论文摘要
微孔SiO2膜具有耐高温、化学稳定性好、机械强度大、孔隙率高、可修复性好等优点,被认为是一种在氢气分离中具有广泛应用前景的膜材料。但SiO2膜的水热稳定性差,长期暴露于水热环境下SiO2膜在60°C时就会发生分解反应从而导致SiO2膜形成缺陷,影响气体分离效果。其原因是SiO2膜网络结构上的羟基能够与环境中的水分子相结合,因此用疏水基团取代部分羟基是一种有效地提高SiO2膜的水热稳定性的方法。本文采用1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)和十七氟癸基三乙氧基硅烷(PFDTES)为前驱体,在酸性条件下采用溶胶凝胶法制备十七氟癸基修饰的有机无机杂化二氧化硅溶胶,在洁净室条件下利用浸渍提拉法在γ-Al2O3/-Al2O3多孔陶瓷基体上涂膜,然后在N2气氛保护下烧结成完整无缺陷的有机-无机杂化SiO2膜。应用动态光散射技术(DLS)、光学接触角测量仪、红外光谱(FT-IR)、热重分析(TG)、扫描电镜(SEM)等测试手段对膜材料的溶胶粒径、疏水性、形貌进行了表征,并在自制的气体渗透装置上研究了气体在膜材料中的渗透和分离性能。实验结果表明:随着PFDTES加入量的增大,有机-无机杂化SiO2膜的溶胶平均粒径和膜材料对水的接触角也不断增大,当n(PFDTES)/n(BTESE)=0.25时溶胶平均粒径为3.69nm,膜材料对水的接触角达到了112.0±0.4°。FT-IR和TG结果表明了十七氟癸基修饰的(0.25PFDTES)BTESE膜具有优异的疏水性能,而SEM结果证明了十七氟癸基修饰的(0.25PFDTES)BTESE膜已成功地浸涂到γ-Al2O3/-Al2O3衬体上。气体渗透与分离实验表明,H2在修饰后的有机-无机杂化SiO2膜中的输运遵循微孔扩散机理,在300°C时,H2的渗透率达到9.67×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO和H2/CO2的理想分离系数分别达到13.07和5.76,高于Knudsen扩散的H2/CO和H2/CO2的理想分离因子(H2/CO=3.74, H2/CO2=4.69),膜材料表现出良好的分子筛分效应。
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