基于Si-NPA的ZnO复合体系光电性质研究

基于Si-NPA的ZnO复合体系光电性质研究

论文摘要

多孔硅具有制备工艺简单、发光效率高、后处理与传统硅平面工艺兼容等优点,是目前最好的硅发光材料,在各种硅光电子器件和光电子集成电路(OEIC)等方面具有诱人的应用前景。通过对多孔硅发展历史的深入调研,我们发现,传统电化学腐蚀法制备的多孔硅中一些基本物理性质,例如多孔硅骨架中纳米晶的分布、量子限域对其光电性能的影响、载流子传输过程等,这些问题没有得到很好解决,很多观点还彼此相互矛盾。而搞清楚它们却是改善多孔硅的稳定性和提高硅基LED、光电探测器等光电子器件性能的基础。本文以硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)为衬底,采用化学气相沉积(CVD)法生长了ZnO薄膜,通过对比分析Si-NPA和ZnO/Si-NPA的微观结构、光学性能、电学性能,对Si-NPA的发光性能、肖特基接触结构的载流子传输过程以及其表面阵列结构对ZnO薄膜生长的模板作用等进行了深入讨论,得到如下主要结果:1.Si-NPA的微观结构和载流子传输过程水热腐蚀方法制备的Si-NPA具有三重层次结构,即微米尺度的硅柱组成的规则阵列结构、硅柱的纳米多孔结构以及组成孔壁的硅纳米晶粒。其中,硅纳米晶呈现零维量子点状特征,在TEM图像上显示出了很高的面密度。利用硅纳米晶的化学活性和纳米孔的模板作用,我们在400℃条件下制备了一种Au纳米线和纳米晶粒组成的复合结构体系。对Ag/Si-NPA/Si/Ag二极管结构的电流-电压关系及其与温度关系的测试结果表明,载流子传输过程主要由量子隧穿电流和热电子电流两种机制决定,在高偏压区域,前者发挥主要作用,而在低偏压区域,后者发挥了主要作用。2.ZnO/Si-NPA核壳结构的光学性能以Si-NPA为衬底、用化学气相沉积法制备了具有规则阵列结构特征的ZnO/Si-NPA纳米复合体系。实验结果显示,组成ZnO/Si-NPA阵列的每个柱子均呈现核壳结构。不同于衬底Si-NPA的红光和蓝光发射,ZnO/Si-NPA在紫外光区和蓝绿光区呈现出两个强的宽发光峰。分析表明,紫外光发射应归因于ZnO晶体的带边激子跃迁;而蓝绿光发射则来自于ZnO晶体本征缺陷所形成的两类深能级复合中心上载流子的辐射跃迁。3.Zno多晶薄膜的电学性能采用化学气相沉积在Si-NPA衬底上生长了一种多晶氧化锌薄膜。研究表明,如此制备的氧化锌薄膜由平均尺寸为~10μm的氧化锌晶粒紧密堆砌而成。四电极法测量出ZnO/Si-NPA的面电阻率为~8.9Ω·cm。对ZnO/Si-NPA纵向Ⅰ-Ⅴ曲线的实验测量和理论分析表明,ZnO/Si-NPA异质结中载流子的传输过程有两种机制:在较高的电压区域由热电子发射机制主导,而在较低的电压区域由量子隧穿机制主导。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 第一章 导论
  • 1.1 引言
  • 1.2 多孔硅的发展历史和研究进展
  • 1.2.1 多孔硅的发展历史和物理性能
  • 1.2.2 PS基光电子器件的研究进展
  • 1.2.2.1 发光二极管(LED)
  • 1.2.2.2 光波导
  • 1.2.2.3 全硅光电集成电路(OEIC)
  • 1.3 PS基复合材料的研究进展
  • 1.3.1 PS基金属复合材料
  • 1.3.2 PS基半导体复合材料
  • 1.3.2.1 氧化锌的物理性能和研究现状
  • 1.3.2.2 PS基氧化锌复合材料
  • 1.4 本文开展的主要工作
  • 第二章 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)的光电特性
  • 2.1 引言
  • 2.2 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)的制备
  • 2.3 Si-NPA的表面形貌和结构表征
  • 2.4 Si-NPA的光学性能
  • 2.4.1 Raman光谱
  • 2.4.2 近红外-可见-紫外(IR-VIS-UV)吸收光谱
  • 2.4.3 Si-NPA的光致发光谱
  • 2.4.4 Si-NPA的电子能带结构
  • 2.5 Si-NPA的电学性能
  • 2.5.1 制备电极
  • 2.5.2 Ag/Si-NPA/Si/Ag的电流-电压(Ⅰ-Ⅴ)关系
  • 2.5.3 不同温度下的Ag/Si-NPA/Si/Ag的电流-电压关系
  • 2.5.4 Ag/Si-NPA/Si/Ag的能带结构
  • 2.6 基于Si-NPA模板的金纳米复合结构
  • 2.6.1 制备过程
  • 2.6.2 结构表征
  • 2.6.3 Au纳米复合结构的生长机理
  • 2.6.4 光学性能
  • 2.6.4.1 UV-Vis吸收光谱
  • 2.6.4.2 Raman光谱
  • 2.7 本章小结
  • 第三章 Si-NPA基ZnO薄膜的制备和光电性质
  • 3.1 引言
  • 3.2 ZnO薄膜的制备和条件优化
  • 3.2.1 ZnO薄膜的制备
  • 3.2.2 不同条件下制备样品的表面形貌
  • 3.3 核壳结构的ZnO/Si-NPA的光电性能
  • 3.3.1 结构表征
  • 3.3.1.1 X射线衍射谱(XRD)
  • 3.3.1.2 ZnO/Si-NPA的SEM结果
  • 3.3.1.3 透射电镜(TEM)结果
  • 3.3.2 ZnO/Si-NPA核壳结构的生长机理
  • 3.3.3 光学性质
  • 3.3.3.1 Raman光谱
  • 3.3.3.2 光致发光(PL)特征
  • 3.3.3.3 发光机理研究
  • 3.4 生长在Si-NPA上的ZnO厚膜的性质
  • 3.4.1 结构表征
  • 3.4.1.1 XRD表征
  • 3.4.1.2 表面形貌
  • 3.4.2 ZnO/Si-NPA的电学性质
  • 3.4.2.1 ZnO薄膜的电阻率测试
  • 3.4.2.2 ZnO/Si-NPA/Si的电流-电压关系
  • 3.5 本章小结
  • 第四章 结论
  • 参考文献
  • 附录
  • 致谢
  • 相关论文文献

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