5.4.1 数字光刻中的邻近效应 |
| 5.4.2 常规光学邻近效应优化技术的局限性 |
| 5.4.3 数字光刻中的邻近效应优化理论 |
| 5.4.4 优化结果分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 本文工作内容总结 |
| 6.2 论文创新点 |
| 6.3 研究展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 |
（2）紫外固化丙烯酸酯压敏胶及其氢氧化铝阻燃的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 丙烯酸酯PSA的研究进展 |
| 1.2.1 丙烯酸酯PSA聚合方式的研究进展 |
| 1.2.2 丙烯酸酯PSA中组成单体的研究进展 |
| 1.3 紫外光固化的研究进展 |
| 1.3.1 紫外光固化机理 |
| 1.3.2 紫外光固化体系的研究进展 |
| 1.3.3 紫外光固化配方的研究进展 |
| 1.4 改性丙烯酸酯树脂的研究进展 |
| 1.4.1 有机树脂改性丙烯酸酯树脂 |
| 1.4.2 无机材料改性丙烯酸酯树脂 |
| 1.5 课题的研究意义、研究内容以及创新点 |
| 1.5.1 课题的研究意义 |
| 1.5.2 课题的研究内容 |
| 1.5.3 课题的创新点 |
| 第二章 实验设计与实验实施方法 |
| 2.1 实验药品及仪器 |
| 2.1.1 实验药品 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 |
| 2.2 实验方案设计 |
| 2.2.1 预聚物合成实验方案设计 |
| 2.2.2 紫外光固化丙烯酸酯PSA的实验方案设计 |
| 2.3 性能测试及表征方法 |
| 2.3.1 溶液黏度 |
| 2.3.2 透光率 |
| 2.3.3 粘结强度 |
| 2.3.4 红外光谱(FI-IR)分析 |
| 2.3.5 热重(TGA)分析 |
| 2.3.6 DSC分析 |
| 2.3.7 SEM形貌分析 |
| 2.3.8 热重与红外联用(TG-IR)分析 |
| 2.3.9 垂直燃烧等级 |
| 第三章 UV光固化丙烯酸酯预聚体的合成和性能分析 |
| 3.1 丙烯酸酯预聚体的合成反应机理 |
| 3.2 丙烯酸酯预聚体的合成步骤 |
| 3.3 反应时间对黏度的影响 |
| 3.4 链转移剂对黏度的影响 |
| 3.5 光引发剂的影响 |
| 3.6 性能与分析 |
| 3.6.1 傅里叶红外光谱图 |
| 3.6.2 热稳定性分析 |
| 3.6.3 DSC分析 |
| 3.6.4 粘结性能 |
| 3.6.5 透光率 |
| 3.7 本章小结 |
| 第四章 UV光固化高剥离强度丙烯酸酯PSA的制备及表征 |
| 4.1 UV固化高剥离强度丙烯酸酯PSA的合成 |
| 4.2 性能与分析 |
| 4.2.1 傅里叶红外光谱图 |
| 4.2.2 DSC分析 |
| 4.2.3 热稳定性分析 |
| 4.2.4 粘结性能 |
| 4.2.5 硬度 |
| 4.2.6 固化时间 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 UV光固化阻燃丙烯酸酯PSA的合成及表征 |
| 5.1 阻燃丙烯酸酯PSA的制备 |
| 5.2 性能与分析 |
| 5.2.1 热稳定性分析 |
| 5.2.2 热重-红外联用分析 |
| 5.2.3 垂直燃烧等级 |
| 5.2.4 SEM表面形态 |
| 5.2.5 180°剥离强度 |
| 5.2.6 硬度 |
| 5.3 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读博士/硕士学位期间取得的研究成果 |
| 致谢 |
| 附件 |
（3）外贴FRP纤维的混凝土抗氯盐侵蚀试验研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 氯离子腐蚀混凝土结构的机理 |
| 1.2.1 氯离子在混凝土中的传输机理 |
| 1.2.2 氯离子在混凝土内结合机理 |
| 1.2.3 氯离子导致钢筋锈蚀的机理 |
| 1.3 氯盐侵蚀混凝土传输模型研究 |
| 1.3.1 考虑扩散系数的时变因素的修正 |
| 1.3.2 考虑表面氯离子浓度变化的修正 |
| 1.3.3 考虑氯离子结合能力的修正 |
| 1.4 氯盐侵蚀FRP加固混凝土结构的耐久性研究 |
| 1.4.1 结构力学性能研究现状 |
| 1.4.2 抗氯离子侵蚀性能研究现状 |
| 1.5 紫外线老化材料机理与耐久性研究现状 |
| 1.5.1 紫外线光辐射作用 |
| 1.5.2 合成材料紫外线老化机理 |
| 1.5.3 紫外线对工程材料耐久性影响研究现状 |
| 1.6 目前研究现状的不足之处 |
| 1.7 本文的研究目标和研究内容 |
| 第二章 外贴FRP纤维的混凝土抗氯盐侵蚀试验 |
| 2.1 试验材料 |
| 2.1.1 混凝土 |
| 2.1.2 纤维布材料 |
| 2.1.3 树脂基体材料 |
| 2.2 试件设计与制作 |
| 2.2.1 对照组混凝土试件 |
| 2.2.2 FRP加固混凝土试件 |
| 2.3 试验设备 |
| 2.4 试验方法 |
| 2.5 试验结果与分析 |
| 2.5.1 浸泡时间对结果的影响 |
| 2.5.2 FRP纤维布种类对结果的影响 |
| 2.5.3 破坏现象与模式 |
| 2.5.4 FRP纤维布混凝土抗压强度 |
| 2.6 本章小结 |
| 第三章 外贴FRP纤维的混凝土抗氯盐与紫外线耦合侵蚀试验 |
| 3.1 试验材料 |
| 3.1.1 混凝土 |
| 3.1.2 纤维布材料 |
| 3.1.3 树脂基体材料 |
| 3.2 试件设计与制作 |
| 3.3 模拟紫外线老化浸泡箱的设计与制作 |
| 3.3.1 紫外线光源的选取 |
| 3.3.2 试验箱的设计制作 |
| 3.4 试验设备 |
| 3.4.1 人工模拟紫外老化浸泡箱 |
| 3.4.2 SEM桌面型扫描电子显微镜 |
| 3.4.3 其他设备 |
| 3.5 试验方法 |
| 3.6 试验结果与分析 |
| 3.6.1 紫外线耦合与作用时间对结果的影响 |
| 3.6.2 FRP纤维布种类对结果的影响 |
| 3.6.3 作用前后试件的表观变化 |
| 3.6.4 SEM扫描电镜分析 |
| 3.7 本章小结 |
| 第四章 外贴FRP纤维的混凝土氯盐侵蚀模型 |
| 4.1 外贴纤维的混凝土氯离子侵蚀模型 |
| 4.2 理论扩散模型的试验验证 |
| 4.3 扩散模型的预测分析 |
| 4.4 考虑FRP纤维防护层损伤的影响 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 研究总结 |
| 5.2 研究展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
（4）技术发展与艺术形态嬗变的关系研究（论文提纲范文）
| 中文摘要 |
| Abstract |
| 0 绪论 |
| 第一节 本论文研究的概念和范畴 |
| 一、本研究中有关的基本概念和理论范畴 |
| (一)关于“技术”、“艺术”基本概念的界定 |
| 1.关于“艺术”的概念 |
| 2.关于“技术”的概念 |
| (二)关于“技术形态”与“艺术形态”等概念的界定 |
| 1.关于“形态”的概念 |
| 2.关于“生态”概念 |
| 3.关于“形式”的概念 |
| (三)关于“生态”“形态”“形式”的概念区分 |
| 二、本论文研究中有关理论问题的讨论和界定 |
| 第二节 本论文研究的目的、意义和创新之处 |
| 一、研究目的 |
| 二、研究意义 |
| 三、本研究的创新之处 |
| (一)创新目标 |
| (二)创新价值 |
| 第三节 本论文研究的思路和方法 |
| 一、研究思路 |
| 二、研究框架体系 |
| 三、研究方法 |
| 四、重点和难点问题 |
| 五、解决方案 |
| 第四节 有关本论文选题与研究现状的分析 |
| 一、国内相关研究动态分析 |
| (一)从宏观的艺术学理论视野展开分析 |
| (二)从微观的门类艺术学视野展开分析 |
| 1.设计学学科研究层面 |
| 2.美术学学科研究层面 |
| 3.戏剧与影视学学科研究层面 |
| 4.音乐与舞蹈学学科研究层面 |
| 5.其他学科及交叉研究层面 |
| 二、国外相关研究动态分析 |
| (一)艺术原理性研究成果 |
| (二)门类艺术的典型个案研究成果 |
| (三)其他相关的人文类理论研究成果 |
| 三、国内高校部分硕博士论文中有关研究的概述分析 |
| (一)中国知网硕博士论文数据库检索分析概述 |
| (二)关联程度密切的重点论文成果分析 |
| (三)涵盖其他相关论文成果的总体状况分析 |
| 第一章 技术与艺术之关系发展的理论思考 |
| 第一节 关于技术与艺术关系问题的内在本质特征 |
| 一、技术与艺术相互关系中内在的辩证统一性 |
| (一)技术与艺术之间内在的关联性 |
| (二)技术发展对艺术影响的多元性 |
| 二、技术与艺术相互之间的制约和影响 |
| (一)技术发展带来的文化问题同样体现在技艺关系上 |
| (二)艺术在技术影响下对自身独立精神与美学品格的坚守 |
| 1.艺术作品的精神属性是区别于技术的最大特征 |
| 2.艺术在接受与选择技术中始终保持自身独立 |
| 3.优秀艺术作品均实现了技术与艺术的完美统一 |
| 第二节 西方理论界有关技术与艺术问题的讨论 |
| 一、西方理论界相关研究历史脉络 |
| (一)基本脉络 |
| (二)主要表现 |
| 二、关注技术与艺术问题的主要流派及其学术观点 |
| (一)德国法兰克福学派 |
| (二)英国伯明翰文化研究学派 |
| (三)媒介文化研究学术群体 |
| 三、主要学术群体之间围绕技术艺术问题研究的理论比较与借鉴意义 |
| (一)关于技术的作用 |
| (二)关于技术的目的 |
| (三)关于技术的后果 |
| 第三节 关于技术与艺术关系问题研究的现实意义 |
| 一、技术与艺术都对人类社会的生存发展发挥了重要作用 |
| 二、当下开展技术与艺术关系问题研究的重要性 |
| (一)技术与艺术关系问题研究的基础性与复杂性 |
| (二)技术自身并非与艺术一样具备意识形态属性 |
| 三、当下开展技术与艺术关系问题研究的必要性 |
| (一)艺术对技术的影响研究是目前的普遍欠缺 |
| (二)从宏观艺术学视角重新思考技术与艺术的关系 |
| (三)依托技术与艺术关系研究探索艺术学理论学科建构 |
| 第四节 关于技术与艺术问题研究的理论基点和关键问题 |
| 一、需要坚守的理论基点 |
| (一)立足于中国特色艺术学理论学科体系和艺术话语体系 |
| (二)关注技术促进艺术形态演进中的普遍性与特殊性 |
| 二、需要把握的几个关键性问题 |
| (一)需要关注和区分中西方之间的文化差别 |
| (二)分析把握艺术创意表现与新技术应用之间的关系 |
| (三)技术是否应视作独立的文化因素和社会力量 |
| (四)社会现实客观条件的限制和创作实践中的实际影响 |
| 本章小结 |
| 第二章 技术与艺术关系的形成及相互影响 |
| 第一节 历史进程:技术与艺术发展的历史性特征及阶段性表现 |
| 一、原始的技艺之美涵盖且统一了技术与艺术因素 |
| (一)技术与艺术的原始统一:人类社会发展初期的同一规律 |
| (二)人类社会技术发展初始阶段中艺术仍创造了自身辉煌 |
| 1.中国 |
| 2.西方 |
| (三)社会宗教道德伦理对于技艺创造能力空间的束缚 |
| 二、技术与艺术分化之后各自拥有了不同诉求 |
| (一)学科自身成熟发展的不同路径 |
| (二)个人精神价值追求的不同选择 |
| (三)艺术家面对经济发展与社会运行的实际选择 |
| 三、技术发展促使人类创造第二自然并引发自我审美精神观照 |
| (一)技术直接指向和进入艺术本体影响了创作呈现 |
| (二)技术进步影响了审美文化倾向和精神价值观念 |
| (三)技术启发和培育了创作思潮、价值思索和启蒙精神 |
| 四、信息时代艺术创作审美观念与形式探索的根本性改变 |
| (一)技术逻辑带动人文思潮、审美观念与艺术作用的变化 |
| (二)现代技术通过创作引发对世界的全新认知体悟和艺术描述 |
| (三)人工智能等新兴技术工具对于人类审美精神限阈的挑战 |
| 第二节 技术对艺术表现形态的正向影响 |
| 一、制作工艺呈现:技术作为艺术创作形式表现的呈现手段 |
| (一)艺术作品制作工艺受到技术进步与社会文化观念的影响 |
| (二)技术呈现作为艺术创作外在形式表现的必要手段 |
| 二、材料载体变化:技术引导创作形式演变趋势及观念转换 |
| (一)艺术创作载体与作品材料的升级推动了创意的实现 |
| (二)技术推动实现了艺术表达的观念化、隐喻性和时空性 |
| 三、情境氛围营造:技术作为艺术场域精神展现的营造要素 |
| (一)营造情境作为技术不断介入艺术创作的有效方式 |
| (二)技术进步推动审美价值取向与艺术风格的时代转向 |
| (三)艺术创作中的精神塑造、观念表达与个性情感抒发 |
| 四、信息媒介表达:技术作为艺术介入现实生活的媒介依托 |
| (一)技术进步打造了艺术介入现实生活的媒介依托 |
| (二)促使审美文化价值观念和艺术精神场域氛围特征的新变化 |
| (三)技术信息工具已融入艺术形态深入影响社会生活 |
| 第三节 艺术本质属性对技术生态变革的促进和制约作用 |
| 一、艺术的文化交流属性促进了技术应用的延伸 |
| (一)中西方艺术的文化交流创新推动了整个文化发展进程 |
| (二)缺乏文化底蕴与艺术思想的技术应用创造不出完美作品 |
| (三)艺术文化交流促进了技术在不同文化场域中的应用和延伸 |
| 二、艺术的审美属性促使技术存在与呈现的细化 |
| (一)以技术进步为基础的时尚化保障艺术审美的个性化追求 |
| (二)技术在服务艺术中完善自身实现对未知领域的有效探索 |
| (三)艺术不断规范和驱动技术进步并促成真善美的有机统一 |
| 三、艺术的教化属性改善了技术理性和技术伦理的异化倾向 |
| (一)建筑艺术是艺术教化属性改善技术伦理的典型代表 |
| (二)技术为艺术教化功能服务的同时文化改变了技术伦理 |
| (三)技术应用与文化观念、审美意识、艺术风格的互动统一 |
| 四、艺术创意创新思维驱动了技术的进步和革新 |
| (一)艺术的创意表现需求直接促使技术进步与革新的产生 |
| (二)艺术创意引导和促使实现技术与艺术审美的完美结合 |
| (三)技术媒介的作用与艺术技术之间跨界衍生的新艺术形态 |
| 本章小结 |
| 第三章 技术推动艺术形态表现变化与门类拓展 |
| 第一节 艺术作品的空间表现形式及其社会文化生态变化 |
| 一、技术造就了艺术作品展现和存在空间的广延化 |
| (一)技术对艺术存在状态与展示空间拓展创新的促进作用 |
| (二)艺术的创意创新本性引领了对技术发展程度和模式的突破 |
| 二、技术推动了经典艺术世俗化与大众文化崛起的进程 |
| (一)机械复制技术和艺术产业化运营对社会文化生态结构的影响 |
| (二)技术化创作和现代大众媒介铺垫了多元价值观念和审美趣味 |
| 三、技术拓展出了非物质化的艺术空间新形态 |
| (一)非物质化对于视觉文化形式与社会生活方式的影响 |
| (二)非物质化推动形成了新的审美文化形态和社会文化生态 |
| (三)新兴技术条件下传统艺术精神和美学内涵的重新定位 |
| 第二节 艺术语言表达与作品传播维度出现了新的形式特征 |
| 一、技术影响下艺术感受的非理性化趋向 |
| (一)作品外在感受方式和艺术欣赏心理的变化 |
| (二)作品内在意蕴、精神品格和思想内涵的变化 |
| (三)日常生活的直观认识和感性经验始终不可缺失 |
| 二、技术影响下艺术元素的动态化趋向 |
| (一)技术影响下电影艺术元素的动态化趋向 |
| (二)技术影响下摄影艺术元素的动态化趋向 |
| (三)创作元素的动态化是传媒时代艺术表达的必然要求 |
| 三、技术影响下艺术语言的综合化趋向 |
| (一)技术的内在推动作用 |
| (二)艺术的外在形式表现 |
| 四、技术影响下艺术传播的虚拟化趋向 |
| (一)传播平台的改变 |
| (二)传播方式的改变 |
| (三)传播途径的改变 |
| 第三节 新艺术现象与新艺术形态推动形成了新艺术门类 |
| 一、技术推动出现了新的艺术现象和艺术形态 |
| (一)新艺术现象及其表现方式促成了新的艺术形态 |
| (二)新的技术和艺术方式生成了新的审美文化心理结构 |
| (三)新艺术形态展现了艺术生态系统的开放性与创新性 |
| 二、新的艺术现象和艺术形态积聚生成了新的艺术门类 |
| (一)新技术与新艺术形态共同塑造了新的内在文化结构 |
| (二)当代艺术传播整体生态环境的根本性变化成为外部主因 |
| (三)新兴技术的广泛运用成为新艺术类型与门类的社会基础 |
| 本章小结 |
| 第四章 技术推动艺术创作领域产生新变化 |
| 第一节 艺术表现程式与作品呈现场域、接受方式的新变化 |
| 一、技术促使艺术程式随时代而变 |
| (一)艺术程式作为作品创作表现的基本形式规范 |
| (二)艺术程式的变化和接受的文化影响展现多元 |
| (三)技术推动艺术程式变化产生革命性突破 |
| 二、技术导致艺术呈现形态虚拟化 |
| (一)技术媒介与艺术作品的可复制性造就了虚拟化呈现 |
| (二)虚拟化突破了创作与欣赏的界限强化了艺术存在 |
| 三、技术造就了艺术作品欣赏与接收方式的便利化 |
| (一)艺术创作与欣赏的审美需求之间存在尖锐矛盾 |
| (二)新技术媒介成就了艺术欣赏便利化的现实基础 |
| (三)技术突破了艺术展演传统场域并融合生成了新形态 |
| 第二节 艺术作品创作观念与工具、方法的变化 |
| 一、技术理性思维与艺术创作观念之间相互促进制约的关系 |
| (一)技术精神和实践理性思维影响了艺术创作观念 |
| (二)技术理性思维影响下出现了艺术发展的双面效应 |
| 二、技术对艺术作品创作的影响及其形式表现 |
| (一)技术对于艺术创作工具的影响 |
| (二)技术对艺术创作主体情感与审美观念的影响 |
| (三)技术对艺术创作观念和方法的影响 |
| 1.正面影响 |
| 2.负面影响 |
| 三、艺术创作实践活动对技术理性和自身困境的超越 |
| (一)技术理性与机械复制带来艺术风格变化与文化的危机 |
| (二)艺术创作坚守精神属性直指心灵超越了技术理性思维 |
| 第三节 艺术创作实践活动中主客体关系的变化 |
| 一、原始手工技艺条件下艺术创作主体突出和着重于“物”的表现 |
| (一)传统手工艺时代以“物”为基础背景的群体分化 |
| (二)技术支撑了艺术创作中客观“物”的审美形式表现 |
| (三)艺术创作者以“物”为基础托物言志表达精神追求 |
| 二、工业化大生产时代的大众化和波普化凸显批量复制的美学特征 |
| (一)工业革命后机器生产方式和批量复制美学观念的普遍影响 |
| (二)艺术创作在技术理性中的突围彰显了价值理念和文化精神 |
| (三)大众艺术创作与消费领域中的流行化和过度娱乐化问题 |
| 三、新的传播方式和艺术接受过程造就了主客体多元互动的新景观 |
| (一)新兴技术普及使大众顺利融入艺术创作与欣赏进程 |
| (二)技术使艺术创意和创作构思表达更加高效便捷 |
| (三)技术拓展了经典艺术作品的大众文化服务效能 |
| (四)技术使传统艺术作品的概念关系模式彻底改变 |
| (五)技术推动实现了艺术地位提升作用扩大功能拓展产业繁荣 |
| 本章小结 |
| 第五章 技术推动新艺术形式的衍生与跨界整合 |
| 第一节 新技术应用基础上的新艺术形式衍生及其形态表现 |
| 一、印刷技术对艺术表现形式及外在形态的影响 |
| (一)印刷技术应用初期艺术审美与功能应用统一在工艺装饰中 |
| (二)工业化阶段新的社会文化需求使艺术与功能实现新的统一 |
| 二、影像技术对写实艺术创作思想的影响和冲击 |
| (一)技术对摄影艺术写实性创作实践的影响 |
| (二)技术对于电影艺术创作发展的影响 |
| 三、计算机技术环境下艺术形态的演变与新生 |
| (一)计算机技术环境下艺术形态演变的发展历程 |
| (二)计算机技术环境下艺术形态演变的外在表现和形式特征 |
| 四、互联网技术环境下艺术形态表现的新特征 |
| (一)基础于新技术形式的时代的产物 |
| (二)艺术形态新特征表现的文化分析 |
| 第二节 新技术应用推动艺术作品创作实践趋向跨界整合 |
| 一、技术推动形成艺术创作表现形态的先锋性 |
| (一)新技术条件作为“先锋”观念形成的基础 |
| (二)技术进步带动了各艺术流派的探索创新 |
| 二、技术推升了艺术创作语言形式刺激的阈限 |
| (一)技术升级带动视听奇观与文化逻辑的改变 |
| (二)技术的普及与攀比加剧了娱乐化创作追求 |
| 三、技术延展了艺术自身存在和交往的空间 |
| (一)技术改变了艺术空间形式与社会文化结构 |
| (二)技术主动介入创作促成了艺术消费方式的多元 |
| (三)技术强化了艺术欣赏感受延伸了作品存在空间 |
| (四)技术加速多媒体信息方式与虚拟空间文化构建 |
| 四、技术加速了不同艺术表现形态的跨界整合 |
| (一)跨界艺术创作是技术推动产生的新艺术形态 |
| (二)新技术媒介方式创新是艺术作品跨界呈现的基础 |
| (三)跨界作品有利于彰显精神营造境界引领文化风尚 |
| (四)跨界整合的艺术表达能力与现场性优势成为风尚导向 |
| 本章小结 |
| 第六章 技术与艺术关系发展的新趋势 |
| 第一节 艺术与技术在包容与坚守、回归与超越中共同成长 |
| 一、技术与艺术的发展规律与文化表现 |
| (一)技术进步支撑艺术本体的开拓 |
| (二)艺术制约并赋予技术价值追求 |
| (三)新技术与艺术融合形成新文化形态 |
| 二、技术与艺术的辩证关系与社会影响 |
| (一)技术与艺术在相互促进中创新形式表现 |
| (二)中西方文化差异导致不同创作审美追求 |
| (三)艺术新形态的不断涌现造成新的门类 |
| (四)技术带动创作特征新变引领文化新风尚 |
| 三、技术与艺术交互形成多元文化景观 |
| (一)艺术个性化表现与精神追求突破了技术理性 |
| (二)新技术带来创作欣赏的角色互换与多元互动 |
| (三)技术推动艺术形态表现与审美价值理念创新 |
| (四)多元化新技术媒介挑战文化繁荣发展主动权 |
| 第二节 艺术理论思维引领人类艺术审美活动的价值方向 |
| 一、技术促发艺术先锋思想推动文化创新发展也带来异化倾向 |
| (一)技术进步对传统观念方式的冲击与深刻影响 |
| (二)技术以经济效率利益为中心改变了艺术节奏 |
| (三)技术垄断造成文化逻辑与传统美学观念变异 |
| 二、艺术活动对技术理性与技术控制引发的社会问题 |
| (一)技术理性、技术控制与艺术的过度娱乐化 |
| (二)新技术造成社会大众参与和艺术创作个性张扬 |
| (三)技术与艺术的深度交互亟需艺术批评启蒙与理论的反思引领 |
| 三、技术服从和服务于艺术作品的审美境界表达与人类社会精神价值追求 |
| (一)艺术作品创作是人类社会精神活动的最直接体现 |
| (二)技术最终服务于表达作品的审美境界与精神追求 |
| 四、技术与艺术共同在携手创新中引领发展、面向美好未来 |
| (一)技术艺术的协调统一是优秀作品的内在要求 |
| (二)以人为原点展开对人类精神世界的描绘表达 |
| (三)扎根传统紧跟时代创新形式携手传承与弘扬 |
| 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读学位期间发表的学术成果清单 |
| 致谢 |
（5）齿科用可见光固化胶粘剂的制备及性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 概述 |
| 1.2 齿科粘接体系 |
| 1.2.1 齿科胶粘剂的发展 |
| 1.2.2 齿科胶粘剂的分类 |
| 1.2.3 齿科修复用复合树脂 |
| 1.3 齿科粘接体系各组分的发展 |
| 1.3.1 基质树脂 |
| 1.3.2 交联单体 |
| 1.3.3 光引发体系 |
| 1.3.4 无机填料 |
| 1.3.5 粘接性偶联剂 |
| 1.4 牙科胶粘剂的粘接机理 |
| 1.4.1 牙釉质的粘接机理 |
| 1.4.2 牙本质的粘接机理 |
| 1.5 齿科粘接体系的发展趋势 |
| 1.6 本课题的研究目的、意义及内容 |
| 2 合成试验研究 |
| 2.1 试验设计思路 |
| 2.2 环氧甲基丙烯酸酯（Epoxy Methacrylate）的合成研究 |
| 2.2.1 反应方程式 |
| 2.2.2 合成方法 |
| 2.2.3 实验所用仪器及药品 |
| 2.2.4 测试方法 |
| 2.2.5 EAM 树脂合成反应方案 |
| 2.2.6 EAM 合成实验结果与讨论 |
| 2.3 顺丁烯二酸酐改性EAM 树脂的合成 |
| 2.3.1 反应方程式 |
| 2.3.2 合成工艺 |
| 2.4 聚氨酯甲基丙烯酸酯（Polyurethane Methylacrylate）的合成 |
| 2.4.1 试验原料 |
| 2.4.2 合成工艺 |
| 2.4.3 检测方法 |
| 2.4.4 PUMA 的合成实验方案 |
| 2.4.5 PUMA 合成实验结果与讨论 |
| 2.5 异氰酸酯改性环氧甲基丙烯酸酯的合成研究 |
| 2.5.1 试验原料 |
| 2.5.2 HDI 改性环氧甲基丙烯酸酯的合成 |
| 2.5.3 MDI 改性环氧甲基丙烯酸酯的合成 |
| 2.6 本章小结 |
| 3 粘接体系的制备及性能测试 |
| 3.1 光化学反应的基本原理 |
| 3.2 可见光固化胶粘剂的固化机理 |
| 3.3 可见光固化粘接体系的制备及性能测试 |
| 3.3.1 主要实验药品 |
| 3.3.2 可见光固化胶粘剂的制备方案 |
| 3.3.3 齿科修复用复合树脂的制备方案 |
| 3.3.4 可见光固化胶粘剂及复合树脂的性能测试 |
| 3.4 胶粘剂基质树脂及交联单体的确定 |
| 3.4.1 对A 胶的性能研究 |
| 3.4.2 四种基质树脂对胶粘剂粘接强度的影响 |
| 3.4.3 稀释交联单体的选用 |
| 3.5 粘接体系性能测试结果与讨论 |
| 3.5.1 胶粘剂的光固化时间 |
| 3.5.2 胶粘剂的粘接剪切强度 |
| 3.5.3 胶粘剂的耐水性 |
| 3.5.4 胶粘剂的配方优选 |
| 3.5.5 各组分对修复用复合树脂性能的影响 |
| 3.6 与市售同类产品的性能比较 |
| 3.7 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 |
| 致谢 |
（6）耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 微电子技术的发展概况 |
| 1.1.1 国外微电子技术发展现状 |
| 1.1.2 国内微电子技术的发展现状 |
| 1.2 微电子技术与光刻技术的关系 |
| 1.3 光刻技术的研究进展 |
| 1.3.1 光学光刻技术 |
| 1.3.2 非光学光刻技术 |
| 1.4 光致抗蚀剂 |
| 1.4.1 光刻胶的分类 |
| 1.4.2 紫外光刻胶 |
| 1.4.3 深紫外和极紫外光刻胶 |
| 1.4.4 辐射线光刻胶 |
| 1.4.5 光刻胶的国内发展现状 |
| 1.4.6 光刻胶的国内市场预测及推广应用前景 |
| 1.4.7 我国今后光刻胶的发展 |
| 1.5 248nm 深紫外光刻胶 |
| 1.5.1 248nm 深紫外光刻的光源 |
| 1.5.2 化学增幅技术 |
| 1.5.3 248nm 光刻胶 |
| 1.5.4 248nm 光刻胶存在的主要问题及解决途径 |
| 1.6 本课题的意义和主要研究内容 |
| 1.6.1 本课题的意义 |
| 1.6.2 主要研究内容 |
| 2 单体的合成、提纯及表征 |
| 2.1 引言 |
| 2.1.1 应用于光刻胶成膜树脂的单体的一些基本要求 |
| 2.1.2 紫外光刻胶成膜树脂的单体 |
| 2.1.3 248nm 深紫外光刻胶成膜树脂的单体 |
| 2.2 试验部分 |
| 2.2.1 仪器和试剂 |
| 2.2.2 合成 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 环戊二烯的制备 |
| 2.3.2 甲基丙烯酰氯的制备 |
| 2.3.3 5-降冰片烯-2,3,二酸酐的制备 |
| 2.3.4 3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酸酐的制备 |
| 2.3.5 N-苯基马来酰亚胺的制备 |
| 2.3.6 N-(p-乙酰氧基苯基)马来酰亚胺的制备 |
| 2.3.7 N-环己基马来酰亚胺的制备 |
| 2.3.8 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺的制备 |
| 2.3.9 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺的制备 |
| 2.3.10 N-羟基-3,6,内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺的制备 |
| 2.3.11 N-苯基甲基丙烯酰胺的制备 |
| 2.3.12 N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺的制备 |
| 2.3.13 N-(p-乙酰氧基苯基)甲基丙烯酰胺的制备 |
| 2.3.14 p-特丁氧酰氧基苯乙烯的制备 |
| 2.3.15 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯的合成 |
| 2.3.16 N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯的合成 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 光致产酸剂和其它助剂的合成、表征与性能测试 |
| 3.1 引言 |
| 3.1.1 光敏剂 |
| 3.1.2 助剂 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 仪器和试剂 |
| 3.2.2 合成 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 对甲基苯磺酸三苯基硫鎓盐的制备 |
| 3.3.2 N-羟基邻苯二甲酰亚胺对甲苯磺酸酯的合成 |
| 3.3.3 二苯甲酮的制备 |
| 3.3.4 β-特丁氧酰氧基萘酚的制备 |
| 3.3.5 (4,4’-二特丁氧酰氧基)二苯基丙烷的制备 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 主体成膜树脂的制备、纯化及性能评价 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验部分 |
| 4.2.1 仪器和试剂 |
| 4.2.2 实验操作 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.3.1 聚苯乙烯共 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺 |
| 4.3.2 聚 N-(p-羟基苯基)甲基丙烯酰胺共 N-苯基马来酰亚胺 |
| 4.3.3 聚 N-苯基甲基丙烯酰胺共 N-(p-羟基苯基)马来酰亚胺 |
| 4.3.4 聚p－特丁氧酰氧基苯乙烯 |
| 4.3.5 聚 PTBOCS 共 N-苯基马来酰亚胺 |
| 4.3.6 聚 PTBOCS 共 N-环己基马来酰亚胺 |
| 4.3.7 聚 PTBOCS 共 N-羟基-3,6-内氧桥-4-环己烯二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯 |
| 4.3.8 聚 PTBOCS 共 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺甲基丙烯酸酯 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 光刻胶的配置及其光刻工艺评价 |
| 5.1 引言 |
| 5.1.1 光刻胶的主要性能指标 |
| 5.1.2 光刻工艺 |
| 5.2 实验部分 |
| 5.2.1 仪器和试剂 |
| 5.2.2 实验操作 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 耐高温紫外正型光刻胶 |
| 5.3.2 化学增幅型 248nm 深紫外光刻胶 |
| 5.4 本章小结 |
| 6 光刻胶显影成像机理的探讨 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 实验部分 |
| 6.2.1 仪器和试剂 |
| 6.2.2 实验操作 |
| 6.3 结果与讨论 |
| 6.3.1 邻重氮萘醌系耐高温紫外光刻胶的显影成像 |
| 6.3.2 248nm 深紫外光刻胶的显影成像 |
| 6.4 本章小结 |
| 7 全文总结及展望 |
| 7.1 全文总结 |
| 7.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间公开发表的论文 |
（7）铁电薄膜的微细图形制备及其性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 前言 |
| 1.1 铁电薄膜的Sol-gel 制备工艺原理 |
| 1.1.1 Sol-gel 工艺原理 |
| 1.1.2 MOD 工艺原理 |
| 1.1.3 Sol-gel 工艺制备PZT、PLZT、BST 薄膜的研究进展. |
| 1.2 集成铁电技术的研究及应用进展 |
| 1.3 铁电薄膜微细图形的研究及应用进展 |
| 1.3.1 光刻胶－湿化学刻蚀法(Wet etching) |
| 1.3.2 等离子体刻蚀法(RIE) |
| 1.3.3 聚焦离子束刻蚀法(FIB) |
| 1.3.4 电子束直写法(EBDW) |
| 1.3.5 纳米压印法(NIL) |
| 1.3.6 Sol-gel 直接感光法(Direct Patterning) |
| 1.4 主要研究内容 |
| 2 实验方法 |
| 2.1 实验方案 |
| 2.1.1 PZT、PLZT、BST 系薄膜的感光性Sol-gel 工艺合成路线 |
| 2.1.2 课题研究总体方案 |
| 2.1.3 微细图形的顶电极制备 |
| 2.1.4 铁电薄膜微阵列的制备及其电学性能研究 |
| 2.2 实验设备与装置 |
| 2.3 主要测试方法 |
| 3 PZT 薄膜的感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 |
| 3.1 PZT 感光性溶胶(PZT-AcAc-Sol) 合成及其化学反应机制 |
| 3.2 PZT 感光性溶胶(PZT-BzAc-Sol) 合成及其化学反应机制 |
| 3.3 PZT 凝胶的DTA 差热分析及其薄膜的IR 光谱分析 |
| 3.4 PZT 薄膜的微细图形制备 |
| 3.4.1 感光性PZT 溶胶及其凝胶薄膜的紫外感光性 |
| 3.4.2 PZT 微细图形的直接感光法制备 |
| 3.5 PZT 薄膜的结构、性能研究 |
| 3.5.1 不同衬底上PZT 薄膜的晶体结构和电学性能分析 |
| 3.5.2 PT 晶种层对PZT 薄膜相转变温度及其电学性能的影响 |
| 3.6 不同前驱溶胶对PZT 薄膜的电学性能的影响 |
| 3.7 小结 |
| 4 PLZT 薄膜感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 |
| 4.1 PLZT 感光性溶胶(PLZT-AcAc-Sol) 合成及其化学反应机制 |
| 4.2 PLZT 感光性溶胶(PLZT-BzAc-Sol) 合成及其化学反应机制 |
| 4.3 PLZT 凝胶的DTA 差热分析及其薄膜的IR 光谱分析 |
| 4.4 PLZT 系薄膜的微细图形制备 |
| 4.4.1 PLZT 凝胶薄膜的紫外光感光特性 |
| 4.4.2 PLZT 微细图形的直接感光法制备 |
| 4.5 PLZT 系铁电薄膜的结构、性能研究 |
| 4.5.1 不同镧掺杂量对PLZT 薄膜的电学性能影响 |
| 4.5.2 不同热处理温度对PLZT 薄膜的晶体结构和电学性能影响 |
| 4.5.3 晶种层和衬底对PLZT 薄膜的结构和电学性能影响 |
| 4.6 小结 |
| 5 BST 薄膜感光性Sol-gel 工艺微细图形制备及其性能研究 |
| 5.1 BST8/2 感光性溶胶合成及其化学反应机制 |
| 5.2 BST8/2 前驱凝胶的DTA 差热分析 |
| 5.3 BST8/2 铁电薄膜的微细图形制备及其电学性能研究 |
| 5.3.1 感光性BST8/2 溶胶及其凝胶薄膜的紫外感光性 |
| 5.3.2 BST8/2 微细图形的直接感光法制备 |
| 5.4 BST 铁电薄膜的晶体结构、电学性能研究 |
| 5.4.1 不同Ba、Sr 组分对BST 薄膜的电学性能的影响 |
| 5.4.2 热处理温度对BST8/2 薄膜晶体结构的影响 |
| 5.4.3 热处理时间对BST8/2 薄膜铁电、介电性能的影响 |
| 5.4.4 ITO 和Pt 底电极上制备的BST8/2 薄膜的电学性能对比 |
| 5.5 小结 |
| 6 铁电薄膜感光性Sol-gel 工艺微阵列制备研究 |
| 6.1 激光干涉及其周期性微细图形制备原理 |
| 6.2 双光束干涉二次曝光微细图形制备方法 |
| 6.3 PZT、PLZT 薄膜微阵列的制备 |
| 6.3.1 PZT 薄膜微阵列的制备 |
| 6.3.2 PLZT 薄膜微阵列的制备 |
| 6.4 铁电薄膜微阵列的测试方法 |
| 6.5 PZT 薄膜微阵列的铁电特性测试 |
| 6.6 PLZT8/65/35 薄膜微阵列的铁电特性测试 |
| 6.7 小结 |
| 7 模板组装法铁电薄膜微阵列制备研究 |
| 7.1 感光性ZrO_2 溶胶的合成 |
| 7.2 ZrO_2 凝胶薄膜的紫外感光特性 |
| 7.3 ZrO_2 薄膜的二维格栅图形制备 |
| 7.4 ZrO_2 格栅组装法PZT、PLZT 微阵列制备 |
| 7.5 小结 |
| 8 结论 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 在校学习期间发表的论文情况 |
（8）可见光固化胶粘剂的研制（论文提纲范文）
| 1 绪论 |
| 1.1 概述 |
| 1.2 齿科胶粘剂 |
| 1.2.1 齿科胶粘剂分类 |
| 1.2.2 胶粘剂用树脂材料 |
| 1.3 齿科复合树脂 |
| 1.3.1 化学固化复合树脂 |
| 1.3.2 光固化复合树脂 |
| 1.3.3 其它复合树脂 |
| 1.4 齿科胶粘剂的发展 |
| 1.5 齿科光固化胶粘剂的研究趋势 |
| 1.6 本课题的研究目的和意义 |
| 1.7 本课题的研究内容 |
| 2 实验设计 |
| 2.1 口腔用粘结材料性能要求 |
| 2.2 粘接体系的形成 |
| 2.3 齿科胶粘剂粘接力 |
| 2.4 实验原料选取 |
| 2.5 实验设计 |
| 2.6 实验路线 |
| 3 改性环氧-甲基丙烯酸酯(EAM)的合成 |
| 3.1 实验机理 |
| 3.1.1 含端双健的环氧-甲基丙烯酸酯的合成 |
| 3.1.2 环氧-甲基丙烯酸酯的改性 |
| 3.2 实验部分 |
| 3.2.1 主要药品和仪器 |
| 3.2.2 合成方法 |
| 3.3 测试与表征 |
| 3.3.1 环氧值的测定 |
| 3.3.2 酸值的测定 |
| 3.3.3 红外光谱测定 |
| 3.4 结果与讨论(合成环氧甲基丙烯酸酯反应条件的选择) |
| 3.4.1 反应温度的影响 |
| 3.4.2 催化剂的选择 |
| 3.4.3 催化剂用量的确定 |
| 3.4.4 不饱和酸种类的选择 |
| 3.4.5 投料比对反应的影响 |
| 3.4.6 红外光谱表征 |
| 3.5 酯化反应机理研究 |
| 3.6 小结 |
| 4 4-META(4-甲基丙烯酸氧乙基偏苯三酸酐酯)的合成 |
| 4.1 概述 |
| 4.2 实验原理 |
| 4.2.1 偏苯三酸酐酰氯的合成原理 |
| 4.2.2 4-META 的合成原理 |
| 4.3 实验部分 |
| 4.3.1 实验仪器和药品 |
| 4.3.2 合成实验 |
| 4.4 产物鉴定(性能测试) |
| 4.4.1 偏苯三酸酐酰氯中氯含量测定 |
| 4.4.2 熔点的测定 |
| 4.4.3 红外光谱测定 |
| 4.5 结果与讨论 |
| 4.5.1 偏苯三酸酐酰氯合成工艺研究 |
| 4.5.2 4-META 合成最佳工艺确定 |
| 4.5.3 偏苯三酸酐酰氯和4-META 的红外光谱 |
| 4.6 小结 |
| 5 光固化胶粘剂的研制 |
| 5.1 概述 |
| 5.1.1 感光作用机理 |
| 5.1.2 光固化阶段 |
| 5.2 实验部分 |
| 5.2.1 主要仪器与药品 |
| 5.2.2 胶粘剂配制 |
| 5.2.3 性能测试 |
| 5.3 结果与讨论 |
| 5.3.1 交联单体含量对底胶固化速率和拉伸强度的影响 |
| 5.3.2 偶联剂含量对底胶固化速率和拉伸强度的影响 |
| 5.3.3 光引发体系对底胶固化速率的影响 |
| 5.3.4 放置时间对底胶剪切强度的影响 |
| 5.3.5 交联单体含量对底胶耐水性影响 |
| 5.3.6 底胶配制方案优化 |
| 5.3.7 填料含量对复合树脂体系压缩强度的影响 |
| 5.3.8 EAM:EDMA 对复合树脂体系压缩强度及固化深度的影响 |
| 5.3.9 CQ 含量对复合树脂体系固化深度的影响 |
| 5.4 与同类产品性能比较 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士期间所发表的论文 |
| 致 谢 |
（10）激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光（论文提纲范文）
| 摘要(中,英文) |
| 第一部分 文献综述 |
| 第一章 激光光盘的研究与制备 |
| 第一节 激光光盘研究概况 |
| 第二节 激光光盘的制备 |
| 第二章 光盘母盘信息记录材料的研究 |
| 第一节 母盘刻录用光刻胶的研究 |
| 第二节 感激光材料的研究 |
| 第三节 增感剂的研究与应用 |
| 第四节 论文选题意义 |
| 参考文献 |
| 第二部分 实验方法 |
| 第三章 实验 |
| 第一节 药品与仪器设备 |
| 第二节 实验方法 |
| 一、光刻胶的合成与制备 |
| 二、邻叠氮萘醌型光刻胶UV曝光下感光性能的测定 |
| 三、邻叠氮萘醌型光敏剂感激光性能的测定 |
| 四、增感剂及增感体系感激光性能的测定 |
| 五、邻叠氮萘醌型光刻胶感激光性能的测定 |
| 参考文献 |
| 第三部分 结果与讨论 |
| 第四章 光刻胶的合成与制备 |
| 第一节 光刻胶的合成 |
| 一、光敏剂原料合成表征 |
| 二、光敏剂合成表征 |
| 三、增感剂合成结果 |
| 第二节 光刻胶的制备 |
| 一、成膜剂的研究 |
| 二、溶剂的研究 |
| 三、光刻胶复配原则 |
| 本章结论 |
| 参考文献 |
| 第五章 邻叠氮萘醌型光刻胶UV曝光下性能的研究 |
| 第一节 邻叠氮萘醌型光刻胶UV感光性能的研究 |
| 一、光敏剂量子效率 |
| 二、光刻胶特性曲线 |
| 三、光刻胶相对感度 |
| 四、光刻胶分辨率 |
| 第二节 光刻胶物化性能的研究 |
| 本章结论 |
| 参考文献 |
| 第六章 邻叠氮萘醌型光敏剂感激光性能的研究 |
| 第一节 邻叠氮萘醌型光敏剂的感激光光化学过程 |
| 一、利用激光荧光探针监测邻叠氮萘醌型光敏剂光化学反应动态过程 |
| 二、激光感光过程中中间体结构研究 |
| 第二节 利用激光诱导荧光衰减法探测激光光化学反应 |
| 一、邻叠氮萘醌型光敏剂激光诱导荧光衰减曲线 |
| 二、激光诱导荧光衰减法研究光化学反应非线性关系 |
| 本章结论 |
| 参考文献 |
| 第七章 增感剂及增感体系感激光性能的研究 |
| 第一节 邻叠氮萘醌型光刻胶激光特性曲线及感度研究 |
| 一、增感剂UV-VIS光谱 |
| 二、氩离子激光特性曲线及感度 |
| 三、紫外激光感度 |
| 第二节 利用激光诱导荧光衰减法研究增感作用 |
| 一、增感剂及增感体系激光荧光光谱研究 |
| 二、利用激光诱导荧光衰减法研究增感倍率 |
| 第三节 感激光机理探讨 |
| 本章结论 |
| 参考文献 |
| 第八章 应用展望 |
| 第一节 激光光盘母盘制作 |
| 第二节 防伪标志应用 |
| 第三节 PS版应用 |
| 结论 |
| 附录 |
| 致谢 |
| 作者简介及在学期间发表论文 |
四、感光材料底胶的合成及性能研究Ⅱ（论文参考文献）
- [1]基于空域能量积分编码调制的微结构数字光刻方法研究[D]. 刘江辉. 中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所), 2021(08)
- [2]紫外固化丙烯酸酯压敏胶及其氢氧化铝阻燃的研究[D]. 谢琴妍. 华南理工大学, 2020(02)
- [3]外贴FRP纤维的混凝土抗氯盐侵蚀试验研究[D]. 张宇. 东南大学, 2019(05)
- [4]技术发展与艺术形态嬗变的关系研究[D]. 楚小庆. 东南大学, 2018(05)
- [5]齿科用可见光固化胶粘剂的制备及性能研究[D]. 江峰. 中北大学, 2007(05)
- [6]耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制[D]. 刘建国. 华中科技大学, 2007(05)
- [7]铁电薄膜的微细图形制备及其性能研究[D]. 张卫华. 西安理工大学, 2007(02)
- [8]可见光固化胶粘剂的研制[D]. 菅晓霞. 中北大学, 2006(08)
- [9]感光材料底胶的合成及性能研究[J]. 李春荣,赵剑英,丁伦汉,钱鹏,黄家贤. 化学与粘合, 1998(03)
- [10]激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光[D]. 魏杰. 北京化工大学, 1998(01)