有机薄膜晶体管制备和性能研究

有机薄膜晶体管制备和性能研究

论文摘要

有机薄膜晶体管(OTFT)是一种由有机半导体,金属电极和绝缘层组成的场效应器件,它是有机集成电路的核心部件。OTFT具有制备温度低、易实现大面积、制备工艺简单、低的成本和易弯曲的特点,因此它具有很强的吸引力。目前,有机薄膜晶体管在其性能上已取得很大的进展。但还是有许多的挑战制约着OTFT在有机集成电路上的实际应用。OTFT阈值电压的有效调控就是其中一个挑战。众所周知:OTFT阈值电压的有效调控是实现OTFT低压开启和控制OTFT的工作模型的需要。对于有机薄膜晶体管,由于其迁移率很低,导致其有很大的阈值电压。因此,我们的工作主要集中在降低和调控有机薄膜晶体管的阈值电压。我们使用高介电常数的Ta2O5和Al2O3作OTFT器件的绝缘层。为了观察不同绝缘层对OTFT器件阈值电压的影响,制备了以Ta2O5和Al2O3、SiO2为绝缘层的pentacene-based OTFT器件,相对于SiO2为绝缘层的pentacene-based OTFT器件,Ta2O5和Al2O3做绝缘层明显地降低pentacene-based OTFT的阈值电压和改善其迁移率。Ta2O5绝缘层的pentacene-based OTFT器件具有低的阈值电压(-7 V)、高的迁移率(0.5 cm2/Vs)等好的电学性能。C-V测试表明, Ta2O5绝缘膜的陷阱密度最大,这可能导致器件差的稳定性。OTFT器件的电学稳定性表现为器件阈值电压的漂移,我们研究了OTFT器件的阈值电压的漂移与栅偏压时间的关系,结果表明Ta2O5SiO2为绝缘层的pentacene-based OTFT器件展示最大的阈值电压漂移,而SiO2为绝缘层pentacene-based OTFT器件展示非常微弱的漂移。因此,器件阈值电压漂移与其陷阱密度大小有关,SiO2为绝缘层的pentacene-based OTFT器件具有相对较好的稳定性。对于OTFT器件,我们发现通过在pentacene掺入一层薄受体材料可以有效的控制器件的阈值电压,为了调控SiO2为绝缘层的pentacene-based OTFT器件的阈值电压,我们制备了氧化铜(CuO)夹层的并五苯基薄膜晶体管(CuO-embeded OTFT),并观察了其电学性能,结果发现,相对于纯并五苯基薄膜晶体管,CuO-embeded OTFT的迁移率被明显改善,其阈值电压被显著得减少。研究发现,CuO-embeded OTFT的迁移率源自于CuO与pentacene界面的电荷转移(CT)共混体的形成。形成的CT共混体减少了pentacene的空穴陷阱,改善了CuO-embeded OTFT的载流子的注入。其迁移率被提高,产生于CT共混体空穴导致器件电流增大,其阈值电压从-21 V漂移到-7.9 V。同时,当正栅偏压VGSO作用下的情况,发现CuO-embeded OTFT器件的迁移率不受影响起始栅压(VGSO)。所以,CuO与pentacene的界面掺杂不受正值起始栅压(VGSO)的影响,此时,在此逆向电场的作用下,CuO当作电荷产生层,电子和空穴在此逆向电场的作用下被分离。产生的电子被捕获在CuO与pentacene的界面处,由于CuO具有电子捕获能力和pentacene差的电子传导能力。所加的正栅偏压VGSO越大,电子捕获的数目就越多。被电子捕获诱导空穴,诱导的空穴影响的器件阈值电压的漂移。因此,通过改变转移特性曲线正值起始栅压(VGSO),控制晶体管电子的捕获数目,就可以控制器件的阈值电压的移动。CuO-embeded OTFT的被调控的阈值电压,在恒定的栅偏压和源、漏电压长时间作用下,其阈值电压表现稳定。因此,此调控阈值电压的方法是实用的。最后,我们制备了碘化亚铜(CuI)/铝(Al)为源、漏电极的并五苯(pentacene)基薄膜晶体管(OTFT)。相对于纯金属(Al, Au)电极的晶体管,本文研制的晶体管的迁移率、阈值电压(VTH)、电流开关比(Ion/Ioff)等参数都有明显改善。研究发现,在Al电极与并五苯半导体之间引入CuI作为空穴注入层,能够明显降低Al电极与并五苯之间的空穴注入势垒。紫外-可见光谱与X-射线光电子能谱数据表明,这种空穴注入势垒的降低源自并五苯和Al向CuI的电子转移。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 绪论
  • 1.1 引言
  • 1.2 有机薄膜晶体管的发展和现状
  • 1.3 有机薄膜薄膜晶体管的应用
  • 1.4 当前有机薄膜晶体管研究中存在的主要问题
  • 1.4.1 载流子传输理论有待完善
  • 1.4.2 载流子迁移率尚须提高
  • 1.4.3 电极材料的开发及接触电阻的研究
  • 1.4.4 新型绝缘材料的开发及绝缘层/有机半导体层界面的研究
  • 1.4.5 OTFT 阈值电压的调控
  • 1.4.6 应用研究亟待加强
  • 1.5 本论文的主要内容
  • 第二章 有机薄膜晶体管的原理、结构、材料和制备技术
  • 2.1 有机薄膜晶体管的原理和结构
  • 2.1.1 有机半导体的导电机理
  • 2.1.2 有机半导体的导电类型
  • 2.1.3 有机薄膜晶体管的原理和结构
  • 2.1.4 OTFT 的场效应迁移率的物理意义
  • 2.2 薄膜晶体管的一些重要的参数
  • 2.3 有机薄膜晶体管的有机半导体材料
  • 2.4 有机薄膜晶体管的绝缘层材料
  • 2.5 有机薄膜晶体管的制备工艺
  • 2.6 本章小结
  • 第三章 绝缘层对有机薄膜晶体管的影响
  • 3.1 引言
  • 3.2 器件的结构
  • 3.3 制备工艺流程
  • 3.3.1 阳极氧化制备五氧化二钽绝缘层
  • 3.3.2 阳极氧化制备三氧化二铝绝缘层
  • 3.3.3 OTFT 有源层的制备
  • 3.3.4 OTFT 源、漏电极的制备
  • 3.4 绝缘层对有机薄膜晶体管性能的影响
  • 3.5 绝缘层对有机薄膜晶体管电学稳定性的影响
  • 3.5.1 阈值电压在连续栅偏压下的漂移
  • 3.5.2 阈值电压漂移量与栅偏压时间的关系
  • 3.6 不同绝缘层的pentacene-OTFT 的陷阱密度
  • 3.6.1 (MIS)结构的C-V 特性测试
  • 3.6.2 不同绝缘层的pentacene-MIS 结构的C-V 特性
  • 3.7 小结
  • 第四章 CuO 夹层的并五苯基薄膜晶体管的阈值电压的调控
  • 4.1 引言
  • 4.2 有机薄膜晶体管的制备
  • 4.3 有机薄膜晶体管的电学性能
  • 4.4 CuO 夹层的作用
  • 4.5 CuO 夹层与pentacene 的界面分析
  • 4.5.1 CuO 与Pentacene 的掺杂特性表征
  • 4.5.2 CuO 与Pentacene 界面的电荷转移研究
  • 4.5.3 CuO-embeded OTFT 的迁移率改善的原因分析
  • 4.5.4 不同CuO 夹层厚度对CuO-embeded OTFT 的迁移率和阈值电压的影响
  • GSO 对CuO-embeded OTFT 的迁移率和电阻的影响'>4.6 栅偏压VGSO 对CuO-embeded OTFT 的迁移率和电阻的影响
  • 4.7 CuO-embeded OTFT 中CuO 夹层的电荷分离机制
  • 4.8 CuO-embeded OTFT 的阈值电压的调控
  • 4.9 被调控的阈值电压的稳定性
  • 4.10 小结
  • 第五章 碘化亚铜/铝双层电极的有机薄膜晶体管
  • 5.1 引言
  • 5.2 器件的制备
  • 5.3 器件的性能的比较
  • 5.4 CuI 与pentacene 之间的掺杂特性研究
  • 5.5 CuI 与pentacene 和CuI 与Al 电极之间的电荷转移研究
  • 5.6 小结
  • 结论
  • 参考文献
  • 攻读博士学位期间取得的研究成果
  • 致谢
  • 附件
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