本文主要研究内容
作者丁柯,张军,蒋卫军（2019）在《集成电路版图相似度模型研究》一文中研究指出：集成电路受法律保护的实质要件是布图设计的"独创性"部分。布图设计侵权的司法鉴定包括两个步骤:布图设计独创性鉴定和布图设计独创性区域的相似度鉴定。目前,集成电路布图设计相似度鉴定在行业内尚没有统一的执行标准。北京芯愿景软件技术有限公司探索了一种较为可行的方法,即在考虑芯片工艺和相关领域后,根据版图元素耦合度大小进行模块划分,再对各模块进行相似度的比较,然后根据每个模块的重要性给出模块的权重,最后按照加权法给出整体的相似度。这种相似度的判定方法称为"版图细分加权法"。版图细分加权法中最重要的因素是模块内部布局,本文提出的相似度模型以客观方式对两个模块内部布局的相似度进行了比较。
Abstract
ji cheng dian lu shou fa lv bao hu de shi zhi yao jian shi bu tu she ji de "du chuang xing "bu fen 。bu tu she ji qin quan de si fa jian ding bao gua liang ge bu zhou :bu tu she ji du chuang xing jian ding he bu tu she ji du chuang xing ou yu de xiang shi du jian ding 。mu qian ,ji cheng dian lu bu tu she ji xiang shi du jian ding zai hang ye nei shang mei you tong yi de zhi hang biao zhun 。bei jing xin yuan jing ruan jian ji shu you xian gong si tan suo le yi chong jiao wei ke hang de fang fa ,ji zai kao lv xin pian gong yi he xiang guan ling yu hou ,gen ju ban tu yuan su ou ge du da xiao jin hang mo kuai hua fen ,zai dui ge mo kuai jin hang xiang shi du de bi jiao ,ran hou gen ju mei ge mo kuai de chong yao xing gei chu mo kuai de quan chong ,zui hou an zhao jia quan fa gei chu zheng ti de xiang shi du 。zhe chong xiang shi du de pan ding fang fa chen wei "ban tu xi fen jia quan fa "。ban tu xi fen jia quan fa zhong zui chong yao de yin su shi mo kuai nei bu bu ju ,ben wen di chu de xiang shi du mo xing yi ke guan fang shi dui liang ge mo kuai nei bu bu ju de xiang shi du jin hang le bi jiao 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自电子技术应用的丁柯,张军,蒋卫军，发表于刊物电子技术应用2019年10期论文，是一篇关于集成电路论文,布图设计论文,独创性论文,相似度论文,电子技术应用2019年10期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自电子技术应用2019年10期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：集成电路论文; 布图设计论文; 独创性论文; 相似度论文; 电子技术应用2019年10期论文;