论文摘要
本文在全面总结智能材料的研究现状和未来发展趋势的基础上,利用射频磁控溅射法制备NiTi/ZnO复合薄膜,并利用XRD、SEM、EDS、DMA、台阶仪、纳米压痕仪、划痕仪等测试方法研究了复合薄膜的微观组织、相结构、化学成分、力学与阻尼性能。首先探讨了衬底温度、溅射功率、溅射气压等主要工艺参数对NiTi薄膜的微观组织、相结构、化学成分及力学性能的影响规律,确定出制备薄膜相对优化的工艺参数。在试验所研究的范围内,沉积NiTi薄膜的优化工艺参数为:衬底温度为500℃,溅射功率为250W,溅射气压为0.19Pa,Ar气流量为10sccm,靶基距为50cm,沉积时间为1h;在溅射态,NiTi薄膜主要呈非晶态,经由衬底高温加热可直接得到晶化薄膜。在此优化工艺参数下制备的NiTi薄膜弹性模量E为69.7GPa,变形能效率η为38.2%,薄膜与基体的临界结合力为35.26N。根据功能材料复合相乘理论,结合NiTi薄膜的优化工艺参数制备出晶化且结构为Quartz/ZnO/NiTi及Quartz/NiTi/ZnO的复合薄膜,对其表/界面、微观组织结构、结晶特性进行了研究。结果表明,Quartz/ZnO/NiTi结构的复合薄膜表面非常平整致密,层与层之间结合紧密。由划痕仪测得两种结构下复合薄膜与基体的临界结合力分别为45.75N和40.15N。最后,使用悬挂共振法分别研究了Quartz/NiTi与Quartz/ZnO/NiTi复合结构的阻尼性能随振动频率及振幅的变化规律,比较了两者阻尼性能的差异。结果表明,Quartz/NiTi复合结构的频率响应范围在7Hz以内;而Quartz/ZnO/NiTi复合结构的频率响应范围达到20Hz。前者的临界外加激振力仅为0.6V,后者的临界外加激振力达到1.0V。阻尼性能测试表明,Quartz/ZnO/NiTi复合结构的阻尼性能优于Quartz/NiTi复合结构,且该复合薄膜较单层NiTi薄膜与基体具有更大的结合力。
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