热处理对离子注入法制备的二氧化钛薄膜光学性能的影响

热处理对离子注入法制备的二氧化钛薄膜光学性能的影响

论文摘要

TiO2在紫外光下具有优异的光催化性能,在废水处理、空气净化、抗菌等环保领域有着广泛的应用,但实现其可见光催化一直是研究的难点之一。本论文提出了一种利用离子注入和后续退火制备氮掺杂TiO2薄膜的方法,以实现TiO2的可见光催化。首先分别向石英玻璃和蓝宝石(α-Al2O3单晶)中注入Ti离子,随后在氮气中退火到900℃,从而制备了N掺杂TiO2薄膜。同时,又将注入态样品在氧气中退火,对比研究了不同基体和不同退火气氛对TiO2薄膜光学性能的影响。本文采用SRIM 2006模拟程序、卢瑟福背散射谱(RBS)、X射线光电子能谱(XPS)测试、透射电子显微分析(TEM)和紫外-可见光吸收谱(UV-Vis),分别研究了石英玻璃和蓝宝石中注入Ti离子前后的微观结构和宏观光学性能,并对比研究样品在不同气氛中退火处理后,光学性能和微观结构上的变化,主要得到以下结果:1.室温下在石英玻璃和蓝宝石中同时注入能量为80 keV、注量为1×1017cm-2的Ti离子,离子注入过程在基体中引入大量缺陷,紫外光区吸收显著增强,但没有明显的吸收峰出现。注入态样品中Ti主要以金属Ti和TiO2的形式存在。2.注入态样品分别在N2和O2气氛中从400℃到900℃等时退火。N2中退火到500℃时,石英玻璃基体中开始出现TiO2的吸收边,退火到600℃时蓝宝石基体也开始出现TiO2的吸收边,当退火温度升高到900℃时,金属Ti转变成TiO2,同时N原子替代少量的晶格O原子形成了O-Ti-N化合物。在石英玻璃基体中TiO2的光学带隙从500℃时的3.98 eV红移到900℃时的3.30 eV,在蓝宝石基体中TiO2的光学带隙从600℃时的3.90 eV红移到900℃时的3.45 eV,TiO2吸收边末端延伸到可见光区,在可见光区的吸收强度明显增加;同样,在O2中退火时,在石英玻璃基体中TiO2的光学带隙从500℃时的3.97 eV红移到900℃时的3.60eV,在蓝宝石基体中TiO2的光学带隙从500℃时的3.98 eV红移到900℃时的3.60eV,随退火温度的升高,吸收边红移,但没有在氮气中明显。3.对比分析在不同基体表面形成的TiO2薄膜的光学性能发现,不同基体对TiO2薄膜的光学性能影响不大,然而,不同的退火气氛对TiO2薄膜光学性能影响较大,在O2气氛下退火由于没有N元素的掺入,光学带隙的变化并不明显;在N2气氛下退火由于N原子替代少量的晶格O原子形成了O-Ti-N化合物,使TiO2薄膜的光学带隙明显降低,TiO2吸收边末端延伸到可见光区,这说明氮的引入,可使TiO2具有可见光活性。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 第一章 绪论
  • 1.1 论文的研究背景和意义
  • 1.2 论文的主要研究内容
  • 1.3 论文的主要研究结果
  • 2薄膜的制备及可见光催化研究进展'>第二章 氮掺杂TiO2薄膜的制备及可见光催化研究进展
  • 2光催化剂的发展及其晶型介绍'>2.1 TiO2光催化剂的发展及其晶型介绍
  • 2光催化剂的发展简介'>2.1.1 TiO2光催化剂的发展简介
  • 2的晶型结构'>2.1.2 TiO2的晶型结构
  • 2的晶相稳定性'>2.1.3 TiO2的晶相稳定性
  • 2的光致特性及应用前景'>2.2 TiO2的光致特性及应用前景
  • 2.2.1 光催化特性
  • 2.2.2 光致超亲水性机理
  • 2的应用前景'>2.2.3 TiO2的应用前景
  • 2掺杂简介'>2.3 TiO2掺杂简介
  • 2的制备方法和可见光催化研究现状'>2.4 TiO2的制备方法和可见光催化研究现状
  • 2'>2.4.1 溅射法制备掺氮TiO2
  • 2.4.2 脉冲激光沉积(PLD)
  • 2.4.3 加热法
  • 2胶体反应'>2.4.4 胺盐与TiO2胶体反应
  • 2.4.5 加热含Ti、N有机前驱体
  • 2.4.6 机械化学法
  • 2.4.7 离子注入法
  • 2.4.8 等离子体处理法
  • 2.4.9 其他制备方法
  • 2制备方法的分析和讨论'>2.5 掺氮TiO2制备方法的分析和讨论
  • 2过程处理与后处理分析'>2.5.1 掺氮TiO2过程处理与后处理分析
  • 掺氮TiO2的制备方法展望'>2.5.2氮TiO2的制备方法展望
  • 2应用前景'>2.6 掺氮TiO2应用前景
  • 2.6.1 可见光催化剂
  • 2.6.2 光自洁玻璃low-e玻璃
  • 2薄膜及其退火效应研究'>第三章 石英玻璃中制备的TiO2薄膜及其退火效应研究
  • 3.1 引言
  • 3.2 实验方法
  • +离子注入'>3.2.1 离子注入技术简介及Ti+离子注入
  • 3.2.2 SRIM 2006模拟
  • 3.2.3 热退火处理
  • 3.2.4 卢瑟福背散射谱(RBS)
  • 3.2.5 X射线光电子能谱(XPS)
  • 3.2.6 透射电子显微分析(TEM)
  • 3.2.7 紫外-可见吸收光谱分析(UV-Vis)
  • 3.3 实验结果及分析讨论
  • 3.3.1 SRIM 2006程序模拟
  • 3.3.2 卢瑟福背散射谱(RBS)分析
  • 3.3.3 X射线光电子能谱分析(XPS)
  • 3.3.4 TEM形貌分析及EDS分析结果及讨论
  • 3.3.5 紫外-可见光吸收分析结果及讨论
  • 3.4 本章小结
  • 2薄膜及其退火效应研究'>第四章 蓝宝石基体中制备的TiO2薄膜及其退火效应研究
  • 4.1 引言
  • 2O3的研究现状及发展'>4.2 单晶α-Al2O3的研究现状及发展
  • 4.3 实验方法
  • 4.4 实验结果和分析讨论
  • 4.4.1 SRIM 2006程序模拟
  • 4.4.2 卢瑟福背散射谱(RBS)分析
  • 4.4.3 X射线光电子能谱分析(XPS)
  • 4.4.4 TEM形貌分析及EDS分析结果及讨论
  • 4.4.5 紫外-可见光吸收分析结果及讨论
  • 4.5 本章小结
  • 第五章 结论
  • 致谢
  • 参考文献
  • 攻硕期间研究成果
  • 相关论文文献

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