GaAs基共振隧穿压阻式声传感器研究

GaAs基共振隧穿压阻式声传感器研究

论文摘要

本论文介绍了一种新型的纳机电(NEMS)声传感器,该声传感器是基于GaAs/AlAs/InGaAs共振隧穿结构(RTS)介观压阻效应所设计的悬臂式结构声传感器。所谓介观压阻效应就是指RTS薄膜在力学信号作用下,其结构应力分布发生变化;一定条件下应力变化引起内建电场的产生;内建电场将导致RTS结构中的量子能级发生变化;量子能级变化会引起共振隧穿电流变化;在一定的偏压条件下,隧穿电流的变化可以等效为RTS电阻的变化。利用这个原理就可以实现力-电转换,实现力学信号的提取。本文详细论述了基于RTS介观压阻效应的悬臂式声传感器的工作原理、结构设计和工艺加工,分别对GaAs基RTS的设计及GaAs基悬臂式声传感器的结构设计进行了深入讨论。同时,利用声学分析理论和Ansys有限元软件对GaAs基悬臂式声传感器的基础结构进行了分析计算及仿真。最终确定了GaAs/AlAs/InGaAs RTS的结构尺寸及基于RTS的GaAs基悬臂式声传感器结构。根据所设计的结构,采用分子束外延生长技(MBE)、微电子加工工艺和NEMS加工工艺相结合的方法,确立了基于RTS的GaAs基悬臂式声传感器结构的工艺流程,并运用双空气桥工艺降低RTS的隧穿电流及寄生电容,采用控制孔工艺加工GaAs基声传感器的悬臂梁结构。最终实现了RTS与M/NEMS结构的工艺集成。初步完成了GaAs基悬臂式声传感器的封装和测试,测试结果表明:悬臂梁结构声传感器的灵敏度:0.226uV/Pa (4.4KHz),频响为1.2KHz-10KHz;拍子梁结构声传感器的灵敏度:1.0uV/Pa (9KHz),频响为0.75KHz-20KHz。主要研究成果如下:(1)利用RTS的介观压阻效应,设计了新型的声传感器;(2)利用双空气桥工艺制作RTS,降低了隧穿电流及寄生电容;(3)加工出了基于RTS的GaAs基悬臂式声传感器的基础结构,并进行了封装测试,测试结果表明声传感器性能良好。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 绪论
  • 1.1 课题研究意义
  • 1.2 国内外研究现状
  • 1.2.1 纳机电器件研究现状
  • 1.2.2 GaAs 微器件发展概况
  • 1.2.3 微声传感器研究现状
  • 1.3 本课题的主要研究内容
  • 第二章 GaAs 基RTS 介观压阻效应理论及结构设计
  • 2.1 介观压阻效应
  • 2.1.1 介观压阻效应基础理论
  • 2.1.2 RTS 的介观压阻效应及其优点
  • 2.2 RTS 的结构设计
  • 第三章 GaAs 基共振隧穿压阻式声传感器的结构设计
  • 3.1 结构设计方法
  • 3.2 声传感器的结构类型选择
  • 3.2.1 常用的压阻式声传感器的结构
  • 3.2.2 GaAs 基声传感器的结构方案确定
  • 3.3 声传感器结构设计
  • 3.3.1 声传感器的力学特性
  • 3.3.2 声传感器的频率特性
  • 3.3.3 设计考虑及参数确定
  • 3.3.4 声传感器的仿真分析
  • 3.3.5 理论分析与仿真分析对比
  • 第四章 GaAs 基共振隧穿压阻式声传感器的工艺加工
  • 4.1 工艺设计
  • 4.1.1 加工所需关键工艺
  • 4.1.2 工艺流程
  • 4.2 版图设计及说明
  • 4.3 声传感器加工后的参数测试
  • 4.3.1 声传感器的电镜照片
  • 4.3.2 参数测试
  • 第五章 GaAs 基共振隧穿压阻式声传感器的封装与测试
  • 5.1 传感器的封装
  • 5.2 传感器测试
  • 5.2.1 测试理论
  • 5.2.2 测试方法
  • 5.2.3 测试结果及分析
  • 总结和展望
  • 总结
  • 展望
  • 参考文献
  • 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果
  • 致谢
  • 相关论文文献

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