曹明琛:平面光学元件抛光中沥青抛光胶材料特性研究论文

曹明琛:平面光学元件抛光中沥青抛光胶材料特性研究论文

本文主要研究内容

作者曹明琛,刘孟奇,赵凌宇,谢瑞清,赵惠英(2019)在《平面光学元件抛光中沥青抛光胶材料特性研究》一文中研究指出:化学机械抛光(CMP)是平面光学元件超精密加工的重要手段,其所用的沥青材料抛光胶虽历史悠久,但仍需要人工进行试错选型。针对国内外多种沥青抛光胶,进行了材料特性分析,包括针入度、软化点等。通过Burgers蠕变模型对沥青抛光胶的粘弹性进行分析,得到了沥青的蠕变函数。最终,为生产用沥青抛光胶的选型提供支持。

Abstract

hua xue ji xie pao guang (CMP)shi ping mian guang xue yuan jian chao jing mi jia gong de chong yao shou duan ,ji suo yong de li qing cai liao pao guang jiao sui li shi you jiu ,dan reng xu yao ren gong jin hang shi cuo shua xing 。zhen dui guo nei wai duo chong li qing pao guang jiao ,jin hang le cai liao te xing fen xi ,bao gua zhen ru du 、ruan hua dian deng 。tong guo Burgersru bian mo xing dui li qing pao guang jiao de nian dan xing jin hang fen xi ,de dao le li qing de ru bian han shu 。zui zhong ,wei sheng chan yong li qing pao guang jiao de shua xing di gong zhi chi 。

论文参考文献

  • [1].一种新型古典抛光工艺的技术研究[J]. 王松伟,姚合宝,蒋军彪.  航空精密制造技术.2007(02)
  • [2].定偏心锡磨盘超精密平面抛光均匀去除模拟计算(Ⅰ)[J]. 张红霞,高宏刚,吴明根.  光学精密工程.1998(02)
  • [3].金属线纹尺镜平面抛光机及抛光工艺[J]. 姜学文.  机床.1976(05)
  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自冶金管理的曹明琛,刘孟奇,赵凌宇,谢瑞清,赵惠英,发表于刊物冶金管理2019年13期论文,是一篇关于平面抛光论文,光学元件论文,沥青论文,材料特性论文,蠕变模型论文,冶金管理2019年13期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自冶金管理2019年13期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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