论文摘要
磁性材料的研究一直是很重要的一个领域,特别是材料在纳米尺度下的磁性,它们在电子学领域有非常重要的应用。纳米磁性在未来半导体材料,高集成化元件中都有重要应用,使它成为目前的一个非常活跃的研究领域。在同一种材料上同时使用电子的电荷和自旋的所谓自旋电子学也成为一个引人注目的研究方向。理论上,对磁性和结构的关系的研究可以揭示一些神奇的基本物理原理和发现一些重要的潜在应用。密度泛函理论的发展就为物质电子结构性质的理论研究打开了一个广阔的天地,提供了关键的方法步骤。本博士论文的研究工作应用基于密度泛函理论的第一原理方法,并在计算中引入轨道-自旋相互作用进行极化非共线计算,系统地对W的团簇（零维）、W的原子链（一维）、W的原子薄片（二维）以及过渡金属掺杂的稀磁半导体的结构稳定性、电子结构性质及磁性进行了计算,获得了一些有价值的信息,得到了一些重要的结果:1)对零维的Wn团簇（n=3～27）的结构性质进行了研究。通过对结构的优化计算,得到了Wn团簇（n=3～7）的最低能量结构和（n=8～27）的局域能量极小的典型结构。使用凝胶模型提出了团簇的电子组态,并很好地解释了幻数团簇的电子数和结构稳定性;得到并分析了团簇的HOMO-LUMO能隙,团簇的结合能、能量的一阶和二阶差分随原子数n变化;得到了团簇中原子的成键特点随团簇原子数的变化特征,指出了W团簇随着原子数的增加很快便出现金属性等性质。2)系统地研究了W的一维原子链的磁性。我们计算了一维线性链的铁磁、反铁磁和螺旋磁性（自旋波）三种结构的稳定性和磁性的变化。研究中,分别作了考虑轨道自旋相互作用和不考虑轨道自旋相互作用两种情况的计算。结果显示,稳定的一维W线性原子链具有磁性,而且反铁磁链的相对稳定性高。原子间距很近时没有磁矩,而随着原子间距的增加,原子磁矩在一个很小的变化范围内跃升,最终随着原子间距的增大趋于单原子磁矩。轨道磁矩在有近邻原子作用时出现,且极化方向与自旋极化方向相反。稳定的W一维反铁磁链具有磁性且具有金属性,磁矩主要是d-电子的贡献。随着原子链的原子间距的增加,逐渐从金属性向半导体性变化,电子的局域程度增加,原子链上原子的磁矩变大,同时,s电子对磁矩的贡献增大。3)对二维的W原子面的结构与磁性进行了计算。对于平面结构,进行了从斜方、六角、长方、到正方结构的计算,不同结构下也进行了不同的晶格常数下性质的计算。计算的磁性结构包含铁磁,反铁磁以及部分近邻反铁磁性结构。我们对不同结构的稳定性、磁性、电荷密度、电子态密度以及磁密度进行了比较。结果发现,不管是铁磁,反铁磁以及部分近邻反铁磁性的W平面结构,近六角（由于Jahn-Teller效应使其相对于六角结构产生了一些畸变）的平面结构最稳定;反铁磁的结构比铁磁的结构稳定;铁磁结构的磁性在某些结构上出现奇异;而稳定的W平面结构没有磁性或磁性很弱;其中正方结构的反铁磁稳定结构表现出弱磁性,其输运电子也表现出弱极化;稳定的W原子薄片是金属性的。在晶格被拉伸的情况下W原子面出现磁性,反铁磁结构比铁磁结构更早出现磁性,正方结构比斜方结构更快出现磁性。此外,还比较了W原子面在六角结构和正方结构下的电荷密度、电子态密度和磁密度,讨论了它们的电子结构性质,并对自旋轨道作用和非共线耦合的作用进行了讨论。4)对3d过渡金属（TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和Ni）掺杂的Ⅲ-Ⅴ半导体（GaAs和GaP）的电磁性质进行了第一原理的计算。结果发现:V、Cr和Mn掺杂的Ⅲ-Ⅴ将出现铁磁状态（FM）,Fe掺杂的Ⅲ-Ⅴ将出现反铁磁状态（AFM）,而Co和Ni掺杂时,其磁性不稳定。其中Cr掺杂的Ⅲ-Ⅴ将可能是具有较高居里温度Tc的稀磁半导体（DMS）。在TM掺杂的Ⅲ-ⅤDMS中,当TM-3d自旋朝上的t2g轨道全空时,TM离子的磁矩将大于理论期待值;当TM-3d自旋朝上的t2g轨道全满时,TM离子的磁矩将小于理论期待值:当TM-3d自旋朝上的t2g轨道部分填充时,TM离子的磁矩与期待值的差距取决于晶体的对称性和磁性离子的能带情况。Si与Mn对Ⅲ-ⅤDMS进行共掺杂时,将有利于DMS出现FM状态,并使得TC提高。