衷从强:集成电路工业尾水深度处理中试研究论文

衷从强:集成电路工业尾水深度处理中试研究论文

本文主要研究内容

作者衷从强,许德超,张建,朱军,朱婷婷,尹魁浩,彭盛华(2019)在《集成电路工业尾水深度处理中试研究》一文中研究指出:深圳市某集成电路工业尾水中有机物浓度低,氨氮、硝态氮、总氮浓度高,BOD5/COD低于0.3,C/N低于1.3,属于低C/N难生物降解废水。现应用生态-A/O生物接触氧化复合系统对该尾水进行中试规模强化生物深度处理。经研究表明,C/N为2.0,HRT为12.4 h是反应系统最佳操作参数,此条件下系统运行60 d后,COD、氨氮、总氮去除率分别为82.7%、84.3%、65.9%,当中COD、总氮去除率比现有实际深度处理工程出水分别高10%、45%左右,反应系统水生植物茎叶葱绿,植物根系和生物填料微生物挂膜情况良好,微生物量较大。

Abstract

shen zhen shi mou ji cheng dian lu gong ye wei shui zhong you ji wu nong du di ,an dan 、xiao tai dan 、zong dan nong du gao ,BOD5/CODdi yu 0.3,C/Ndi yu 1.3,shu yu di C/Nnan sheng wu jiang jie fei shui 。xian ying yong sheng tai -A/Osheng wu jie chu yang hua fu ge ji tong dui gai wei shui jin hang zhong shi gui mo jiang hua sheng wu shen du chu li 。jing yan jiu biao ming ,C/Nwei 2.0,HRTwei 12.4 hshi fan ying ji tong zui jia cao zuo can shu ,ci tiao jian xia ji tong yun hang 60 dhou ,COD、an dan 、zong dan qu chu lv fen bie wei 82.7%、84.3%、65.9%,dang zhong COD、zong dan qu chu lv bi xian you shi ji shen du chu li gong cheng chu shui fen bie gao 10%、45%zuo you ,fan ying ji tong shui sheng zhi wu jing xie cong lu ,zhi wu gen ji he sheng wu tian liao wei sheng wu gua mo qing kuang liang hao ,wei sheng wu liang jiao da 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自工业水处理的衷从强,许德超,张建,朱军,朱婷婷,尹魁浩,彭盛华,发表于刊物工业水处理2019年01期论文,是一篇关于集成电路工业尾水论文,生态论文,生物接触氧化复合系统论文,深度处理论文,工业水处理2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自工业水处理2019年01期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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