论文摘要
近年来,镁合金由于诸多优点而越来越受到重视,其产品得到了较为广泛的应用,特别是在电子行业。但是其差的耐蚀性一直是影响其发挥优势的主要因素。目前,改善镁合金耐蚀性的主要方法是表面处理,形成保护层。本文利用TEM、SEM、DSC、GDA、盐雾腐蚀试验机、电化学测量仪等手段,系统地研究了压铸镁合金AZ91D直接化学镀镍磷的工艺和组织结构,并对镀层的使用性能进行了评价。得出以下主要结论: 1.镁合金化学镀选用中磷(6.22 wt%)镀层,其镀态组织为非晶+少量纳米晶。施镀120min,镀层平均厚度为18.5μm。弯曲试验显示,镀态下镀层与基体结合良好。 2.镁合金基体上化学镀沉积过程分两步:首先是金属镍离子与基体发生电化学反应所产生的电子结合而还原析出,然后,随着镍形核数量的增多和长大,有自催化能力的镍层产生,镍磷共沉积随之开始。 3.含磷6.22wt%镍磷镀层的初始晶化温度为300℃,450℃晶化过程完成。晶化过程可分为3个阶段,原子的短程扩散和
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