1540nm带通滤光片的研究与制备

论文摘要

带通滤光片是一种应用非常广泛的薄膜元件。就目前为止,其主要应用于天文、空间探测、激光探测、光纤通信系统等领域。本文从薄膜光学的基本理论和膜系设计理论方面阐述了带通滤光片薄膜的原理。具体针对工作波长为1540nm,设计并优化膜系,选用合适的镀膜材料。试验在700箱式真空镀膜机（TXX700-2型）上完成,利用电子束加离子辅助系统进行沉积镀膜。用UV3100PC分光光度计测试光谱特性曲线。试验过程中,从设计和制备两方面研究透射带波纹调整及旁通带抑制的方法,并给出最终设计曲线及实测曲线。

论文目录

• 摘要
• ABSTRACT
• 目录
• 第一章 绪论
• 1.1 薄膜的发展
• 1.2 带通滤光片膜系设计的研究
• 1.3 监控策略、误差分析及镀制工艺的研究
• 1.4 课题研究的目的和意义
• 1.5 论文研究的主要工作
• 第二章 薄膜光学的基本理论
• 2.1 单一界面的反射率
• 2.2 薄膜的矩阵表示
• 2.3 介质光学薄膜的特征矩阵
• 2.4 对称膜系的等效折射率
• 第三章 带通滤光片的设计
• 3.1 选择薄膜材料的依据
• 3.2 选择薄膜材料
• 3.3 设计膜系
• 3.4 膜系确定
• 3.5 透射率峰值两边旁通带的抑制
• 3.6 带通滤光片光学稳定性的分析
• 第四章 镀膜设备
• 4.1 镀膜真空室
• 4.2 真空系统（也称抽气系统）
• 4.3 真空测量系统
• 4.4 膜厚控制系统
• 4.5 离子辅助沉积技术
• 4.6 镀膜均匀性的讨论
• 4.7 制备工艺过程
• 4.8 注意事项
• 4.9 实验数据
• 第五章 测试结果与分析
• 5.1 光学薄膜透过率的测量原理
• 5.2 测试结果分析
• 结论
• 致谢
• 参考文献