论文摘要
锆钛酸铅(PZT)薄膜材料因其具有良好的热释电、压电、铁电及光电等特性,在微电子学、光电子技术和微电子机械系统等高科技领域有着广阔的应用前景,已经受到人们广泛关注和重视。本文采用溶胶-凝胶法制备均匀致密的锆钛酸铅(PZT)薄膜,研究了在制备锆钛酸铅薄膜过程中溶胶浓度、pH值、水含量及添加剂含量等主要工艺参数对PZT薄膜结构和表面形貌的影响。本文在制备PZT薄膜的研究中,首先,为制备出均匀致密的薄膜,尽量使得基片的晶格常数与PZT薄膜材料的晶格常数相匹配,本文选择了三种不同的基片,分别是A1203陶瓷基片、石英玻璃基片和单晶硅Si基片,对比这三种基片上薄膜,选择一种最佳的基片作为薄膜的衬底。其次,锆钛摩尔比选择的是65/35,与52/48相比较,65/35在热释电、压电等性能上均优于52/48,通过从65/35的研究来提高和改善PZT的结构和性能。最后,采用无机硝酸锆作为锆源,改善采用有机锆源工艺复杂、价格昂贵和实验设备要求高等问题。
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