本文主要研究内容
作者闫新宇（2019）在《低相干光扫描干涉技术在硅晶片几何特征测量中的应用》一文中研究指出：低相干光扫描干涉技术在表面形貌测量中有着广泛的应用。硅晶片在半导体制造行业中有着重要的作用,对硅晶片的几何特征测量越发重要,目前常见的表面形貌测量方法不能满足同时测量硅晶片前后表面,且不能测量出硅晶片的光学厚度。本文针对硅晶片几何特征的测量设计了一套扫描干涉测量系统。本文的主要工作如下:(1).本文分析与总结了各种表面形貌的测量方法,比较了它们的优缺点。对硅晶片几何特征量的测量理论基础进行了分析,从而选择适用于硅晶片几何特征测量的方法。(2).搭建了以迈克尔逊干涉为基础的近红外低相干光扫描干涉测量系统,针对掺杂硅晶片的特性,对系统装置进行了优化与改进。对光源、CCD相机、步进电机、光学元器件进行了分析与选择。对测量系统的组成:光学系统、驱动及控制系统、图像采集及数据处理系统进行了详细的介绍。(3).对多种表面三维形貌重构算法进行了分析,最终在重心法的基础上加以改进和优化,使用了加权递归质心算法重构表面三维形貌。测量了三种掺杂浓度硅晶片的前后表面形貌,并进行了分析。(4).测量硅晶片光学厚度时,使用低相干扫描干涉方法测量,同时使用了SRI方法测量单点的光学厚度,两种结果做了对比,验证了本系统具有较高的精度。最后测量了掺杂硅晶片的折射率。(5).低相干扫描干涉系统在实际测量中可以被很好的应用,但是其依然有着限制测量精度的误差源,本测量系统中误差源包含系统内部、算法、环境等。对这些误差源进行了简单的分析。
Abstract
di xiang gan guang sao miao gan she ji shu zai biao mian xing mao ce liang zhong you zhao an fan de ying yong 。gui jing pian zai ban dao ti zhi zao hang ye zhong you zhao chong yao de zuo yong ,dui gui jing pian de ji he te zheng ce liang yue fa chong yao ,mu qian chang jian de biao mian xing mao ce liang fang fa bu neng man zu tong shi ce liang gui jing pian qian hou biao mian ,ju bu neng ce liang chu gui jing pian de guang xue hou du 。ben wen zhen dui gui jing pian ji he te zheng de ce liang she ji le yi tao sao miao gan she ce liang ji tong 。ben wen de zhu yao gong zuo ru xia :(1).ben wen fen xi yu zong jie le ge chong biao mian xing mao de ce liang fang fa ,bi jiao le ta men de you que dian 。dui gui jing pian ji he te zheng liang de ce liang li lun ji chu jin hang le fen xi ,cong er shua ze kuo yong yu gui jing pian ji he te zheng ce liang de fang fa 。(2).da jian le yi mai ke er xun gan she wei ji chu de jin gong wai di xiang gan guang sao miao gan she ce liang ji tong ,zhen dui can za gui jing pian de te xing ,dui ji tong zhuang zhi jin hang le you hua yu gai jin 。dui guang yuan 、CCDxiang ji 、bu jin dian ji 、guang xue yuan qi jian jin hang le fen xi yu shua ze 。dui ce liang ji tong de zu cheng :guang xue ji tong 、qu dong ji kong zhi ji tong 、tu xiang cai ji ji shu ju chu li ji tong jin hang le xiang xi de jie shao 。(3).dui duo chong biao mian san wei xing mao chong gou suan fa jin hang le fen xi ,zui zhong zai chong xin fa de ji chu shang jia yi gai jin he you hua ,shi yong le jia quan di gui zhi xin suan fa chong gou biao mian san wei xing mao 。ce liang le san chong can za nong du gui jing pian de qian hou biao mian xing mao ,bing jin hang le fen xi 。(4).ce liang gui jing pian guang xue hou du shi ,shi yong di xiang gan sao miao gan she fang fa ce liang ,tong shi shi yong le SRIfang fa ce liang chan dian de guang xue hou du ,liang chong jie guo zuo le dui bi ,yan zheng le ben ji tong ju you jiao gao de jing du 。zui hou ce liang le can za gui jing pian de she she lv 。(5).di xiang gan sao miao gan she ji tong zai shi ji ce liang zhong ke yi bei hen hao de ying yong ,dan shi ji yi ran you zhao xian zhi ce liang jing du de wu cha yuan ,ben ce liang ji tong zhong wu cha yuan bao han ji tong nei bu 、suan fa 、huan jing deng 。dui zhe xie wu cha yuan jin hang le jian chan de fen xi 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自合肥工业大学的闫新宇，发表于刊物合肥工业大学2019-10-22论文，是一篇关于低相干光论文,扫描干涉论文,迈克尔逊干涉论文,掺杂硅晶片论文,表面形貌论文,合肥工业大学2019-10-22论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自合肥工业大学2019-10-22论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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