王希靖:不同pH值的NaCl溶液中纯镍的电化学腐蚀行为研究论文

王希靖:不同pH值的NaCl溶液中纯镍的电化学腐蚀行为研究论文

本文主要研究内容

作者王希靖,李梦泽,王博士,杨艳(2019)在《不同pH值的NaCl溶液中纯镍的电化学腐蚀行为研究》一文中研究指出:采用电化学测试方法研究了纯镍在不同pH值的NaCl溶液浸泡不同时间的电化学腐蚀行为。结果表明:在腐蚀过程中,Cl-在纯镍电极表面的吸附-扩散-溶解-传输过程中参与钝化膜的形成,对纯镍的腐蚀有催化作用。在1mol/LNaCl+NaOH溶液中,OH-浓度较大且供应充分,OH-不断替换Cl-,严重影响了Cl-的吸附-传输过程,减弱了Cl-对纯镍的侵蚀作用,耐蚀性能得到很大提高。在1mol/LNaCl+H2SO4溶液中,H+的加入提高了纯镍阳极溶解反应速率,使Cl-吸附-扩散-传输循环进行,耐蚀性能降低。综上,纯镍在3种不同pH腐蚀溶液中的耐蚀性顺序为:1mol/LNaCl+NaOH>1mol/LNaCl>1mol/LNaCl+H2SO4。

Abstract

cai yong dian hua xue ce shi fang fa yan jiu le chun nie zai bu tong pHzhi de NaClrong ye jin pao bu tong shi jian de dian hua xue fu shi hang wei 。jie guo biao ming :zai fu shi guo cheng zhong ,Cl-zai chun nie dian ji biao mian de xi fu -kuo san -rong jie -chuan shu guo cheng zhong can yu dun hua mo de xing cheng ,dui chun nie de fu shi you cui hua zuo yong 。zai 1mol/LNaCl+NaOHrong ye zhong ,OH-nong du jiao da ju gong ying chong fen ,OH-bu duan ti huan Cl-,yan chong ying xiang le Cl-de xi fu -chuan shu guo cheng ,jian ruo le Cl-dui chun nie de qin shi zuo yong ,nai shi xing neng de dao hen da di gao 。zai 1mol/LNaCl+H2SO4rong ye zhong ,H+de jia ru di gao le chun nie yang ji rong jie fan ying su lv ,shi Cl-xi fu -kuo san -chuan shu xun huan jin hang ,nai shi xing neng jiang di 。zeng shang ,chun nie zai 3chong bu tong pHfu shi rong ye zhong de nai shi xing shun xu wei :1mol/LNaCl+NaOH>1mol/LNaCl>1mol/LNaCl+H2SO4。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自热加工工艺的王希靖,李梦泽,王博士,杨艳,发表于刊物热加工工艺2019年22期论文,是一篇关于纯镍论文,电化学腐蚀论文,氯离子论文,热加工工艺2019年22期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自热加工工艺2019年22期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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