纯氮气氛论文-李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬

纯氮气氛论文-李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬

导读:本文包含了纯氮气氛论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献,主要关键词:活性屏离子渗氮,铁-氮化合物,离子渗氮机理

纯氮气氛论文文献综述

李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬[1](2010)在《纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮试验》一文中研究指出铁-氮化合物微粒被认为是活性屏离子渗氮过程中活性氮原子的主要输运载体,试验采用既不吸附氮也不与氮反应生成化合物的铜制活性屏和纯氮气氛,在没有铁-氮化合物微粒的情况下,对45钢试样进行渗氮处理。结果表明,在此条件下,45钢存在渗氮层,渗氮过程除依托铁-氮化合物输运外,活性氮原子还有其它重要的不可忽视的输运方式。(本文来源于《金属热处理》期刊2010年09期)

李孔军,刘锦云,金应荣[2](2010)在《纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮的研究》一文中研究指出采用铜制活性屏,在纯氮气氛下,对45钢进行活性屏(ASPN)离子渗氮处理,并对渗层的组织结构,渗层厚度等进行了分析。结果表明在没有以铁氮化合物作为载体的情况下对试样依然能进行渗氮操作。本文对渗层表面利用XRD进行物相分析,发现表面有相当数量的铁氮化合物生成,并探讨了活性屏离子渗氮的机理。(本文来源于《第八届全国表面工程学术会议暨第叁届青年表面工程学术论坛论文集(六)》期刊2010-04-25)

张勇,赵慧丽,朱彦军,赵程[3](2008)在《纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素》一文中研究指出利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理,对渗氮层的硬度、深度、组织结构以及收集粒子的形貌、结构等进行了分析研究。结果表明,电压较低时,Fe主要与O结合生成大量的氧化铁而不能进行ASPN处理,氧起主导作用;只有在电压较高、Fe与N的结合能力较强时才主要生成吸附大量活性氮原子的氮化铁进行ASPN处理。(本文来源于《热加工工艺》期刊2008年16期)

赵慧丽,赵程,孙定国[4](2005)在《纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究》一文中研究指出在纯氮气氛中,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对 38CrMoAl钢进行了离子渗氮处理,并对渗层的组织结构、硬度、深度等进行了分析。结果表明,只有直流辉光放电电压高于 800V时,在纯氮气氛中才能进行活性屏离子渗氮处理。通过对等离子放电空间的粒子进行XRD分析发现,放电电压低于 800V时,沉积在基材表面的粒子主要是氧化铁(Fe3O4 );放电电压高于 800V时,沉积在基材表面的粒子才是能进行活性屏离子渗氮处理的铁的氮化物(ε、γ′)。(本文来源于《金属热处理》期刊2005年03期)

名仓敏雄[5](1980)在《供氮方式和纯氮基气氛的热处理》一文中研究指出一、采用空气分离法制造氧气、氮气众所周知,地球上的大气是由大约78%的氮气、21%的氧气和1%的氩气所组成,我们能在这种气氛中舒适地生活,说明这种谐调的混合比是多么巧妙。(本文来源于《国外化学热处理》期刊1980年01期)

纯氮气氛论文开题报告

(1)论文研究背景及目的

此处内容要求:

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例:

采用铜制活性屏,在纯氮气氛下,对45钢进行活性屏(ASPN)离子渗氮处理,并对渗层的组织结构,渗层厚度等进行了分析。结果表明在没有以铁氮化合物作为载体的情况下对试样依然能进行渗氮操作。本文对渗层表面利用XRD进行物相分析,发现表面有相当数量的铁氮化合物生成,并探讨了活性屏离子渗氮的机理。

(2)本文研究方法

调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

纯氮气氛论文参考文献

[1].李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬.纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮试验[J].金属热处理.2010

[2].李孔军,刘锦云,金应荣.纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮的研究[C].第八届全国表面工程学术会议暨第叁届青年表面工程学术论坛论文集(六).2010

[3].张勇,赵慧丽,朱彦军,赵程.纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素[J].热加工工艺.2008

[4].赵慧丽,赵程,孙定国.纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究[J].金属热处理.2005

[5].名仓敏雄.供氮方式和纯氮基气氛的热处理[J].国外化学热处理.1980

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