本文主要研究内容
作者周洋,伏文,周灿,于洋,刘青华,鲁道荣（2019）在《黄铜表面硅烷膜制备工艺的正交试验优选及膜层的耐蚀性能》一文中研究指出：为提高黄铜制品的耐蚀性能,在黄铜表面制备硅烷膜,运用正交试验法优选了形成γ-巯丙基三甲氧基硅烷(γ-MPS)膜的工艺条件,通过对比各水解条件下成膜试样在3.5%NaCl溶液中的塔菲曲线获得了最佳浸涂工艺条件,运用阳极极化曲线、交流阻抗法和扫描电镜表征了制备的硅烷膜对黄铜基底的防护性能。结果表明:成膜最佳工艺条件为γ-MPS∶去离子水∶乙醇(体积比)=4.0∶46.5∶2.5,水解溶液p H=6.0、水解时间4.5 h、水解温度40℃、浸涂时间80 min、浸涂温度40℃、固化时间30 min、固化温度80℃;该条件下制备的黄铜表面硅烷膜在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性能。
Abstract
wei di gao huang tong zhi pin de nai shi xing neng ,zai huang tong biao mian zhi bei gui wan mo ,yun yong zheng jiao shi yan fa you shua le xing cheng γ-qiu bing ji san jia yang ji gui wan (γ-MPS)mo de gong yi tiao jian ,tong guo dui bi ge shui jie tiao jian xia cheng mo shi yang zai 3.5%NaClrong ye zhong de da fei qu xian huo de le zui jia jin tu gong yi tiao jian ,yun yong yang ji ji hua qu xian 、jiao liu zu kang fa he sao miao dian jing biao zheng le zhi bei de gui wan mo dui huang tong ji de de fang hu xing neng 。jie guo biao ming :cheng mo zui jia gong yi tiao jian wei γ-MPS∶qu li zi shui ∶yi chun (ti ji bi )=4.0∶46.5∶2.5,shui jie rong ye p H=6.0、shui jie shi jian 4.5 h、shui jie wen du 40℃、jin tu shi jian 80 min、jin tu wen du 40℃、gu hua shi jian 30 min、gu hua wen du 80℃;gai tiao jian xia zhi bei de huang tong biao mian gui wan mo zai 3.5%NaClrong ye zhong ju you liang hao de nai shi xing neng 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料保护的周洋,伏文,周灿,于洋,刘青华,鲁道荣，发表于刊物材料保护2019年02期论文，是一篇关于巯丙基三甲氧基硅烷论文,黄铜论文,正交试验论文,水解工艺论文,耐蚀性能论文,材料保护2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料保护2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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