多孔硅胶表面青蒿素分子印迹聚合物的制备及其在超临界条件下的吸附分离行为

论文摘要

本文以粗孔微球硅胶为载体,在其表面用表面聚合的方法制备了青蒿素分子印迹聚合物,在常温常压下及超临界条件下研究此聚合物对模板分子的吸附分离能力。首先以甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷为偶联剂,对硅胶表面进行了修饰,将功能单体杯[4]芳烃接于硅胶颗粒表面。以青蒿素为印迹分子,氨丙基三乙氧基硅烷为另一种功能单体游离在溶剂中,四乙氧基硅烷为交联剂,在室温下以石油醚为溶剂进行聚合反应,在功能化硅胶表面生成青蒿素的分子印迹聚合物膜。然后将此印迹聚合物对进行静态吸附试验以评价其对模板分子吸附识别能力。通过优化功能单体,交联剂的比例,发现模板、功能单体和交联剂的比例为1：4：20时,制备的印迹聚合物的吸附能力最好,吸附量可达42mg/g,同时聚合物在10h内达到吸附平衡。印迹因子α为2.0,选择因子p为1·5。将此聚合物置于超临界CO2体系中,研究在萃取压力为20MPa,温度为40℃超临界条件下此聚合物对模板分子的吸附行为,发现在此条件下聚合物只需3.5h就可以达到吸附平衡,吸附量高达120mg/g。

论文目录

• 摘要
• Abstract
• 第1章 前言
• 1.1 青蒿素
• 1.1.1 青蒿素的概述
• 1.1.2 青蒿素的结构理化性质
• 1.1.3 青蒿素的药用功能
• 1.1.4 青蒿素的提取工艺
• 1.2 分子印迹技术
• 1.2.1 分子印迹技术的概述
• 1.2.2 分子印迹技术的基本原理和方法
• 1.2.3 制备分子印迹聚合物的原材料
• 1.2.4 分子印迹聚合物的制备方法
• 1.2.5 分子印迹聚合物性能的表征
• 1.2.6 分子印迹技术的应用
• 1.2.7 分子印迹技术面临的挑战及发展趋势
• 1.3 超临界流体萃取技术
• 1.3.1 概述
• 1.3.2 超临界流体萃取技术的原理
• 1.3.3 超临界萃取技术的工艺流程
• 1.3.4 超临界CO2萃取技术的应用
• 1.4 本论文的研究主要内容及目的意义
• 第2章 青蒿素的分析方法
• 2.1 紫外分光光度法
• 2.1.1 实验原理
• 2.1.2 标准曲线的制备
• 2.2 薄层层析（TLC）法
• 2.3 高效液相色谱法（HPLC）
• 2.3.1 柱前衍生法
• 2.3.2 直接测量法
• 2.4 本章小结
• 第3章 硅胶表面青蒿素分子印记聚合物的制备及表征
• 3.1 引言
• 3.2 实验材料
• 3.2.1 实验试剂
• 3.2.2 实验仪器
• 3.3 实验方法
• 3.3.1 单体杯[4]芳烃的制备
• 3.3.2 功能化硅胶的制备
• 3.3.3 印迹聚合物的制备
• 3.3.4 分子印记聚合物的静态吸附性能
• 3.4 结果与讨论
• 3.4.1 功能化硅胶的分析
• 3.4.2 聚合体系对印迹聚合物的影响
• 3.4.3 分子印记聚合物的表征
• 3.4.4 印迹聚合物的静态吸附性能
• 3.5 本章小结
• 第4章 青蒿素分子印记聚合物在超临界CO2中的吸附行为
• 4.1 引言
• 4.2 实验材料
• 4.3 试验方法
• 2的吸附动力学'>4.3.1 分子印记聚合物在超临界中CO₂的吸附动力学
• 4.3.2 在超临界条件下的吸附等温线实验
• 4.3.3 在超临界条件下的选择性实验
• 4.3.4 PR方程在计算中的应用
• 4.4 实验结果
• 4.4.1 吸附动力学
• 4.4.2 吸附等温线
• 4.4.3 选择性实验
• 4.5 小结
• 第5章 结论与展望
• 参考文献
• 致谢