论文摘要
本文较为系统的介绍了GaInNAs应变量子阱材料在光增益、输出波长以及对温度的敏感性等方面的特性,并从理论上对其形成机制作了初步的探讨,对并入其中的N组分引起的反常弯曲系数成因给出了一定的解释。同时利用分子束外延(MBE)技术生长了InGaAsN量子阱半导体激光器材料,采用脉冲阳极氧化(PAO)工艺制作了脊型波导半导体激光器。并对其制作工艺进行系统介绍和研究。对该激光器进行的测试显示:其输出波长为1.31μm,阈值电流为18mA,阈值电流密度为360A/cm2,室温下连续工作时的最大功率为14mW,特征温度为135.1K,内量子效率76%。这些数据初步展现了GaInNAs应变量子阱材料所具有的优良特性。
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摘要ABSTRACT第一章 绪论1.1 引言1.2 GAINNAS 半导体激光器的发展1.2.1 半导体激光器的诞生和发展1.2.2 GaInNAs 激光器的发展历史与研究现状1.3 GAINNAS 半导体激光材料的特性概述1.3.1 优良的温度稳定性1.3.2 波长覆盖范围广1.3.3 能与多种衬底匹配生长1.4 GAINNAS 材料的应用前景1.4.1 高特征温度1.3μm 和1.55μm 长波长半导体激光器1.4.2 长波长垂直腔面发射激光器1.5 本论文研究的主要工作第二章 1.31ΜMGAINNAS 应变量子阱材料特性研究2.1 量子阱半导体激光器的主要特性分析2.1.1 超晶格量子阱材料概述2.1.2 量子阱激光器的增益特性2.1.3 量子阱激光器的阈值特性2.1.4 量子阱激光器的输出特性2.2 应变对量子阱材料特性的影响2.2.1 超晶格量子阱中应变的引入2.2.2 应变对能带结构的影响2.2.3 压应变引起的能带结构变化对材料性能的影响2.3 GAINNAS/GAAS 应变量子阱材料的特性2.3.1 N 的并入对GaAs 材料产生的巨大能带弯曲2.3.2 GaInNAs/GaAs 应变量子阱材料的光增益特性2.3.3 GaInNAs/GaAs 应变量子阱激光材料的输出波长2.3.4 GaInNAs/GaAs 应变量子阱材料的温度特性2.3.5 GaInNAs 材料的晶格常数第三章 1.31ΜM 应变量子阱GAINNAS 激光器的结构设计3.1 激光器芯片的材料结构3.2 谐振腔结构3.2.1 腔长分析3.2.2 横向波导3.2.3 激光器的芯片尺寸3.3 激光器的散热系统3.4 激光器的完整装配结构第四章 1.31ΜM GAINNAS 应变量子阱激光器的制作4.1 GAINNAS 应变量子阱材料的生长4.1.1 分子束外延(MBE)技术简介4.1.2 应变量子阱临界厚度的计算4.1.3 GaInNAs 材料的制备难点4.1.4 MBE 系统生长高In 组分GaInNAs 单量子阱材料的过程4.2 脊形波导的制作4.3 脉冲阳极氧化工艺制备绝缘膜4.4 欧姆接触层的制备工艺4.4.1 欧姆接触层制备要求4.4.2 欧姆接触层的材料选择4.5 装片与内引线键合4.5.1 芯片的装片烧结4.5.2 内引线键合第五章 1.31ΜM GAINNAS 应变量子阱激光器的特性评价5.1 GAINNAS 应变单量子阱材料的特性测试5.2 1.31ΜM GAINNAS 应变单量子阱激光器的特性5.3 脉冲阳极氧化对激光器芯片结构的影响结论致谢参考文献
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标签:脊型波导论文; 应变量子阱论文; 半导体激光器论文; 特征温度论文; 脉冲阳极氧化论文;
高应变1.3μm GaInNAs量子阱脊型波导半导体激光器的研究
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